光刻機巨頭CEO：中國光刻機存10年代差，精算或錯覺

在全球半導體版圖的權(quán)力游戲中，沒有任何一家企業(yè)比荷蘭阿斯麥（ASML）更能牽動技術霸權(quán)的神經(jīng)。

而就在近日，這家光刻機巨頭的掌舵人拋出了一番令業(yè)界嘩然的言論，阿斯麥對華出口的設備比其最新的高數(shù)值孔徑光刻技術整整落后了八代，技術水平大致相當于2013年至2014年銷往西方客戶的產(chǎn)品，技術代差已超過十年。

這一表態(tài)并非空穴來風，阿斯麥首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱在接受采訪時毫不掩飾地提出，西方應當通過拒絕向中國提供“最新和最好的產(chǎn)品”，以維持中方對西方技術的依賴，同時拖慢中國自主技術進步的腳步。

他將這種策略描述為一種“微妙的平衡”，既不能徹底切斷技術聯(lián)系，又要確保技術代差始終保持在可控范圍之內(nèi)。“中國絕不會接受在技術方面被‘卡脖子’的處境，”富凱坦言，“如果你是一個擁有14億人口的大國，就必然要謀求技術進步，這是不爭的事實。”

這番言論的犀利之處在于，它揭開了技術封鎖的真實底色，并非要“殺死”對手，而是要讓它永遠處于追趕狀態(tài)。

富凱甚至拋出了一個令人深思的問題，那就是“要把這種技術差距拉大到何種程度？是讓中國落后5年、10年，還是15年？”

換句話說，阿斯麥出口給中國的每一臺光刻機，都是被精確校準過的“降級武器”，既足以維系中國市場的依賴性，又確保不會真正賦能競爭對手。

阿斯麥的底氣從何而來？答案在于極紫外（EUV）光刻技術，在先進芯片制造領域，EUV光刻機是最核心的設備，而阿斯麥是目前全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)。

每一臺EUV設備重達180噸，造價高達數(shù)億美元，涉及極紫外光源、精密光學系統(tǒng)、超潔凈環(huán)境及復雜供應鏈整合，是數(shù)十年積累的成果，非短期資金投入可復制。

憑借這一壟斷地位，阿斯麥在過去十年間售出約140臺EUV設備，客戶僅限于臺積電、三星、英特爾等極少數(shù)巨頭，中國則被徹底排除在外。

更嚴峻的現(xiàn)實是，限制范圍正在持續(xù)擴大，受美國壓力影響，荷蘭政府自2023年起已禁止阿斯麥向中國出口部分先進深紫外光刻設備。

近期美國眾議院更進一步提出《硬件技術多邊協(xié)調(diào)管制法案》，擬將所有型號的阿斯麥深紫外光刻機納入對華出口管制范圍，并禁止相關工程師在中國部分設施提供設備維護與維修服務，一旦該法案落地，阿斯麥進入中國市場的空間將被顯著壓縮。

技術封鎖的邏輯從來不是單向度的，富凱本人也表達了對“過度封鎖”后果的擔憂，如果西方將中國逼至絕境，迫使中方別無選擇、只能徹底擺脫對西方技術的依賴，反而會倒逼中國決心自主研發(fā)替代產(chǎn)品。

事實確實如此，2025年5月，上海微電子官宣實現(xiàn)90納米ArF光刻機量產(chǎn)，同年三季度，其28納米浸沒式光刻機進入交付階段，預計年內(nèi)交付超過10臺。

去年12月，上海微電子中標科技部所屬實驗室采購項目，成交金額1.1億元，標志著國產(chǎn)高端半導體裝備在實際應用中邁出實質(zhì)性一步。

上海芯上微裝科技股份有限公司自主研發(fā)的首臺350納米步進光刻機已于2025年11月完成出廠調(diào)試并發(fā)往客戶現(xiàn)場，專攻功率器件、射頻芯片及光電子領域。

更具象征意義的是EUV領域的破冰，據(jù)路透社調(diào)查，中國工程師已在深圳啟動一臺極紫外光刻原型機，該原型機采用與阿斯麥不同的技術路徑，在固態(tài)激光設計上報告的能量轉(zhuǎn)換效率已達3.42%，接近實用門檻。

盡管該機器尚未制造出可供上市的芯片，但它的存在本身已經(jīng)加速了中國邁向半導體自主的步伐。

中國半導體產(chǎn)業(yè)的整體態(tài)勢也在悄然改變，從2020年約15%的全球產(chǎn)能占比提升至接近28%，預計2030年將進一步擴大至全球近三分之一。

同時哈爾濱工業(yè)大學成功研制13.5納米波長EUV光源，中科院上海光機所實現(xiàn)全固態(tài)深紫外光源突破，浙江大學團隊也于2026年4月發(fā)布了加工精度可達亞30納米的萬通道3D納米激光直寫光刻機，在技術封鎖的重壓之下，中國光刻技術的攻堅步伐非但沒有停滯，反而在多個方向上齊頭并進。

阿斯麥的“技術制衡論”折射出全球半導體產(chǎn)業(yè)正在經(jīng)歷的深刻裂變，曾經(jīng)那個全球協(xié)作、分工明確的半導體生態(tài)系統(tǒng)正在被地緣政治的力量撕裂，取而代之的是兩條平行供應鏈的角力，西方試圖用“小院高墻”維持技術領先地位，中國則以舉國體制加速技術突圍。

富凱在采訪結(jié)尾依然對自身技術優(yōu)勢抱有信心，他強調(diào)光刻技術仍然很難被完全替代，整個生態(tài)系統(tǒng)的關聯(lián)性極強。

這或許不是虛言，但一個同樣不容忽視的事實是，從航天到高鐵，從通信設備到新能源，中國已在多個曾被斷言“不可逾越”的技術領域完成了從追趕到超越的逆襲。

富凱口中那個“落后十年”的數(shù)字，究竟是一道難以跨越的天塹，還是一個即將被追趕者逼近的距離，答案或許已經(jīng)寫在中國實驗室深夜不熄的燈光里。