美企CEO：若中國突破先進光刻機，將對美國芯片構成致命沖擊

2025年12月，美國Substrate公司創始人詹姆斯·普勞德在一場罕見的采訪中，用“致命沖擊”一詞形容中國若掌握先進光刻機技術對美國半導體產業的后果。

詹姆斯·普勞德的警告之所以如此尖銳，源于他對半導體產業生態的了解和判斷。光刻機，尤其是極紫外（EUV）光刻機，從來不是一臺孤立的機器，它是整個半導體產業鏈的“支點”。美國對ASML的依賴，本質上是一種“鏈條式”的壟斷，通過控制這個支點，間接影響整個產業鏈。

一旦這個支點被移除，整個鏈條將重新排列。美國企業依賴中國市場生存，而中國則依賴美國的設備和荷蘭的光刻機。這種相互依存的關系是美國維持技術優勢的基礎。

普勞德指出，光刻機是“命門”，一旦中國掌握，意味著從設備、材料到制造工藝的整個供應鏈都將實現國產化。這不僅是技術層面的替代，更是經濟層面的“斷鏈”。

美國半導體企業對中國市場的依賴日益加深，而中國的人才回流則為本土創新注入了強大動力。數據顯示，自2021年起，已有超過1400名頂尖華裔科學家回國。

普勞德的警告之所以振聾發聵，是因為它精準捕捉到了中國半導體產業正在發生的質變。過去，中國光刻機的突破更多停留在“首臺”和“原型”階段，距離量產還有很長的路。然而進入2025年后，情況發生了里程碑式的變化。

這些數據表明，中國在光刻機領域的突破，已不再是“實驗室里的奇跡”，而是具備了產業化的潛力。更重要的是，這種突破其實并不是單一性的技術攻關，而是由上海微電子（SMEE）、哈爾濱工業大學、長春光機所等機構組成的“產學研”聯盟協同攻關的結果。這種模式打破了傳統分工，將研發、制造、驗證緊密捆綁，為快速迭代提供了可能。

2025年11月，上海微電子的28納米浸沒式DUV光刻機進入量產交付階段，標志著國產光刻機首次在成熟制程上實現商業化應用。2025年12月，深圳實驗室完成EUV原型機測試，目標是2028年實現先進集成電路生產。這些進展，正在將“最后一公里”從遙遠的愿景，拉近到眼前的現實。

正如比爾·蓋茨在2023年預言的，美國的封鎖舉措正在“倒逼中國制造加速崛起”。

此外，美國企業曾寄望于通過向中國出售設備來維持增長和技術迭代。然而封鎖政策讓這些企業失去了中國市場，導致營收銳減。例如，泛林集團對華營收占比從2024年的42%暴跌至2025年的15%。

而再從全球視角來看，全球半導體產業正從美國一家獨大的格局，向多極化演變。中國、歐洲、日本都在尋求建立自己的半導體產業鏈。

美國主導的全球化分工是一種“零和博弈”思維：一方的領先必然意味著另一方的落后。但如今，這種思維正在失效。未來，多種技術路線可能并存。