浙江
在科技飛速發展的今天，半導體行業是推動全球經濟與社會進步的核心力量。從智能手機到超級計算機，從智能家居到自動駕駛汽車，都離不開半導體技術，它正全方位重塑我們的生活與工作。
粒度和粒形對半導體材料性能的影響：
在半導體材料的研發與生產過程中，粒度和粒形是決定材料性能的關鍵因素之一。
以氮化硅陶瓷粉體為例，其粒度分布與形狀會直接影響制成的陶瓷基板的致密性、導熱性、機械強度，以及基板與芯片的結合性能。
-粒度過大：可能導致陶瓷基板內部孔隙增多，降低導熱效率和機械強度。
-粒度過小：可能引發燒結過程中顆粒團聚，影響材料的均勻性和性能穩定性。
因此，精確的粒度和粒形分析對于控制半導體材料的質量、優化生產工藝、提高產品性能至關重要。
德國新帕泰克公司的激光粒度儀HELOS為半導體材料的粒度分析帶來了全新的解決方案。以下來了解下該公司的基本信息及產品優勢。
德國新帕泰克是集研發、制造、銷售、技術服務和支持為一體的粒度分析儀制造商，為全世界的客戶提供實驗室及工業在線的一系列粒度粒形分析儀。
新帕泰克致力于基于激光衍射、動態圖像分析、超聲衰減原理及光子交叉相關光譜法(PCCS)的粒度測試技術的開創，并在具有挑戰性的應用中擁有理想的性能優勢，幫助解決顆粒體系的研發、生產與質量控制難題。
如今，德國新帕泰克的粒度儀已經廣泛應用于如干粉、造粒、纖維、懸浮液、乳濁液、氣溶膠、噴霧和吸入劑等的粒度測試，測試范圍從0.5 nm到34.000 m。模塊化的設計，可以根據實驗室需要組合應用，同時也可整合到在線系統。此外，使用新帕泰克的儀器，在更短的測試時間內獲得具有更高準確度、測試重復性及儀器可比性的粒度測試結果!
干法激光粒度儀HELOS&RODOS突破性優勢：
-專利干法分散技術：配備全自動干法分散系統RODOS，采用壓縮氣流高效分散超細氮化硅材料粉體，干樣干測，無需使用溶劑，避免顆粒團聚。
-瞬時分散、瞬時測量：自由分散區域，無軟管殘留及二次團聚。
-高效測試：從進樣到出結果僅需幾秒鐘，測試速度快，分析效率高。
-高精度與重復性：最高可達0.04微米分辨率，結合穩定的干法分散技術，確保每次測試結果的重復性和可靠性。
德國新帕泰克的另一款重要產品 — 動態圖像分析儀QICPIC，為粒度與粒形的雙維度分析提供了更為全面的解決方案。
高速動態圖像分析儀QICPIC突破性優勢：
-動態圖像法測試：結合高效分散系統，利用高速攝像頭拍攝運動中的分散顆粒流，通過專業分析軟件對每個顆粒的粒度和粒形同時進行精確測量和分析。
-多樣化粒度、粒形評估模式：可以從多個維度精確描述半導體材料顆粒的大小和形狀特征。
①粒度評估模式：EQPC徑、Feret徑、CHORD徑等
②粒形評估模式：球形度、寬長比、凸度、圓度等
-顆粒圖庫功能：可使用特定過濾條件查詢超規顆粒(如EQPC徑 > 100μm的顆粒)，追溯其產生的原因，及時優化工藝參數。
-直觀數據呈現：提供粒度、粒形分布圖、散點圖、表格及詳細的圖文報告;支持導出顆粒圖像、粒徑和粒形信息，以及測試過程記錄的顆粒流錄像。
-與其他方法具有可比性：檢測結果與傳統篩分法、激光衍射法具有良好的對比性，為企業提供了可靠的參考和驗證手段。
德國新帕泰克公司作為粒度和粒形分析領域的技術先驅，致力于為不同行業提供全面、精準、高效的粒度與粒形解決方案。
除了上述的激光粒度儀HELOS和動態圖像分析儀QICPIC外，新帕泰克還擁有豐富的產品線，包括納米粒度儀、在線激光粒度儀等，能夠滿足從納米到毫米級粒度范圍的測量需求，覆蓋半導體材料研發、生產、質量控制等各個環節。
-高濃度納米粒度儀：采用動態光散射技術結合背向散射交叉相關光譜技術，精確測量納米級高濃度樣品的粒度及分布，助力納米半導體材料的研發。
-在線激光粒度儀：實現對生產過程中粉體粒度的實時監測和控制，確保產品質量的穩定性和一致性。
此外，新帕泰克還提供定制化的解決方案，根據企業的具體需求配置更適合的粒度與粒形分析系統，助力企業提升產品質量、優化生產工藝、降低生產成本，推動半導體材料產業的高質量發展。
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