荷蘭媒體：中國囤積的光刻機，用5-10年不是問題，國產仍任重道遠

文/王新喜

中國自主光刻機走到哪一步了，是全世界都很好奇的一件事。最近一家荷蘭科技媒體突然發了篇報道，標題直接點名主旨——中國囤積的光刻機，哪怕接下來甚至完全不買，用個5到10年都完全不是問題。這篇報道釋放的信號，就是中國光刻機依然依賴ASML，國產光刻機仍任重道遠。

全球的芯片的大規模量產，是依賴光刻機這種芯片制造基礎設備，全球只有4家廠商，荷蘭ASML是全球光刻技術的領導者，一家壟斷全球80%以上市場，最先進的EUV光刻機，只有它一家能夠生產，獨家壟斷了100%市場份額，要造7nm及以下芯片制造，都離不開它的EUV。

而中國的水平落后ASML至少是10年以上，所以過去中國一直大量從ASML進口光刻機。

為了不讓中國制造出先進的芯片，美國先是不讓ASML的EUV光刻機向中國出口，后來連浸潤式DUV里的高端型號也開始設限。按照ASML那邊被迫執行的說法，能賣給中國的產品，技術上得落后個一代甚至更多。

那么即便在這種情況下，根據荷蘭媒體報道，在2023年、2024年這兩年，中國一直是ASML的最大買家，中國最高時購買的光刻機金額，占到了ASML的40%以上，這兩年購買的光刻機，比以往5年還要多。

事實上，荷蘭ASML近期的財報也佐證了這點。近日，ASML發布了2025年四季度，以及全年的業績報告。2025年這一年，ASML營收高達327億歐元，同比增長16%，而凈利潤高達96億歐元，同比增長27%。

數據顯示，一季度ASML我光刻系統銷售額是57億歐元，中國占比27%。二季度是56億歐元銷售額，中國占比25%。三季度是56億歐元銷售額，中國占比42%，四季度是76億歐元銷售額，中國占比36%。

算下來，2025年，ASML327億歐元總收入中，賣光刻機的收入合計為245億歐元左右，而中國買走的光刻機金額高達80.1億歐元，合計占到所有光刻機銷售的33%。

從占比來看，中國大陸依然是ASML光刻機的最大買家，沒有之一，這個比例超過了中國臺灣，韓國、美國等市場。并且在2025年，中國購買的光刻機雖然數量減少了，均價明顯提升，說明購買的更多聚焦在高端一點的浸潤式光刻機上面。

目前中國已經囤積了足夠多的浸潤式光刻機，而這些浸潤式光刻機，在采用多重曝光之后，實際上能制造的芯片，能達到5nm工藝了。

那么從中國大規模囤購ASML光刻機來看，背后透露了幾個事實與真相。

其一，目前中國光刻機依然在艱難突圍，依然需要時間。從囤購的光刻機數量來看，也就是說預留了5~10年時間來突破光刻機的關鍵技術，為接下來可能的持久戰囤積糧草。加上目前正在大規模的建芯片工廠，提高芯片產能，而ASML幾乎是唯一的光刻機選擇。

光刻機它是一個工業體系的皇冠，尤其是EUV光刻機。ASML的EUV光刻機里有10萬個零件，來自全球5000多家供應商，蔡司的鏡頭、美國的電源、德國的機械自動化，這是全球化時代的巔峰產物。

EUV光源、蔡司光學鏡頭和日本的光刻膠，形成了一個穩固的“技術壁壘鐵三角”，目前我們在DUV光刻機的國產化上已經取得了突破，但EUV涉及到的極紫外光源、高精度反射鏡系統，確實是擺在面前的硬骨頭。我們國家雖然在部分領域有所突破，但要形成競爭局面，還需要時間。

最重要的是，過去20年里，業界已經基本形成了“晶體管堆料”和“先進制程微縮”的路徑依賴，誰有EUV，誰就有話語權，中國在芯片產業的話語權當前其實相當有限。

其二，從中國大規模囤購光刻機來看，就是光刻機出口管制這件事情，荷蘭的靈活操作為彼此預留了生意空間。

早在2024年3月，荷蘭首相訪華親自表態會努力減少出口限制造成的影響。事實上，荷蘭也是這么做的。2024年9月加緊了出口許可規定，對NXT1980Di之后的DUV設備實行逐案審批，不過老款和中低端機型還是能照賣不誤。

