繞開光刻機？我國強硬反制荷蘭的原因找到了，首臺自研設備在路上

還記得去年荷蘭牽頭發起的“安世之亂”嗎？在面對荷蘭挑釁和刁難時，中國罕見的強硬反制！當時很多網友還在擔心，這樣做會不會激怒荷蘭，導致光刻機徹底斷供。實話實說，中國在芯片制造設備方面，確實對荷蘭、日本等國有比較大的依賴，“安世之亂”的發起，或許也是基于此，荷蘭就是仗著光刻機技術領先，才敢如此肆無忌憚。

但萬萬沒想到的是，中國卻強硬反制，根本沒有按荷蘭想好的劇本方向發展，這也令荷蘭瞬間失了方寸，自亂了陣腳。那么為何我國敢這樣做呢？難道真的不怕被光刻機“卡脖”嗎？最近的一則報告，可以解答這些疑問，我國強硬反制荷蘭的原因找到了，關鍵設備自研成果公布，距離繞開荷蘭光刻機又進了一步！

根據媒體報道，由中國原子能科學研究院主導的研究項目——串列型高能氫離子注入機，已經成功完成出束，且其核心指標均已達到國際領先水平，這是我國首臺自研的串列型高能氫離子注入機，這意味著，中國在高端制造設備自主可控方面又往前邁進了一大步。

都知道，芯片制造是很復雜的過程，需要很多精密儀器的協同和配合。除了光刻機之外，離子注入機、刻蝕機以及薄膜沉淀機等缺一不可，且這些核心設備的技術研發難度都很大，如果能夠實現自主可控，將擺脫對進口的依賴。這次，可以說，宣告了中國在芯片制造關鍵設備領域從0-1的突破，結束了被荷蘭、日本、美國“卡脖”的歷史，進入了自主可控的新時代。

和光刻機一樣，美國、日本等在串列型高能氫離子注入機領域壟斷長達30多年，而中國首臺串列型高能氫離子注入機的出現，打破了這一壟斷，也成為了全球第三個能夠獨立自研和成產該設備的國家。結合之前我國在刻蝕機、光刻機以及薄膜沉淀機等方面的自研成果，目前中國已經在芯片制造四大核心設備均做到了“自主可控”，有能力打造完全自主的12英寸生產線。

都知道，荷蘭之所以認為中國無法自研光刻機，就是因為光刻機的構造太復雜，盡管是荷蘭ASML公司，作為全球唯一能夠生產EUV光刻機的企業，也得依賴全球供應鏈，其背后有數十個國家的助力。但用馬斯克的話來說，中國可以做到任何事情。就算是光刻機這塊難啃的骨頭，中國也必定可以做到！

在荷蘭、日本光刻機對華出口管制的這些年里，中國早就已經確定了“兩步走”戰略，只要你賣，我就買。但買不代表放棄自研，而是利用買入的設備，快速進行拆裝學習，加速國產光刻機的研發，在這方面，中國擁有豐富的經驗，所以說，如果荷蘭認為可以用光刻機牽制住中國，可能還是太低估我們了，這場圍繞芯片的科技戰，中國一定會笑到最后，走著瞧吧。