ASML總裁再談中國：沒有證據(jù)能證明中國突破EUV，中國已落后8年

前沿導讀

荷蘭《電訊報》記者就全球芯片產(chǎn)業(yè)問題，采訪了ASML總裁克里斯托夫·富凱以及首席財務官羅杰·達森。

當記者詢問到如何看待中國發(fā)展以及出口管制對中國的影響時，富凱表示中國已經(jīng)8年沒有獲得我們的EUV光刻機了，因此中國的技術(shù)已經(jīng)落后全球8年的時間。

就EUV技術(shù)來說，我們沒有看到任何證據(jù)能夠證明中國已經(jīng)在突破封鎖的邊緣，這是一個十年以上的大工程，而不是兩三年的小項目。不過中國也在取得一些技術(shù)成果，并且中國還在持續(xù)投入巨資研發(fā)設備，這必然會影響全球芯片產(chǎn)業(yè)的格局。

參考資料：
公眾號：一網(wǎng)荷蘭【荷蘭】荷蘭阿斯麥總裁和財務總監(jiān)談中國

出口管制

美國在2018年啟動了針對中興和華為的制裁措施，也就是在這一年，中芯國際與ASML簽訂采購合約，以1.2億美元的價格采購中國大陸第一臺EUV光刻機。

參考資料：
國內(nèi)首臺：中芯國際1.2億美元購入EUV光刻機
https://www.guancha.cn/economy/2018_05_17_457038.shtml

在此之前，中芯國際一直都是ASML在中國大陸地區(qū)的重要合作商。

雙方的合作開始于2002年，中芯國際采購了多臺來自于ASML的i線和DUV光刻機。根據(jù)ASML官方新聞顯示，為支持雙方合作，ASML在上海附近建設有辦事處和備件倉庫，為中芯國際提供可持續(xù)支持的售后服務。

然后在2018年，雙方又簽訂了批量采購DUV光刻機的協(xié)議。原定的有效期截止到2020年12月31日，但隨后又將合作協(xié)議延長，從2021年2月延長至2021年12月。

根據(jù)ASML的官網(wǎng)新聞顯示，2020年至2021年，雙方的采購訂單金額已經(jīng)達到了12億美元。

連續(xù)多年的合作，已經(jīng)表明了芯片產(chǎn)業(yè)全球化的發(fā)展格局，也說明了ASML與中國企業(yè)的合作是雙贏的局面。既可以解決中國本土芯片的制造問題，又可以通過向中國企業(yè)銷售設備，為ASML帶來持續(xù)的經(jīng)濟增長。

中芯國際在2018年采購的EUV光刻機，美國對其進行了圍追堵截，不斷敦促ASML取消與中國企業(yè)的合作。但是時任ASML CEO的彼得·溫寧克認為ASML地處中立的荷蘭，服務于全球企業(yè)，從不涉足政治，美國沒理由干涉。

隨著中美科技戰(zhàn)的持續(xù)加深，美國政府對荷蘭政府施壓，迫使荷蘭政府強制性撤銷了ASML EUV光刻機的對華出口許可，攔截了這臺本屬于中國企業(yè)的EUV光刻機。

荷蘭《新鹿特丹商報》記者馬克·海金克曾經(jīng)深度采訪了ASML官方3年時間，據(jù)海金克在個人作品中披露稱，溫寧克多次游說美國政府勸其放松對中國的出口管制，中國的消費市場龐大、芯片產(chǎn)業(yè)彭博發(fā)展、對于先進設備的需求量大，而且中國企業(yè)也愿意拿出大量資源去采購成熟的先進設備。

美國單方面限制ASML與中國合作，這必然會讓中國企業(yè)手里的采購資金流入本土企業(yè)手中，上下游產(chǎn)業(yè)鏈抱團取暖，從而加速自主光刻機的研發(fā)進度。

平衡點

ASML首席財務官羅杰·達森對此分析稱，出口管制的核心問題就是美國打算將中美之間的技術(shù)差距拉到多大，美國的部分政客認為應該讓中國繼續(xù)依賴西方國家的技術(shù)，但是需要通過制裁的方式將中國技術(shù)壓制在一個較為落后的節(jié)點上。

中美之間的芯片技術(shù)需要存在差距，但如果這個差距被拉的過大，就會讓中國企業(yè)去研發(fā)自主設備，從而逐步放棄西方國家的進口產(chǎn)品。

前段時間路透社消息稱，中國已經(jīng)完成了EUV光刻原型機，但是其通篇內(nèi)容都是以所謂的“知情人士透露”為核心，并沒有權(quán)威的直接性證據(jù)來證明中國在自研EUV光刻機領域的最新進展。

針對中國自研EUV光刻機這件事，ASML總裁富凱在此前的采訪中表示已經(jīng)知曉，并且由于中國一直拿不到先進設備，所以中國企業(yè)嘗試自主研發(fā)EUV這件事是合情合理的，但是富凱對于中國自研設備進入量產(chǎn)商用階段持保守態(tài)度。

ASML的第一臺EUV原型機發(fā)布于2006年，造出來之后便交付給美國紐約州立大學納米科學與工程學院進行深入研究。一直到2018年，ASML才制造出了可以量產(chǎn)，并且可以制造先進芯片的光刻機設備。2019年，由EUV光刻機制造的先進芯片正式在市場上開售。

原型機有了，下一步就是要解決制造芯片的良品率以及光刻機的量產(chǎn)問題。在富凱看來，解決這兩點問題是為期10年的技術(shù)項目，在短短兩三年內(nèi)是無法做到的。不過在其他技術(shù)門檻較低的領域，例如干式ArF光刻機，中國已經(jīng)取得了階段性成果。