荷蘭專家：我5年前預測中國能造7nm，如今他們把7nm當成熟芯片造

前沿導讀

荷蘭Techwatch媒體公司CEO、荷蘭高科技學院董事瑞尼·雷吉梅克在接受采訪時表示，ASML迫于美國對荷蘭政府施壓，先后封鎖了EUV和先進浸潤式光刻機的對華出口，這極大減緩了中國芯片的發展速度。

2021年，我預測中國將會在三年內解決7nm芯片的量產問題，進而向5nm節點進攻。7nm看似是先進節點的芯片，但是在中國企業眼中，他們將7nm當做成熟芯片來制造，通過規模化效應來攤平研發成本，提升制造效率。如果沒有美國的出口管制，那么中國將會在5至10年內追上國際水平。

格局轉變

全球芯片產業被大規模運用的產品是DUV光刻機，其中包括了干式設備以及先進的浸潤式設備。

浸潤式光刻機最高支持7nm節點的芯片制造，也可以支持5nm節點的芯片制造，但是目前沒有任何一個企業能夠成功實現用DUV量產5nm芯片。越是向下發展，浸潤式光刻機的良品率和經濟性也就越低，所以英特爾、三星、臺積電均選擇在7nm節點全面引入EUV光刻機進行使用。

ASML是EUV光刻機的唯一供應商，ASML的成功得益于美國英特爾和中國臺積電的支持。

臺積電在技術、人才、資金上面大力扶持ASML，而英特爾則是聯合美國能源部成立了EUV LLC技術聯盟，將ASML吸納了進來，把尼康和佳能等日本光刻機企業拒之門外。英特爾在這個過程中，擔任一個幫助ASML掃清競爭對手的角色。

ASML享受到了來自于美國的政策扶持，這極大加快了EUV光刻機的研發速度，但同時也與美國資本簽訂了合作協議，使美國政府持有EUV光刻機的最大話語權。

雷吉梅克認為，ASML能成功的核心因素有兩點。一個是因為其擁有發明、設計、生產復雜系統的能力，另一個就是政府的支持。

ASML可以將所有的子模塊全部組裝到一起，形成一個可持續運行的整機設備。并且ASML已經陸續收購了一批供應鏈企業，其中包括了供應光源的美國西盟公司，以及供應玻璃和光學組件的Berliner Glas集團。

其收購的原因是這些企業的部門工程師無法將各個環節的子系統有效的結合在一起，只有ASML全資掌控了這兩家企業，才能將每個環節有效的利用起來。

美國、德國、日本、中國等國家都嘗試過開發自主的光刻機，美國是最先成功的國家，但是由于其對待客戶傲慢無禮的態度，讓日本企業趁虛而入，日本的佳能、尼康憑借優質的客戶服務成功壓制了美國光刻機企業。從此美國的光刻機產業一蹶不振，最終被ASML全資收購。

德國蔡司曾經也嘗試過開發光刻機設備，但是由于整機的復雜性和資本上面的傾斜，導致蔡司最終放棄了光刻機項目，專注于為ASML的光刻機供應光學成像系統。

到目前為止，全球光刻機產業已經形成了三家制衡的局面：荷蘭ASML穩坐全球第一，其次是日本佳能和尼康，中國企業還在持續追趕。

中國技術

雷吉梅克對于中國光刻機的發展持保守態度，相關的中國企業擁有足夠多的資金補助和知識儲備，一旦設備就位，中國企業立馬就可以啟動先進晶圓廠的擴產計劃。不過這個設備什么時候有，技術水平怎么樣，穩定性如何，都是未知數。

美國光刻機的失敗，是因為美國企業傲慢無禮，客戶反饋產品有問題，美國企業的第一印象就是客戶原因，是客戶不會用才導致的設備損壞。

德國光刻機的放棄，是因為當時的蔡司總部認為制造望遠鏡、眼鏡、醫療科研器械等消費品才是能賺大錢的項目，光刻機產業的研發周期長、見效時間長，不符合蔡司的運營規劃，所以砍掉光刻機項目，只保留成像系統的研發。

中國光刻機的研發正好避開了這兩個雷區，國家對于光刻機項目非常看重，一直將先進的國產設備列為政策規劃的首要扶持對象。相關企業也一直在推動自主技術的研發進度，2024年公布了新一代國產干式DUV光刻機，其技術水平較之前應用在90nm節點的設備進步明顯。

2023年國產7nm芯片上市，在采用ASML浸潤式光刻機的基礎上，通過多重圖案化技術成功實現量產。

雖然實現了7nm芯片的量產，但是多年過去了，現在最新的產品也只是在之前的基礎上進行優化，并未達到5nm芯片的技術水平。不過對比2023年剛上市的時候，現在制造的7nm芯片已經在功耗、良品率、產能等多個維度有了大幅度的優化。

先進芯片的發展思路與成熟芯片如出一轍，先完成初步的制造，然后進入規模化量產，在量產的基礎上不斷的對已有技術進行打磨優化，一點點積累技術經驗。