臺(tái)積電2nm泄密案下月宣判，工程師面臨重判！

臺(tái)積電離職工程師陳力銘、在職工程師吳秉駿、戈一平因涉嫌泄露關(guān)鍵技術(shù)，被檢方以違反臺(tái)灣地區(qū)所謂“安全法”等罪名起訴。智慧財(cái)產(chǎn)及商業(yè)法院于昨日完成法庭辯論，案件定于4月27日宣判。此外，經(jīng)查，陳力銘前年還涉嫌指使前臺(tái)積電工程師陳韋杰，用手機(jī)偷拍2納米機(jī)密資料，上周法院裁定，陳力銘、陳韋杰二人分別自4月1日及4月8日起，延長羈押2個(gè)月。

臺(tái)灣地區(qū)高等檢察署智能財(cái)產(chǎn)檢察分署起訴稱，陳力銘曾擔(dān)任臺(tái)積電Feb 12廠良率部門工程師，離職后進(jìn)入臺(tái)積電的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商——TOKYO ELECTRON（簡稱TEL）營銷部門。

檢方表示，2023年至去年上半年期間，陳力銘為幫助TEL爭取成為臺(tái)積電先進(jìn)制程更多站點(diǎn)的設(shè)備供應(yīng)商，多次要求當(dāng)時(shí)仍在臺(tái)積電任職的工程師吳秉駿、戈一平提供關(guān)鍵技術(shù)及營業(yè)秘密，并將相關(guān)資料拍攝復(fù)制后，交由TEL用于檢討改善蝕刻機(jī)臺(tái)性能，以爭取臺(tái)積電2納米制程蝕刻站點(diǎn)量產(chǎn)機(jī)臺(tái)的供應(yīng)資格。

臺(tái)積電發(fā)現(xiàn)異常后開展內(nèi)部調(diào)查，懷疑有在職及離職員工非法獲取關(guān)鍵技術(shù)與營業(yè)秘密，于去年7月8日提起告訴。同年7月25日至28日，智財(cái)分署檢察官指揮調(diào)查局開展搜索、約談工作，訊問結(jié)束后，依法申請(qǐng)對(duì)陳力銘、吳秉駿、戈一平予以羈押并禁止會(huì)見，獲得法院批準(zhǔn)。

去年8月27日，智財(cái)分署依據(jù)所謂“營業(yè)秘密法”中“意圖域外使用而竊取營業(yè)秘密罪”“竊取營業(yè)秘密罪”，以及臺(tái)灣地區(qū)所謂“安全法”中“國家核心關(guān)鍵技術(shù)營業(yè)秘密之域外使用罪”，對(duì)三人提起公訴，并建議法院判處陳力銘執(zhí)行有期徒刑14年、吳秉駿執(zhí)行有期徒刑9年、戈一平有期徒刑7年。

檢方后續(xù)進(jìn)一步查明，2024年5月，陳力銘涉嫌指使前臺(tái)積電工程師陳韋杰，用手機(jī)偷拍了數(shù)十張涉及2納米制程原料與設(shè)備技術(shù)的機(jī)密資料。事件曝光后，TEL一名盧姓營銷經(jīng)理疑似為掩蓋證據(jù)，刪除了云端硬盤內(nèi)存儲(chǔ)的臺(tái)積電相關(guān)機(jī)密資料。

檢方以違反臺(tái)灣地區(qū)所謂“安全法”及湮滅刑事證據(jù)等罪嫌，追加起訴陳力銘、陳韋杰、盧姓經(jīng)理及TEL公司，分別建議法院判處陳力銘有期徒刑7年、陳韋杰有期徒刑8年8個(gè)月、盧姓經(jīng)理有期徒刑1年，對(duì)TEL公司建議判處罰金2500萬元新臺(tái)幣。

全案偵查終結(jié)后，檢方于今年1月提起第二次公訴；陳韋杰被移送審理后，也被智慧財(cái)產(chǎn)及商業(yè)法院裁定繼續(xù)羈押。昨日下午，智慧財(cái)產(chǎn)及商業(yè)法院完成法庭辯論，定于今年4月27日上午11時(shí)宣判，同時(shí)責(zé)令吳秉駿、戈一平于宣判當(dāng)日到庭聽判。

此外，檢方考量到被告人陳韋杰否認(rèn)其違反臺(tái)灣地區(qū)所謂“安全法”的犯罪行為，其對(duì)涉案情節(jié)、作案手段的供述前后不一，且對(duì)犯罪細(xì)節(jié)避重就輕；同時(shí)，針對(duì)陳韋杰共同犯罪的相關(guān)情節(jié)，仍有必要對(duì)相關(guān)電子記錄與同案犯陳力銘及其他證人的供述內(nèi)容進(jìn)行核對(duì)查證。檢方認(rèn)為，若陳力銘、陳韋杰二人繼續(xù)羈押，仍有相互串供或湮滅證據(jù)的可能，進(jìn)而導(dǎo)致案情無法查清，原羈押理由依然成立。據(jù)此，今日法院裁定，陳力銘、陳韋杰分別自今年4月1日及4月8日起，延長羈押2個(gè)月，并禁止其接見、通信。