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“破釜沉舟,背水一戰”這句話來形容英特爾近期的動作,或許再合適不過。
3月13日,英特爾宣布,董事會已任命陳立武(Lip-Bu Tan)為公司新任首席執行官,該任命自3月18日起生效。他將接替臨時聯合首席執行官大衛?辛斯納(David Zinsner)和米歇爾?約翰斯頓?霍爾索斯(Michelle Johnston Holthaus)的工作。
2022年,英特爾聘請陳立武加入董事會,當時英特爾IDM2.0戰略如火如荼,陳立武的加入,助力英特爾重振。隨后在2023年,他還被董事會擴大職責,被授權監督制造營運。
2024年8月,陳立武曾辭去董事會職務,而隨著此次任命生效,他將重新回歸并接任CEO一職。該舉動,可謂是“老將出馬”。
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圖源:Google
然而,陳立武回歸,無疑是英特爾(Intel)在關鍵時刻打出的一張“王牌”;同時,這也是Intel成立57年來,史上第一位華人CEO。
英特爾官網顯示,陳立武擁有超過20年的半導體和軟件經驗。他曾于2009年至2021年擔任Cadence Design Systems的首席執行官。目前擔任Credo Technology Group和施耐德電氣的董事會成員。
其中,陳立武以投資人身份進入半導體行業,隨后成為Cadence的董事會成員,并最終升任首席執行官。2017年,他被評為科技業人脈最廣的高管,2022年獲得了半導體界的最高榮譽——羅伯特·N·諾伊斯獎。
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其次,陳立武主張將英特爾打造成“世界一流代工廠”,這與英特爾當前加強芯片制造業務的戰略一致。他在半導體供應鏈及代工生態中的廣泛人脈,有助于英特爾拓展客戶和合作伙伴關系,如與臺積電、NVIDIA等公司合作的談判等。
不難發現,盡管陳立武執掌英特爾面臨諸多挑戰,但英特爾能否借此破局重生,晶圓代工仍是未知之數。
眾所周知,英特爾于2021年宣布重返晶圓代工領域,計劃2030年超越三星,成為全球第二大晶圓代工廠商。
2024年 2 月,英特爾 CEO 帕特·基辛格(Pat Gelsinger)在接受采訪時口出驚人地說到:我將整個公司都押注在 18A 上。
與此同時,作為英特爾原本“四年五個節點”計劃的最后一環,18A 節點自始至終都是英特爾 IDM 2.0 戰略轉型過程中核心關鍵。甚至,隨著 Intel 20A 從轉向內部代工到官宣取消,Intel 18A 節點的重要性還在進一步地提高。
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今年2 月,英特爾在ISSCC 2025上,英特爾更新了其半導體 Foundry 相關頁面的介紹,并宣布其“四年五個節點”(現在是四個節點了)計劃中最后也是較為重要的 Intel 18A 工藝準備就緒,計劃于今年上半年開始流片。
另外,英特爾展示了此次成果,稱SRAM位單元尺寸將從Intel 3工藝的0.03μm2縮小到Intel 18A工藝的0.023μm2,HDC也顯示出類似的改進,縮小到0.021μm2,取得了不錯的進步。相比之下,臺積電N5、N3B和N2工藝的SRAM位單元大小分別為0.021μm2、0.0199μm2和0.0175μm2。
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值得一提的是,英特爾在Intel 18A引入了PowerVia背部供電技術,是其解決處理器邏輯區域電壓下降和干擾的首選方法,相較于 Intel 3 工藝密度提升 30%、單位功耗性能提升 15%。該技術,采用了“環繞陣列”方案,戰略性地將PowerVias應用于 I/O、控制和解碼器元件,同時優化了位單元設計,而無需正面供電。
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這也意味著,18A 制程的成熟標志英特爾 IDM 2.0 戰略的重大突破,或將被視為英特爾代工服務(IFS)重鑄往日榮光的關鍵信號,對于已經退休的英特爾前 CEO Pat Gelsinger 來說無疑是好消息。
因此,臺積電和三星在先進制程領先地位已十分穩固,英特爾18A工藝面臨臺積電和三星的競爭,特別是在4納米和5納米制程上,臺積電的占有率已超過60%。
簡而言之,陳立武的上任并非萬能解藥,英特爾面臨的挑戰不僅僅是技術問題,而是整個行業的格局變化。
由于篇幅受限,本次的英特爾18A工藝就先介紹這么多......
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最后的最后,借由溫斯頓·丘吉爾的一句名言:
堅持不是永不失敗,而是永不言棄。
愿每一位半導體從業者可以——
行百里者半九十!
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