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前言
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近年來,只要提及EUV光刻機,輿論圈便迅速掀起激烈爭論。一部分人將其視為民族科技崛起的關鍵戰場,情緒高漲;另一部分則持審慎態度,認為這是資源密集、收益微薄的高風險投入。
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直到前中興高管汪濤的觀點被廣泛傳播,公眾才逐漸意識到:中國全力攻關光刻機,并非出于既定的產業藍圖,而是外部封鎖倒逼下的戰略轉型。
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倘若沒有來自國際的技術圍堵,我們本可以選擇更優化、更高效的產業發展路徑。
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這場被迫開啟的技術突圍戰,能否最終打破封鎖,實現自主可控?這已成為關乎國家科技命脈的核心命題。
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EUV光刻機
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若僅從商業邏輯出發審視EUV光刻機項目,它幾乎囊括了所有令人望而卻步的特征。
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市場規模狹窄、終端客戶稀少、研發成本高昂、回報周期漫長,且系統性風險難以分散。在全球范圍內,這一領域都不適合普通企業涉足。
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先看市場容量。盡管EUV光刻機被譽為半導體制造業皇冠上的明珠,但這頂皇冠所覆蓋的范圍極為有限。
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全球具備使用EUV能力的晶圓廠數量極少,多年來的采購需求始終維持在每年幾十臺的水平線上。
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對于擅長依靠規模效應和高效供應鏈取勝的中國制造業而言,這種小批量、超高精度的設備市場幾乎沒有傳統優勢的施展空間。
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中國制造的核心競爭力在于將成熟技術推向極致,依托完整的工業配套與龐大的生產能力,把單位成本壓至最低,再以出貨量換取利潤。然而,EUV光刻機完全不遵循這套規則。
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再看投入與產出之間的平衡關系。單臺EUV設備售價常突破一億美元大關,但其背后是持續數十年、跨學科、高強度的研發積累。
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其所涉及的不僅是某一項關鍵技術的突破,更是光學系統、超純材料、納米級精密加工、高速控制系統等多個高端制造體系的極限協同。
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即便成功躋身行業前列,實際利潤率也遠低于外界想象。
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更為現實的是,下游客戶高度集中,一旦全球芯片產業進入下行周期,設備供應商將首當其沖承受巨大壓力。
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國內企業在這一點上始終保持清醒認知。
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在過去相當長的一段時間里,中國在半導體領域的資源配置更傾向于集成電路設計、封裝測試、終端應用以及成熟制程設備等方向,這些領域市場需求廣闊,投資回報穩定,也更契合本土產業結構特點。
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即使是在半導體設備細分賽道中,刻蝕機、清洗裝置、檢測儀器等環節的性價比和商業化前景也明顯優于光刻機。
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中芯國際當年試圖引進EUV光刻機,本質上并非一次常規的商業采購行為。
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一臺設備的價格,幾乎等同于公司全年凈利潤總額。
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這樣的決策如果置于純粹市場化環境中,極難獲得董事會批準。
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其背后承載的意義,從來不只是財務層面的資產配置,而是國家戰略安全層面的深遠考量。
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因此,汪濤的言論并非情緒宣泄,而是基于現實格局的冷靜評估。
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如果國際貿易秩序保持開放,關鍵設備能夠正常采購,中國企業根本無需長期將最稀缺的戰略資源投入到EUV這類回報極度不確定的技術路徑上。
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從純粹商業理性角度分析,這確實是一項缺乏吸引力的業務。
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被逼出來的才是硬實力
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許多人將光刻機的自主研發視為一場突然發起的技術沖鋒,實則不然。這種“被動補課”的經歷,中國工業早已多次上演。圓珠筆頭便是最具代表性的案例之一。
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曾幾何時,圓珠筆頭成為中國制造被外界質疑的經典話題。年產量高達數百億支,卻無法自主生產一顆微型鋼珠,聽起來的確令人難堪。
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但熟悉產業邏輯的人清楚,問題并不在于技術能力缺失,而在于經濟賬是否劃算。
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那顆直徑僅為幾毫米的筆尖珠,核心難點在于特種鋼材的配方工藝與長期穩定性控制。全球總需求量極低,盈利空間極其有限。
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對一家年產上億噸鋼鐵的大型企業來說,為如此微小的市場投入大量科研力量,顯然不符合經濟效益原則。
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直到國際供應鏈形勢發生變化,原有的成本優先邏輯才被徹底顛覆。
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當產業鏈安全上升為國家戰略議題,效率與成本不再是唯一衡量標準。
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太鋼承接圓珠筆頭國產化任務時,幾乎沒有任何現成技術可依循,只能通過反復試驗、不斷試錯來摸索路徑。
