導讀:日本落井下石,國產光刻膠,到底與日本還有多大差距?
光刻膠作為光刻環節的關鍵耗材,與光刻機、光掩膜并稱為“光刻三劍客”。光刻膠在顯影液中的動態表現,直接影響著電路繪制的精準度與質量。需知,光刻膠哪怕僅有1%的良率波動,都可能導致數千萬美元的損失。
長期以來,全球光刻膠產業一直處于日本企業的壟斷之下。像日本的東京應化工業(TOK)、合成橡膠(JSR)、信越化學、富士膠片等企業,它們合計占據了全球75%以上的市場份額,在高端極紫外(EUV)光刻膠領域的占比更是高達96.7%。
不過,隨著中國光刻膠技術的不斷發展,日本企業的壟斷地位正面臨著嚴峻挑戰。《日本經濟新聞網》曾報道稱:“我們的市場份額正在被中國企業逐步蠶食。”那么國產光刻膠,到底與日本還有多大差距?
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其實,中國半導體產業正在學習日本的發展模式。
當初,日本索尼從美國西方電氣公司購買了晶體管的專利授權,開發出的索尼TR-55型號的微型收音機在日本國內外引起搶購,拉開了日本半導體產業的序幕。
日立、三菱、富士通、東芝、NEC五大公司聯合日本科學家攻克電子束裝置和微縮曝光裝置、可變尺寸電子束裝置、掃描裝置和復印裝置、基礎材料等技術,在日本建立了半導體全產業鏈。后期日本兩度受到美方壓制,依然靠著供應鏈優勢繼續在芯片產業上擴張。
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當下,中國半導體產業在借鑒日本發展經驗的基礎上,憑借官方資源與基金的支持,著力推動從上游原材料供應至后端制造的全產業鏈發展,并重點扶持了中芯國際、長江存儲、中微半導體等行業領軍企業。
相關產業統計數據表明,2023年中國光刻膠市場規模約達109.2億元,至2024年已突破114億元。在股票市場中,A股相關企業股價屢創新高,中芯國際股票迎來漲停潮,寒武紀股價在三個月內實現翻倍增長。這一發展態勢,似是印證了“師夷長技以制夷”的理念。
除光刻膠等產品領域外,中國大硅片產業亦逐步打破了日本企業的市場壟斷局面。當前,市場上95%的多晶硅以及96%的光伏硅片產能,均由中國企業供應。
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今年,在美方對我國科技領域進行多方圍追堵截之時,日方做出“落井下石”之舉,突然宣布對我國實施極紫外(EUV)光刻膠出口管制。實事求是而言,我國目前在光刻膠領域的優勢主要集中在中端市場,高端EUV光刻膠對于我國來說,仍是頗具挑戰的難關。
面對日方這種不友好的舉動,我方充分發揮智慧,選擇“換道突圍”的策略。武漢太紫微的T150A光刻膠,憑借自創的“分子烘焙法”巧妙繞開了日本專利。該光刻膠在中芯國際28納米產線上表現卓越,芯片良率從89%一路提升至93.7%,以實實在在的數據證明了技術上的突破。
學界也傳來令人欣喜的消息:北京大學彭海琳教授團隊運用冷凍電鏡技術,成功減少了光刻缺陷,為光刻膠材料研發開辟了新的途徑。清華大學團隊的“量子點光刻膠”已申請國際專利。這表明我們不再僅僅是追趕者,也在積極開創屬于自己的技術路線。
歷史早已證明,技術封鎖或許能夠在一定程度上延緩我國技術發展的進程,但無法磨滅中國突破重重桎梏的堅定決心。正如華為任總所言:“我們走在無人區,前面沒有燈塔,但我們可以成為自己的燈塔。”
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