我國光刻機從世界前列到落后世界20年，根源就四個字：造不如買

中國光刻機這事兒，說起來挺讓人感慨的。

起步時候咱們可不落后，早在上世紀60年代，中科院就搞出了65型接觸式光刻機，那時候ASML這公司還沒影兒呢。

ASML是1984年才成立的，荷蘭飛利浦的一個小部門起步而已。

中國這邊1965年就有了接觸式設備，基本和國際上差不多同步，甚至比一些地方早。

那個年代，科研條件艱苦，但大家咬牙堅持，1972年武漢無線電元件三廠還出了本小冊子，講光刻掩模制造，標志著工藝研究正式上路。

跟日本差不多時間，比韓國和臺灣地區早十年。

這起步不算晚吧。

70年代，中國半導體領域動靜不小。

科學院109廠和上海光學儀器廠合作，推65型設備向全國擴散。

1977年，GK-3型半自動接觸式光刻機問世，這是國內最早的一批。

1978年，1445所搞出GK-4型，還是接觸式，但技術在迭代。

清華大學那邊1978年也開始半自動接近式光刻機研究。

1980年，清華大學團隊完成第四代分步投影光刻機，精度到3微米，這水平接近國際主流。

科學院半導體所1981年出JK-1型半自動接近式設備。

1982年中科院109廠的KHA-75-1型，跟當時佳能差距最多四五年。

1985年，機電部45所的分步投影樣機，通過鑒定，相當于美國4800DSW水平。

中國在分步光刻機上跟國外差距不超過七年。

這時候中國光刻技術站在世界第一方陣，絕對不是吹的。

徐端頤是清華大學精密儀器系老師，1971年被調回北京負責新一代光刻機。

那他組建跨系團隊，數百人參與。

1971年完成首臺高端自動光刻機，投入批量生產。

1975年投入自動對準分步投影機研制，1980年成功，線寬0.8微米，填補國內空白，通過國家鑒定。

1980年代，他還帶隊搞分布投影機，清華大學成國內唯一生產高端光刻機的單位。

1990年代，他轉光盤技術，申報專利。

徐端頤的貢獻大，但后來項目中斷，他也沒法繼續光刻領域。

總之，早年中國光刻有基礎，有人才，有成果。

可好景不長，70年代末80年代初，轉折來了。

中美1971年建交，關系緩和，美國那邊表示高精尖東西可以賣，不用費勁自研，省錢省力。

中國當時資金緊，科研優先排序，高難度項目開始調整。

光刻研發放緩，團隊調離，設備閑置。

政策導向“造不如買，買不如租”，企業放棄自主，引進生產線。

80年代末，33家單位投13億買設備。

科研經費砍，人才流失，工廠關門。像建光機器廠、衛光電廠沒了。技術停滯，迭代慢。

國外繼續投錢，90年代出浸沒式和極紫外線。中國依賴進口，差距拉開。

這四個字“造不如買”聽簡單，實際害人。

早期差距小，后來買辦思想上頭，覺得買現成省心。結果技術空窗，產業鏈斷。國外封鎖時，就卡脖子。

這根源不光是內部決策，還跟國際環境有關。

1996年瓦森納協議，歐美禁中國人進半導體行業，對中國貿易實行N-2原則，比最新技術落后兩代。

審批拖延，實際落后三倍多。中國買不到最先進，只能代工測試末端。

ASML不是一家之力，集合歐美供應鏈，臺積電三星Intel支持。浸沒式DUV是臺積電林本堅思路，EUV美國理論原型給ASML完善。

ASML整合全球，捆綁伙伴，別人難追。中國自力更生，中間停20年，封鎖加劇，無法買先進零件。

差距到10-20年，多方面原因。

進入21世紀，中國半導體復蘇。2002年上海微電子裝備公司成立，科技部上海市支持。

2007年宣布90nm分布投影機，但禁運影響沒法量產。2008年02專項啟動，供應鏈支持。北京科益虹源搞準分子激光器。

清華大學華卓精科雙工件臺2016年建成，繼ASML后第二家。上海微電子90nm量產。

2019年美國制裁擴展，荷蘭擋SMIC買EUV。但中國投資大，國家大基金二期2041億進光刻。

2020年免關稅進口掩膜材料。

2021年集成電路標準化委員會成立，90家單位包括華為中芯。上海微電子計劃2022交付28nm機。

2023年SSA800浸沒式深紫外機，處理28nm。2024年中芯國際營收紀錄，本地化率高。

設備國產率升，剝離刻蝕達高水平。

這歷程發人省。早期自力更生，差距小；后來依賴進口，落后大。但路長，供應鏈復雜，短期難趕。

中國科技，得堅持自研。