此外，荷蘭政府在2025年1月專門把大部分ASML對華銷售從“雙重用途”出口數據里剔除了，這相當于給公司開了綠燈，讓幾十億歐元的買賣不用公開接受審查。甚至主動構建中國本地維修網點，給現有設備保駕護航，持續綁定貿易關系。

畢竟，荷蘭看的非常清楚，ASML將近一半的飯碗是中國給端著的。這兩年運到中國大陸的光刻機數量，加起來比過去五年總和還要多。

這就導致一邊美國在那兒喊著要封鎖，一邊是ASML的光刻機在加班加點地往中國運，這說明在美國的制裁下，荷蘭的操作相對靈活，既維持美方的盟友關系，又給自家企業留足了生存空間，在“頂住美方壓力”與“穩住業務”間找到平衡，有錢賺絕不把門關死。這其實也是中荷在芯片產業發展上的一種雙贏。

再次，中國一直在做兩手準備，全力突圍EUV光刻機

值得注意的是，我們已經專盯著那些技術指標更高、還沒被完全禁掉的高端浸潤式光刻機買。這些機器都是硬通貨，每一臺都是未來幾年產線上的頂梁柱。雖然它不如EUV那么先進，但在“多重曝光”領域有大用，通過復雜的工藝疊加，照樣能刻出精細的電路圖，實現5納米的芯片突圍。

尤其是中國在先進封裝技術層面已經取得領先，通過2.5D/3D堆疊、異構集成等方式，將兩塊甚至多塊芯片通過封裝一體化，能解決很多意想不到的問題。

我們囤購5到10年的光刻機，本質是爭取國產突圍的寶貴時間與做最壞的打算！在未來5~10年，哪怕西方徹底斷供，手里的DUV能頂到5nm，中國晶圓廠照樣能轉，芯片照樣能生產，我們有時間慢慢磨EUV。

在當下，國產替代的訴求比以往任何時刻都要更強烈。去年去年曝光的氟化氬光刻機，是ArF光刻機，接下來要突破的是浸潤式DUV，再然后就是EUV。

此外，中國在光刻機技術還在推進納米壓印與電子光束多條路線并行研發。最終實現國產光刻機的完整突圍，這需要一個較長的時間周期。

目前，荷蘭的一位芯片專家拋出了一個新的判斷，他認為，中國大概需要10年左右的時間，才能真正造出屬于自己的「EUV光刻機」，并且達到ASML目前的同等技術水準。

在西方科技圈內部，過去一直是看低中國速度的，在很早的時候認為中國就算是拿了圖紙也造不出來，后來他們說我們20年也追不上，后來改口說15年，現在變成了10年，中國可以造出EUV光刻機，那就是意味著他們正在重新評估中國芯片的「突圍速度」。

在科技競爭的維度里，10年就是一個完整的產業周期。第一個3年是從無到有的原理突破。第二個3年是核心零部件的攻堅戰，最后的4年，是整體設備的集成與迭代、優化產品良率，是在工廠里不斷燒錢、最終打磨出高良率的芯片產品。

只不過，這個過程，注定是漫長而艱難的。畢竟這是中國以一己之力，對抗整個西方成熟的供應鏈體系，這不是一蹴而就的，而是需要長周期的研發與坐冷板凳，最終走到天亮的那一天。

只要中國努力提高芯片產能的決心沒變，中國自己的光刻機還不能頂上來，那么就得繼續囤貨，國產光刻機替代技術的成熟，到底走到了哪一步，這其實能從我們購買ASML光刻機的數據看出來。當我們采購金額與占比越來越低的時候，這可能意味著我們國產光刻機的本土產品已經在替代一部分光刻機產能了。

從當前荷蘭媒體的爆料來看，國產光刻機依然還要努力。我們當前依然處于黎明前的黑暗，整個行業還在咬緊牙關往前走，在瘋狂囤貨、優化工藝，在解決芯片零部件自主與產業門類上不斷推進，在產品創新和商業模式創新角度去推進研發，一旦實現EUV光刻機的量產，整個世界的格局都會發生重大轉變，只不過在此之前，國產光刻機的突圍依然任重道遠。