日本生產(chǎn)占全球90%，斷供下中國如何應(yīng)對及他國生產(chǎn)困境

一滴感光膠水，正卡住中國芯片產(chǎn)業(yè)的脖子！

大家可能都經(jīng)歷過手機卡頓想換芯片、汽車缺芯提車要等的煩惱，但很少有人知道，造芯片離不開一種叫做光刻膠的關(guān)鍵材料，而全球90%的光刻膠，都掌握在日本手里。

這玩意兒雖然聽起來陌生，但它比光刻機更狠地卡著我們的脖子，一旦斷供，咱們的芯片產(chǎn)線可能隨時停擺。

那么，為什么別國就是造不出來？中國又藏著什么破局的妙招呢？

光刻膠被譽為“微納世界的畫家”，這種高精度的制作技術(shù)，使得現(xiàn)代電子產(chǎn)品中的集成電路能夠?qū)崿F(xiàn)高復(fù)雜度和高集成度！

日本在光刻膠領(lǐng)域的這一絕對主導(dǎo)地位，意味著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的源頭，某種程度上掌握在其手中，這種難以撼動的領(lǐng)導(dǎo)地位，并非短時間內(nèi)所能建立，而是長達數(shù)十年技術(shù)積淀的成果。

早在20世紀五六十年代，日本半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)便隨著國內(nèi)電子行業(yè)的蓬勃需求開始萌芽并快速成長，到了七八十年代，一個具有決定性意義的舉措，由政府主導(dǎo)推動的“VLSI（超大規(guī)模集成電路）項目”得以實施。

該項目匯聚了國家與產(chǎn)業(yè)的共同力量，聚焦核心技術(shù)進行集中攻關(guān)，最終成功突破了一系列技術(shù)瓶頸，為日本日后成為全球半導(dǎo)體材料強國奠定了堅實的基礎(chǔ)！

光刻膠的工作原理是在紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射下，發(fā)生聚合或解聚反應(yīng)，把圖案留在硅片上，它由三種成分組成，感光樹脂、增感劑和溶劑。

光刻膠對純度要求近乎苛刻，配方里哪怕多了一丁點兒雜質(zhì)，或者成分稍作調(diào)整，都會影響光刻機幾十納米精度的成像效果。

光刻膠不是一個標準化的產(chǎn)品，而是需要與芯片制造工藝深度適配，日本光刻膠企業(yè)在晶圓生產(chǎn)的初期就介入進來，聯(lián)合研發(fā)，開發(fā)出適配于晶圓廠專門要求的光刻膠。

后續(xù)實現(xiàn)生產(chǎn)時，光刻膠跟晶圓廠的光刻機和生產(chǎn)條件高度匹配，專品專用，不可替代！

然而光刻膠是消耗品，庫存有限（通常只有1-3個月），一旦庫存耗盡，沒有光刻膠就無法進行光刻工藝，整個芯片生產(chǎn)線將被迫中斷，所以短期內(nèi)，中國可能采動用一切庫存和戰(zhàn)略儲備，優(yōu)先保障國防、關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施等領(lǐng)域的芯片生產(chǎn)。

全力尋找非日系的次要供應(yīng)商，比如韓國（如東進世美肯）、美國（陶氏）等地的光刻膠！

長期來看，根本出路在于實現(xiàn)光刻膠的自主可控，中國政府和企業(yè)其實早就意識到光刻膠的重要性，中國在光刻膠領(lǐng)域并非從零開始，這幾年已經(jīng)有一批企業(yè)在奮力追趕。

南大光電在ArF光刻膠上取得了突破，并實現(xiàn)小批量銷售，這是目前國內(nèi)在高端光刻膠領(lǐng)域最前沿的進展之一，晶瑞電材和彤程新材在KrF光刻膠上已實現(xiàn)量產(chǎn)！

在科研領(lǐng)域，我國學(xué)者也取得了不少突破，最近，清華大學(xué)化學(xué)系許華平團隊基于聚碲氧烷開發(fā)出一種全新的EUV光刻膠。

今年10月，中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域迎來了一項關(guān)鍵性突破，我國首個《極紫外（EUV）光刻膠測試方法》標準正式作為擬立項標準開始公示。

這不僅僅是一紙文件的發(fā)布，它標志著我們在攻克高端芯片制造“卡脖子”難題的道路上，又邁出了堅實且至關(guān)重要的一步。

此次擬立項的標準，正是為了徹底扭轉(zhuǎn)這一被動局面，它的核心使命，就是要填補國內(nèi)在該領(lǐng)域長期存在的技術(shù)標準空白。

這套方法就像一把精密而公正的“尺子”，將為國產(chǎn)乃至全球范圍內(nèi)的EUV光刻膠產(chǎn)品，提供一套科學(xué)、統(tǒng)一、可復(fù)現(xiàn)的性能評價標尺，從分辨力、敏感度、線邊緣粗糙度到抗刻蝕性能，所有關(guān)鍵指標都將在這把“尺子”的衡量下現(xiàn)出真章。

國產(chǎn)光刻膠的進展，已經(jīng)不是簡單的別人有啥我造啥，而是在重構(gòu)整個半導(dǎo)體生態(tài)，以前的模式是設(shè)備廠管設(shè)備，材料廠管材料，互相不搭界，現(xiàn)在不一樣了，設(shè)備廠、材料廠、晶圓廠開始抱團，連高校的實驗室都直接接入產(chǎn)業(yè)鏈！

這種生態(tài)級的磨合，才是國產(chǎn)替代最有價值的地方，一旦設(shè)備和材料之間形成新的標準和默契，這種技術(shù)壁壘，別人想攻破都難！

如今，中國在低端制程和晶圓產(chǎn)能上的擴張速度，位居前列，年增長率都超過10%。

這么大的產(chǎn)能，就像一個巨大的練兵場，通過中低端芯片的海量出貨，企業(yè)能賺夠錢反哺高端研發(fā)，同時用成熟制程的生產(chǎn)線，不斷打磨國產(chǎn)光刻膠的適配性。