導讀:比美國還絕!日本下狠手想讓光刻機變廢鐵,我國反手一擊
在全球科技競爭的激烈舞臺上,半導體產業無疑是最為關鍵的一塊拼圖,它猶如現代工業的“心臟”,驅動著各個領域的創新與發展。然而,近年來,以美國為首的部分國家,出于遏制中國科技崛起的私心,不斷在半導體領域對中國發起圍堵。而日本,這個曾經的科技強國,緊跟美國步伐,甚至在某些方面比美國更為決絕,妄圖通過一系列手段鎖死中國科技發展的咽喉。但中國并未在封鎖中屈服,而是以堅韌不拔的毅力和自主創新的精神,走出了一條逆襲之路。
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日本對華半導體出口管制,可謂是一波未平一波又起。其不僅將中國28個實體列入管制范圍,還試圖通過停止高端光刻膠出口,讓中國斥巨資購置的光刻機淪為“高級廢鐵”。這種行徑,無疑是對中國半導體產業根基的惡意撬動。
美國在半導體領域的封鎖,主要聚焦于“增量”部分。它限制中國獲取最先進的EUV光刻機,封鎖高端設計軟件,其目的在于阻止中國在半導體尖端技術上取得突破。這種封鎖雖然嚴厲,但也在一定程度上為中國指明了方向,讓我們清楚哪些關鍵技術必須依靠自身力量去攻克。而日本的做法則更為“陰險”,它把目光投向了“存量”,試圖直接扼住中國現有半導體產業鏈的咽喉。28納米及以上成熟制程,是支撐汽車、電子、工業制造等眾多領域的核心技術,日本妄圖通過封鎖,讓中國已經建成的產線逐漸陷入停滯甚至報廢的境地。
光刻膠,這個在芯片制造成本中占比約12%的關鍵材料,成為了日本手中的“殺手锏”。全球光刻膠供應幾乎被日本企業壟斷,總體產能超過90%,7納米以下的EUV光刻膠更是完全被其掌控。在這種關鍵材料上被卡脖子,日本自以為有了肆無忌憚的資本,可以隨心所欲地對中國半導體產業進行打壓。
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然而,日本低估了中國企業的韌性和創新能力。面對封鎖,中國企業迅速進入“求生模式”,在逆境中奮起直追。在光刻機領域,中國企業自主研發的28納米浸沒式DUV光刻機取得了重大突破,進度比預期更快,已經達到量產水平。這一成果,不僅打破了國外在光刻機領域的技術壟斷,更為中國半導體產業的發展提供了堅實的設備支撐。
在光刻膠方面,國內企業同樣不甘示弱。以南大光電為例,它憑借著頑強的拼搏精神和創新驅動的發展理念,將過去需要三五年才能完成的工藝驗證,硬是壓縮到了一年半。而且,其研發出的光刻膠關鍵指標完全不輸日本產品,成功打破了日本在光刻膠市場的長期壟斷。這一系列成就的取得,標志著中國在半導體關鍵材料領域實現了從依賴進口到自主可控的重大轉變。
日本的封鎖,不僅沒有達到遏制中國半導體產業發展的目的,反而讓自己陷入了困境。禁令實施后,日企訂單直線下滑。2024年財報顯示,尼康的半導體設備業務收入下跌了18%,東京威力科創對華銷售額更是下滑了22%。曾經憑借技術壟斷享受紅利的日本企業,如今卻因自己的短視行為遭受反噬,市場份額不斷流失。
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中國在半導體領域的逆襲,不僅僅是一場技術層面的勝利,更是一種精神層面的彰顯。它向世界證明,中國擁有自主創新的能力和決心,任何企圖通過封鎖打壓來遏制中國發展的行為,都注定是徒勞的。在未來的科技競爭中,中國將繼續堅持自主創新道路,加大研發投入,培養更多高端人才,不斷完善半導體產業鏈。我們有理由相信,隨著中國半導體產業的不斷發展壯大,中國必將在全球科技舞臺上占據更加重要的地位,為人類科技進步做出更大的貢獻。而日本,若繼續執迷不悟,跟隨美國進行無理封鎖,最終受損的只會是自己,在科技發展的浪潮中被遠遠甩在身后。
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