時(shí)隔14年推出新款光刻機(jī)，日本這家廠商意圖打壓我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展？

光刻機(jī)是芯片制造的“心臟”，全球能造前道光刻機(jī)的廠商屈指可數(shù)，僅荷蘭的ASML、日本的尼康和佳能，以及我國(guó)的上海微電子。

在這四家廠商中，ASML是絕對(duì)的霸主。它不僅壟斷了最頂尖的EUV光刻機(jī)，還在高端DUV領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位。數(shù)據(jù)顯示，ASML全球光刻機(jī)市場(chǎng)份額高達(dá)82.1%，佳能占10.2%，尼康占7.7%。

尼康雖然市場(chǎng)份額不如ASML，但技術(shù)實(shí)力不容小覷，是少數(shù)能生產(chǎn)部分浸潤(rùn)式光刻機(jī)的廠商之一。相比之下，佳能和上海微電子的技術(shù)路線更為接近，兩者目前都主要聚焦于ArF干式光刻機(jī)，尚未跨入浸潤(rùn)式光刻的門(mén)檻。

一、 時(shí)隔14年，佳能推出新款光刻機(jī)

近日，佳能宣布將升級(jí)其KrF光刻機(jī)，并計(jì)劃更新ArF設(shè)備。這一動(dòng)作之所以引發(fā)行業(yè)關(guān)注，是因?yàn)榧涯茉诔墒旃に囋O(shè)備上已經(jīng)整整14年沒(méi)有進(jìn)行大的更新?lián)Q代了。

佳能為何選擇在此時(shí)“蘇醒”？這與其獨(dú)特的市場(chǎng)定位有關(guān)。雖然佳能的技術(shù)不如ASML先進(jìn)，但它憑借在i-line、KrF等成熟工藝出貨量非常大。據(jù)悉，佳能近幾年的出貨量份額達(dá)到32.7%，接近ASML的一半，遠(yuǎn)高于尼康的4.7%。佳能的設(shè)備主要應(yīng)用于汽車(chē)芯片、家電芯片、傳感器芯片等不需要最先進(jìn)制程的領(lǐng)域，這些市場(chǎng)對(duì)設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性要求極高，佳能憑借多年的積累贏得了大量訂單。

然而，隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的變化，佳能也面臨著新的挑戰(zhàn)。一方面，美方的關(guān)稅政策的影響導(dǎo)致其成本上升，客戶投資意愿下滑，佳能不得不下調(diào)光刻機(jī)銷(xiāo)量目標(biāo)。另一方面，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的崛起，特別是上海微電子的快速發(fā)展，讓佳能感受到了壓力。

二、 是打壓還是居安思危？佳能的真實(shí)意圖

對(duì)于佳能時(shí)隔14年推出新款光刻機(jī)，有人認(rèn)為這是日本廠商意圖打壓我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展。畢竟，上海微電子和佳能的業(yè)務(wù)高度重疊，兩者都在爭(zhēng)奪成熟工藝市場(chǎng)。

但在我看來(lái)，將佳能的動(dòng)作簡(jiǎn)單解讀為“打壓”可能過(guò)于片面。更合理的解釋是，佳能這是在“居安思危”。為什么這樣說(shuō)呢？我們簡(jiǎn)單的分析一下。

從市場(chǎng)數(shù)據(jù)來(lái)看，上海微電子近年來(lái)進(jìn)步神速。雖然整體國(guó)產(chǎn)化率僅為2.5%，但上海微電子在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的份額已經(jīng)超過(guò)80%，并且已經(jīng)具備90nm及以下的芯片制造能力。并且上海微電子更是實(shí)現(xiàn)了28nm浸沒(méi)式光刻機(jī)技術(shù)的突破，雖然目前仍處于“實(shí)驗(yàn)室”階段，但這一突破標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)已經(jīng)可以和佳能同臺(tái)競(jìng)技了。

除此之外，佳能雖然在全球市場(chǎng)份額不低，但主要依賴(lài)成熟工藝市場(chǎng)。隨著上海微電子等國(guó)產(chǎn)廠商的崛起，佳能的市場(chǎng)份額正在受到侵蝕。如果佳能繼續(xù)“躺平”，不進(jìn)行技術(shù)升級(jí)和產(chǎn)品迭代，很可能會(huì)被我國(guó)廠商逐步取代。

因此，佳能選擇在此時(shí)推出新款光刻機(jī)，更像是一種市場(chǎng)防御策略。它希望通過(guò)提升設(shè)備性能、降低生產(chǎn)成本，來(lái)鞏固自己在成熟工藝市場(chǎng)的地位，抵御來(lái)自我國(guó)廠商的競(jìng)爭(zhēng)壓力。

三、 寫(xiě)在最后

佳能時(shí)隔14年推出新款光刻機(jī)，既是市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的必然結(jié)果，也是全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局變化的縮影。對(duì)于我國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)而言，這既是一次挑戰(zhàn)，也是一次機(jī)遇。

挑戰(zhàn)在于，佳能作為老牌廠商，在技術(shù)積累、市場(chǎng)渠道等方面仍有優(yōu)勢(shì)，其新款光刻機(jī)可能會(huì)對(duì)上海微電子等國(guó)產(chǎn)廠商造成一定的競(jìng)爭(zhēng)壓力。機(jī)遇在于，競(jìng)爭(zhēng)能夠推動(dòng)技術(shù)進(jìn)步，佳能的動(dòng)作也提醒我們，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)不能止步于現(xiàn)狀，必須加快技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品迭代，才能在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中立于不敗之地。

未來(lái)，隨著我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有望在成熟工藝市場(chǎng)進(jìn)一步擴(kuò)大份額，并逐步向高端領(lǐng)域突破。而佳能等國(guó)際廠商，也將不得不面對(duì)來(lái)自我國(guó)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的挑戰(zhàn)。這場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，最終將推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級(jí)。