日本對華下狠手，拉黑110家中企！轉頭被中國光刻機反手一擊：首臺國產機交付

“美國人想讓中國造不出先進芯片，日本人卻想讓中國現在的芯片也造不出來。”當高市早苗為半導體設備出口管制法案搖旗吶喊，推動封鎖令正式落地時，外媒的這句點評可謂一針見血。

不同于美國禁止EUV光刻機出口的“明牌”，日本的招數全藏在暗處。

2025年以來，日本將23類半導體設備出口從登記制改為逐件審批，小到光刻膠、設備螺絲，大到核心模塊，全被納入冗長審核。更將110家中國實體列入出口管制清單。

但誰也沒想到，日本這場瞄準中國現有產能的“精準絞殺”，最終卻成了點燃中國自主創新的火種……

1.比美國還狠！日本想動我國半導體根基

全球半導體博弈中，美國的打法是“釜底抽薪”：禁售EUV光刻機、高端設計軟件，妄圖阻止中國突破7納米以下先進制程，將我們鎖死在中低端領域。

這種硬封鎖雖兇猛，卻給中國指明了攻關方向。

而日本的策略堪稱“斬草除根”，它不禁止中國擁有設備，更要讓已投產的生產線慢慢淪為廢鐵。

日本太懂產業鏈的命門：一臺光刻機壽命長達10-15年，其運轉完全依賴持續的備件、維護與耗材支持。

尼康、東京威力科創等日企，正是靠著在DUV設備及耗材領域的壟斷地位，布下“溫水煮青蛙”的局。

DUV光刻機光學部件全球僅日本能造，光刻膠市場日企份額更超70%。細分領域的絕對話語權，讓其具備“一劍封喉”的封鎖能力。

封鎖的狠辣很快顯現：日本光刻膠企業直白告知中國客戶“原材料不足，訂單無法保障”，轉頭卻給韓國企業足額供貨；維修備件斷供讓國內芯片廠設備停機率飆升，光刻膠供應不穩導致良率驟降，遠程技術支持中斷使小故障演變成生產線癱瘓。

2023年下半年，國內部分芯片制造廠產能利用率直接跌到70%以下，成本激增的壓力讓行業陷入短暫陣痛。

更令人警惕的是日本的“精準打擊”邏輯：它不針對未問世的技術，專挑中國已投產的生產線下手。

畢竟對中國半導體產業而言，保住現有產能、維持正常生產，是比突破先進制程更緊迫的生存問題。

這種瞄準“當下根基”的封鎖，比美國的“未來封鎖”更具破壞性。

2.中國逆勢崛起

但是日本的狠招沒能讓中國停擺，反而讓中企在絕境中踏出了生路。原本需長期積累的技術加速落地，覆蓋半導體等“國之重器”的領域。

半導體領域，上海微電子預計2025年交付的28納米浸沒式DUV光刻機研發提速，已具備量產條件，預計2026年全面商業化。

這臺凝聚中國工程師心血的設備，不僅打破國外壟斷，更實現90%以上核心部件國產化，徹底擺脫對日本備件的依賴。

而日本引以為傲的耗材光刻膠，我國反攻同樣迅猛。南大光電等企業將原本3-5年的工藝驗證壓縮至18個月，實現量產，直接破解“卡脖子”難題，關鍵指標追平日企，大幅削弱其壟斷力。

半導體自主可控，國產力量正構建全方位保障體系。都向世界印證著：國產科技進步，關乎國家戰略。

3.日本自食苦果

這場封鎖最終變成“傷敵一千，自損八百”的博弈。對日本企業而言，中國市場早已是“營收命脈”。尼康、東京威力科創等企業三成以上營收來自中國。

封鎖令生效后，日企訂單驟降、股價動蕩。2024年財報顯示，尼康半導體設備業務收入同比下滑18%，東京威力科創對華銷售額減少22%，昔日壟斷利潤遭政策反噬。

更令日企焦慮的是，中國市場的替代速度遠超預期：國產DUV光刻機樣機引國內芯片廠追捧，國產光刻膠量產則讓日企喪失定價權，部分企業被迫降價30%搶單、

日本的限制未阻遏中國，反而加速了我們“去美化、去日化”進程。試圖以封鎖遏制中國的日本，反倒加速了自身市場份額流失。

這場博弈啟示深刻：科技競爭中，封鎖絕非法寶，自主創新才是硬底氣。

如今上海微電子已啟動下一代光刻機研發，國產光刻膠正沖擊高端ArF品類，中國半導體正從突圍邁向領跑。當28納米DUV光刻機點亮中國工廠，當國產光刻膠流淌在生產線，中國半導體的自主之路已越走越寬。