從全球的芯片產能來看,目前中國大陸的芯片產能,在全球的比例大約在24%左右,應該只遜色于中國臺灣省,強于韓國,排在全球第二名。
而按照美國機構SIA的預測,到2027年,中國大陸的芯片產能可能會高達28%,然后超過中國臺灣省,成為全球第一。
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不過,雖然芯片產能在不斷的提升,且過幾年就會成為全球第一。
但是,近日美國的機構SIA指出,雖然中國芯片產能提升,但目前主要以落后工藝(28nm+)為主,在14nm及以下的先進工藝上,中國的產能占比,還達不到全球的1%。
就算到2028年,中國在14nm及以下的工藝,依然不會有太多增長,還會維持在1%左右的能力。
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為什么機構會這么認為呢,對方稱,目前制造7nm芯片,可以采用浸潤式DUV光刻機,畢竟臺積電第一代7nm工藝,也是這么干的。
但如果想要進入7nm以下,也就是5nm、3nm這些,就非EUV光刻機不可,采用浸潤式DUV已經不太可能了,理論上理論,現實是現實,良率、成本等,導致幾乎就不太可能大規模量產。
而目前中國得不到EUV光刻機,美國不允許ASML將EUV賣給中國,甚至連最先進的浸潤式DUV光刻機,都是鎖死的。
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所以,SIA認為,中國增長的,只能是落后的成熟工藝,在先進工藝這一塊,不會有什么進步,因為很明顯,幾年時間之內,中國自己不可能研發出EUV光刻機出來。
所以,就算中國芯片產能大增,對美國影響也不會太大,因為成熟工藝本身沒有技術門檻,且競爭大,臺灣省、日本等地都有相對穩定的供應鏈,并且目前美國也在加大芯片產能,未來美國不僅在先進工藝,還是成熟工藝上,都有較大的供應。
對此,不知道大家怎么看?很明顯,目前國內芯片產業鏈最短的短板就是EUV光刻機了,如果這個問題不解決,那么芯片格局就得不到根本性的改變,只有我們研發出EUV,能夠自主制造先進芯片了,那么在全球的芯片產業中,我們才真正擁有話語權,你覺得呢?
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