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過程枯燥冗長,短期內看不到任何經濟回報,但最終實現了從依賴進口到完全自主的跨越。
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成果同樣顯著。國產化實現后,不僅供應變得穩定可靠,國際市場相關材料價格也應聲大幅回落。
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這并非簡單地節省了多少采購費用,而是從根本上改變了話語權歸屬。
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光刻機的發展邏輯與此如出一轍,唯一的區別是技術復雜度呈幾何級增長。
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EUV光刻機不是某個單一部件受制于人,而是整個超精密系統的集成挑戰。
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任何一個子系統存在短板,整機都無法運行。
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正因如此,一旦整套體系得以建立,其所帶來的價值也將遠超單一設備本身。
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當前國內推進EUV光刻機研發,目標并非立即全面替代ASML等行業巨頭,而是率先實現“從無到有”的歷史性突破。
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哪怕初期性能尚不完善,哪怕制造成本偏高,只要設備能投入使用并支持迭代升級,就意味著產業鏈不再完全仰人鼻息。
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這種轉變對整個半導體生態系統的意義,遠遠超過個別參數指標的提升。
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中國別無選擇
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過去數十年間,全球產業分工建立在一個基本共識之上:即相對穩定的國際秩序與暢通的技術交流機制。
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在此框架下,比較優勢理論發揮著主導作用——各國專注自身擅長領域,實現資源配置最優化,整體效益最大化。
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但半導體行業的現狀已徹底動搖這一前提。當核心技術成為地緣政治博弈的籌碼,當設備與材料被列入出口管制清單,傳統的效率優先模式已然失效。
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此時若仍執著于成本與短期回報的計算,只會加劇整個產業的脆弱性。
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日本與韓國的發展軌跡,實際上提供了兩種不同的應對范式。
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日本曾在產業巔峰期選擇妥協退讓,以換取短期平穩,結果逐步喪失在核心制造環節的話語權,僅保留部分材料與專用設備的優勢地位。
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韓國則聚焦存儲芯片實現局部突破,取得階段性成功,但其產業鏈對外依存度極高,一旦國際環境波動,依然容易陷入被動局面。
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中國選擇了一條更為艱難且緩慢的道路——盡可能補齊全產業鏈鏈條。
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從芯片設計、晶圓制造到設備研制、材料供應,哪怕每個環節起步較晚、技術水平有限,也要掌握基本能力。這種策略在短期內難以體現“性價比”,但從長遠來看,卻是保障產業安全的唯一可行路徑。
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正是在這一背景下,光刻機被推至必須攻克的戰略高地。
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它已不再是單純的生產設備,而是打開整個半導體生態體系的鑰匙。一旦完全依賴外部供給,整個產業就始終面臨被切斷的風險。
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反之,只要我們具備自主制造能力,哪怕當前仍處于追趕階段,談判主動權與戰略回旋余地也將發生本質變化。
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這也解釋了為何近年來,國內光刻機相關企業陸續獲得來自國家層面或重點客戶的訂單支持。
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這些訂單本身未必追求即時盈利,而是為整個產業鏈構建底層支撐。
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只要技術體系持續運轉,研發就能持續推進,成本有望逐步下降,主導權也將穩步回歸本土。
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結語
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重新審視汪濤那句直白陳述,會發現其中并無悲觀色彩,反而體現出深刻的理性洞察。
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中國投身光刻機研發,絕非一時熱血沖動,也不是盲目自信的表現,而是在嚴峻現實條件下做出的務實抉擇。
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倘若外部環境允許自由采購,沒有人會主動挑戰這塊又硬又慢的技術硬骨頭。
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但當關鍵技術屢次被用作施壓工具,當產業生存底線被反復觸碰,所有看似“不合算”的投入,都轉化為必須完成的戰略任務。
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這條路注定漫長曲折,充滿未知挑戰。但歷史反復驗證:只要中國工業體系真正決心攻堅某一短板,時間終將站在系統性積累與持久耐力這一邊。
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光刻機的價值,不在于它是一臺機器,而在于它象征著一個不再受制于人的未來。
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參考資料:
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中科院:《深紫外光源與光學系統技術突破》
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上海微電子:《SSA600/20 28nm DUV 光刻機量產進展》
72
華卓精科:《28nm 級雙工件臺技術驗證報告》
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