Semilab發布全新高效MicroLED檢測設備

近日，半導體檢測設備供應商Semilab正式發布了全新的LumiPix-3000光致發光（PL）檢測設備。

圖片來源：Semilab

據Semilab介紹，該設備專為Micro LED器件設計，具備全晶圓成像能力，通過高精度的缺陷分析技術，解決Micro LED制造過程中面臨的亮度和波長一致性挑戰。LumiPix-3000采用了先進的光致發光技術，配備多種激發光源選項及高分辨率成像模塊，能夠對晶圓進行非破壞性的全面計量分析。

該設備具有廣泛的材料兼容性，支持InGaN和AlInGaP等常見的Micro LED材料體系，并可處理最大尺寸達12英寸的晶圓。

在具體性能方面，LumiPix-3000通過分析捕獲的PL圖像及相關數據，能夠精準識別包括強度變化、波長偏移以及形態異常在內的多種缺陷。這種基于圖像的非接觸式檢測方法，不僅避免了對微小LED芯片造成物理損傷，還能滿足現代工業生產線對高吞吐量和高精度的標準要求。該設備為制造商在早期工藝階段發現并剔除不良品提供了有效的技術手段，有助于降低后續制程成本。

資料顯示，Semilab總部位于匈牙利布達佩斯，公司一直致力于光學、電學及材料特性測量技術的研發與應用。Semilab的產品線涵蓋了從光伏、半導體到平板顯示等多個高科技領域，擁有包括橢圓偏振光譜、壽命測試、方塊電阻測量等在內的多項核心專利技術。

在Micro LED領域，Semilab近年來動作頻頻，持續強化其在新型顯示檢測市場的布局。鑒于Micro LED技術對芯片微縮化和巨量轉移工藝的嚴苛要求，良率管理成為行業痛點。

除了此次發布的PL檢測設備外，Semilab還開發了一系列針對Micro LED制程的綜合解決方案。例如，Semilab的光譜橢偏儀（SE）被廣泛用于測量外延層的厚度與光學常數，而非接觸式方塊電阻測量儀則用于監控透明導電膜及金屬電極的工藝質量。

Semilab表示，公司未來將持續關注Micro LED顯示技術的發展趨勢，旨在通過多維度的檢測工具組合，協助客戶在Micro LED的外延生長、芯片制備及面板鍵合等關鍵環節實現更為嚴格的質量控制，從而推動Micro LED顯示技術的規?；慨a進程。（LEDinside整理）

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