ASML總裁再談中國：沒有證據(jù)能證明中國突破EUV，中國已落后8年

前沿導(dǎo)讀

荷蘭《電訊報》記者就全球芯片產(chǎn)業(yè)問題，采訪了ASML總裁克里斯托夫·富凱以及首席財務(wù)官羅杰·達森。

當記者詢問到如何看待中國發(fā)展以及出口管制對中國的影響時，富凱表示中國已經(jīng)8年沒有獲得我們的EUV光刻機了，因此中國的技術(shù)已經(jīng)落后全球8年的時間。

就EUV技術(shù)來說，我們沒有看到任何證據(jù)能夠證明中國已經(jīng)在突破封鎖的邊緣，這是一個十年以上的大工程，而不是兩三年的小項目。不過中國也在取得一些技術(shù)成果，并且中國還在持續(xù)投入巨資研發(fā)設(shè)備，這必然會影響全球芯片產(chǎn)業(yè)的格局。

參考資料：
公眾號：一網(wǎng)荷蘭【荷蘭】荷蘭阿斯麥總裁和財務(wù)總監(jiān)談中國

出口管制

美國在2018年啟動了針對中興和華為的制裁措施，也就是在這一年，中芯國際與ASML簽訂采購合約，以1.2億美元的價格采購中國大陸第一臺EUV光刻機。

參考資料：
國內(nèi)首臺：中芯國際1.2億美元購入EUV光刻機
https://www.guancha.cn/economy/2018_05_17_457038.shtml

在此之前，中芯國際一直都是ASML在中國大陸地區(qū)的重要合作商。

雙方的合作開始于2002年，中芯國際采購了多臺來自于ASML的i線和DUV光刻機。根據(jù)ASML官方新聞顯示，為支持雙方合作，ASML在上海附近建設(shè)有辦事處和備件倉庫，為中芯國際提供可持續(xù)支持的售后服務(wù)。

然后在2018年，雙方又簽訂了批量采購DUV光刻機的協(xié)議。原定的有效期截止到2020年12月31日，但隨后又將合作協(xié)議延長，從2021年2月延長至2021年12月。

根據(jù)ASML的官網(wǎng)新聞顯示，2020年至2021年，雙方的采購訂單金額已經(jīng)達到了12億美元。

連續(xù)多年的合作，已經(jīng)表明了芯片產(chǎn)業(yè)全球化的發(fā)展格局，也說明了ASML與中國企業(yè)的合作是雙贏的局面。既可以解決中國本土芯片的制造問題，又可以通過向中國企業(yè)銷售設(shè)備，為ASML帶來持續(xù)的經(jīng)濟增長。

中芯國際在2018年采購的EUV光刻機，美國對其進行了圍追堵截，不斷敦促ASML取消與中國企業(yè)的合作。但是時任ASML CEO的彼得·溫寧克認為ASML地處中立的荷蘭，服務(wù)于全球企業(yè)，從不涉足政治，美國沒理由干涉。

隨著中美科技戰(zhàn)的持續(xù)加深，美國政府對荷蘭政府施壓，迫使荷蘭政府強制性撤銷了ASML EUV光刻機的對華出口許可，攔截了這臺本屬于中國企業(yè)的EUV光刻機。

荷蘭《新鹿特丹商報》記者馬克·海金克曾經(jīng)深度采訪了ASML官方3年時間，據(jù)海金克在個人作品中披露稱，溫寧克多次游說美國政府勸其放松對中國的出口管制，中國的消費市場龐大、芯片產(chǎn)業(yè)彭博發(fā)展、對于先進設(shè)備的需求量大，而且中國企業(yè)也愿意拿出大量資源去采購成熟的先進設(shè)備。

美國單方面限制ASML與中國合作，這必然會讓中國企業(yè)手里的采購資金流入本土企業(yè)手中，上下游產(chǎn)業(yè)鏈抱團取暖，從而加速自主光刻機的研發(fā)進度。

平衡點

ASML首席財務(wù)官羅杰·達森對此分析稱，出口管制的核心問題就是美國打算將中美之間的技術(shù)差距拉到多大，美國的部分政客認為應(yīng)該讓中國繼續(xù)依賴西方國家的技術(shù)，但是需要通過制裁的方式將中國技術(shù)壓制在一個較為落后的節(jié)點上。

中美之間的芯片技術(shù)需要存在差距，但如果這個差距被拉的過大，就會讓中國企業(yè)去研發(fā)自主設(shè)備，從而逐步放棄西方國家的進口產(chǎn)品。

前段時間路透社消息稱，中國已經(jīng)完成了EUV光刻原型機，但是其通篇內(nèi)容都是以所謂的“知情人士透露”為核心，并沒有權(quán)威的直接性證據(jù)來證明中國在自研EUV光刻機領(lǐng)域的最新進展。

針對中國自研EUV光刻機這件事，ASML總裁富凱在此前的采訪中表示已經(jīng)知曉，并且由于中國一直拿不到先進設(shè)備，所以中國企業(yè)嘗試自主研發(fā)EUV這件事是合情合理的，但是富凱對于中國自研設(shè)備進入量產(chǎn)商用階段持保守態(tài)度。

ASML的第一臺EUV原型機發(fā)布于2006年，造出來之后便交付給美國紐約州立大學(xué)納米科學(xué)與工程學(xué)院進行深入研究。一直到2018年，ASML才制造出了可以量產(chǎn)，并且可以制造先進芯片的光刻機設(shè)備。2019年，由EUV光刻機制造的先進芯片正式在市場上開售。

原型機有了，下一步就是要解決制造芯片的良品率以及光刻機的量產(chǎn)問題。在富凱看來，解決這兩點問題是為期10年的技術(shù)項目，在短短兩三年內(nèi)是無法做到的。不過在其他技術(shù)門檻較低的領(lǐng)域，例如干式ArF光刻機，中國已經(jīng)取得了階段性成果。