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來源:天天IC
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據報道,ASML一名高管表示,該公司下一代芯片制造設備已準備好供制造商開始啟動量產,對芯片產業而言是一大重要里程碑。
這家荷蘭公司生產全球唯一商用的極紫外 (EUV) 光刻機設備,為芯片制造商的關鍵核心設備。ASML 數據顯示,這款新設備將協助臺積電與英特爾等芯片廠,通過簡化多個昂貴且復雜的制程步驟,生產更強大且更高效的芯片。
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ASML 技術長 Marco Pieters 2月25日向路透表示,公司計劃在周四于圣荷西 (San Jose) 舉行的技術會議上公布這些數據,象征一項關鍵里程碑。
開發這套昂貴的次世代設備歷時多年,期間芯片制造商一直在評估何時開始導入量產在經濟上才具合理性。
但隨著現有世代 EUV 設備在制造復雜 AI 芯片方面逐漸逼近技術極限,下一代設備——稱為 High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光) 設備——對 AI 產業至關重要,可協助提升如 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天機器人的能力,也讓芯片廠能按計劃推出 AI 芯片,以滿足快速飆升的需求。
這些新設備單價約 4 億美元(約合人民幣27.4億元),是初代 EUV 設備的兩倍。
Pieters 表示,ASML 數據顯示,High-NA EUV 設備目前停機時間有限,已生產出 50 萬片如餐盤大小的硅晶圓,并能繪制足夠精細的圖案以形成芯片電路。這三項數據綜合顯示,設備已具備供制造商使用的成熟度。
他指出,“我認為現在正處于一個關鍵時機,可以檢視已完成的學習循環量。”他所指的是客戶對設備進行的測試次數。
盡管技術上已準備就緒,但企業仍需 2 至 3 年時間進行足夠的測試與開發,才能將其整合至實際制造流程中。
Pieters 表示,“(芯片制造商) 已具備驗證這些設備所需的全部知識。”
他也指出,目前設備的可用率約達 80%,公司目標在年底前提升至 90%。ASML 即將公布的成像數據,足以說服客戶以單一道 High-NA 制程,取代舊世代設備所需的多個步驟。設備已處理的 50 萬片晶圓,也讓公司得以排除許多初期問題。
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