美籍數學家：我們一直在解決卡脖子的問題，但是越解決，問題越多

前沿導讀

美籍華裔數學家、中科院外籍院士丘成桐在訪談中指出，我們不停地在解決卡脖子問題，但是在被別人卡脖子的時候，你也是跟著人家的思路走，這樣永遠解決不了卡脖子的問題。你解決的只是別人給你創造的問題，而不是自己創造的問題，要想辦法創造自己的技術路線。

基礎問題

丘成桐院士認為，當下解決卡脖子問題屬于被動應對，解決了這個問題，對方還會對下一個環節進行限制。想要擺脫這種被動局面，只有在基礎體系之上進行創新，才能在根源上解決受制于人的情況。

據《清華大學建設處》發布的資料顯示，丘成桐院士在“人文清華”講壇節目中表示中國科研人員過于習慣回答問題，很少去主動提出問題，這個情況一定要改變。提出一個好問題，就仿佛是長江流域里的一塊大石頭，當你提出問題并解決問題之后，這塊石頭被挪開，水流會變得通暢。甚至解決一個大問題后，還可以順便解決行業內的許多其他問題。

參考資料：
“人文清華”講壇 | 丘成桐：中國要培養大數學家，提出重要問題是關鍵-清華大學-文科建設處

丘成桐院士所說的情況是客觀存在的，典型例子就是芯片制造領域的浸潤式技術。

浸潤式技術的發明人是前臺積電副總經理林本堅，林本堅是典型的基礎科研人員，其主要鉆研的領域是光學成像。依托于集成電路產業的商業化發展，林本堅早年在美國IBM任職，隨后回到中國臺灣加入臺積電，退休之后在臺灣清華大學擔任講座教授。

在臺積電任職期間，全球芯片產業進入到了技術瓶頸，光刻機的照明波長被卡在了193nm，無法向下發展。佳能、尼康選擇走傳統路線，試圖通過提升硬件配置讓光線波長縮短至157nm。

而林本堅則是通過光線過水折射的原理，推導出了在光源的后方加入超純水當做介質，光源打到超純水中形成折射效應，193nm的波長被成功縮短為134nm，直接解決了困擾全球芯片制造業的技術瓶頸。

林本堅將該技術理論稱之為浸潤式，他拿著浸潤式技術找到尼康和佳能尋求合作，但是尼康和佳能已經在傳統路線上面投入太多資源，不想放棄，同時也并不相信林本堅一個人能解決困擾全球產業的技術難題，于是便謝絕了合作。

僅次于佳能、尼康的光刻機企業是荷蘭的ASML，這個時候ASML已經憑借著PAS系列光刻機搶占到了一定規模的市場，但無法與技術儲備極強的日本企業競爭。

臺積電是ASML的客戶之一，林本堅通過臺積電的關系找到ASML尋求合作， ASML為趕超日本企業，選擇采用林本堅的浸潤式技術制造新一代的DUV光刻機。

2008年12月，ASML在日本半導體展會上面公開宣布旗下首款浸潤式DUV光刻機TWINSCAN NXT:1950i已實現量產，2009年上半年進行交付。該設備是跨時代的產品，具備雙工作臺系統，每小時可以處理200片晶圓，最高支持22nm制程的芯片制造。

參考資料：

• ASML launches TWINSCAN NXT:1950i immersion lithography system | ASMLASML Logo

浸潤式技術是ASML稱霸光刻機產業的開始，一切源頭都是因為林本堅通過加入水作為介質，解決了困擾行業多年的技術難題。

深度融合

據《中國經濟網》新聞指出，基礎學科對于科技產業至關重要，國產EDA企業巨霖科技的董事長孫家鑫對媒體表示，EDA軟件作為集成電路行業產業皇冠上的“明珠”，其最底層的核心算法處處體現出與計算數學、應用數學的深度融合。

想要解決卡脖子的問題，就必須從數學底層入手，公司圍繞網格和矩陣求解兩個底層技術，全部采用自主研發模式，為后續的發展奠定基礎。

幾何引擎也是被卡脖子的技術之一，該技術是CAD、CAE、CAM等工業軟件體系的核心組件，其主要內容也都與數學等基礎產業學科有關。

參考資料：
多行業以數學“求解”產業卡脖子難題 - 教育 - 中國產業經濟信息網

從根源解決卡脖子問題，需要進行全鏈路體系的科技攻關。

針對全鏈路的發展體系，我國在制定的十五五規劃建議當中明確表示，卡脖子的根本就是基礎理論的研究跟不上，源頭和底層的東西沒有搞清楚。

核心技術的攻關絕不能是簡單的模仿性創新，這樣只會陷入“追趕-落后-再追趕”的循環，必須加強原始創新和顛覆性創新，從根本上解決原理性、基礎性問題，在新一輪的科技革命當中搶占先機。