伊朗襲擊甲骨文、亞馬遜！英偉達?...

來源：市場資訊

（來源：半導體前沿）

-來自彤程，龍圖光罩，SEMI，復旦大學，南開大學，暨南大學，蘇州實驗室，欣奕華，上海光源，中電科48所，安捷倫，湖北菲利華，新維度微納，衛利等單位的專家將作精彩報告

4月3日消息，據外媒報道，伊朗伊斯蘭革命衛隊海軍司令部發表聲明稱，對位于迪拜的美國甲骨文公司數據中心以及位于巴林的亞馬遜公司數據中心實施了打擊！

聲明表示，這一行動是為摧毀“暗殺機器”，美國總統特朗普的行為正讓美軍方付出慘痛代價。

伊朗伊斯蘭革命衛隊3月31日發布公告說，將中東地區與18家美國信息通信技術和人工智能企業有關的公司機構作為“合法打擊目標”，涉及思科、惠普、英特爾、甲骨文、微軟等企業。

4月1日，伊朗伊斯蘭革命衛隊曾發布公告，將包括英偉達等18家美國企業作為打擊目標。公告稱，4月1日晚8點起，“每當伊朗遭受一次恐怖行動，這些美國公司的相關設施都將遭打擊”！

這些美國大型科技企業包括英偉達、蘋果、谷歌、Meta和微軟，以及惠普、英特爾、IBM和思科等硬件供應商。此外，特斯拉、甲骨文、摩根大通及波音等企業也在名單之列。

伊斯蘭革命衛隊將上述企業定性為與美國政府相關的情報實體，并稱這些公司提供的AI及信息通信技術服務，是美以在伊朗策劃“恐怖行動”和鎖定暗殺目標的關鍵工具。

不過對于伊朗的聲明，阿聯酋迪拜媒體在其社交賬號發文，否認伊朗對位于迪拜的甲骨文數據中心發動襲擊。目前巴林還未對伊朗聲明做出回應。

來源：官方媒體/網絡新聞

—論壇信息—

名稱：第3屆光掩模與光刻膠技術論壇

時間：2026年4月24日

地點：上海

主辦方：亞化咨詢

—會議背景—

隨著半導體工藝節點向2nm及以下推進，下一代光刻技術已成為行業焦點。主要方向包括高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻、納米壓印光刻、電子束光刻、定向自組裝（DSA）和X射線光刻等。這些技術旨在提升分辨率、降低成本并提高產量。2026年，高NA EUV已進入高容量制造階段，而NIL和X射線光刻作為潛在顛覆者，正加速研發。

進入2026年，中國對高端光掩模的需求持續強勁增長，但技術研發、生產能力及產業鏈整合方面仍面臨高成本、技術復雜性和供應鏈依賴等諸多挑戰。全球半導體光掩模版市場在2018年至2024年間從40.4億美元增長至51億美元，年復合增長率達4.0%。預計到2030年，該市場規模將進一步擴大至約80億美元。亞化咨詢研究認為我國2025年第三方掩模版市場規模占比為70%左右，預計2030年中國掩模版市場規模有望達到120億元。

全球光掩模版市場主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企業主導，市場占有率超過70%。而在中國市場，路維光電、清溢光電、龍圖光罩等本土企業正在不斷提升其市場競爭力，并在國產化替代方面取得突破。

亞化咨詢預計2026年市場規模有望達到100億元。在ArF光刻膠領域，國內廠商正在加快研發進程，并取得了核心突破，如南大光電實現ArF光刻膠量產。國內一些光刻膠龍頭企業如上海新陽、南大光電、容大感光、廣信材料、晶瑞電材等，在光刻膠的研發和生產方面取得了顯著進展。據亞化咨詢最新行業調研，國內領先的光刻膠新銳企業還包括珠海基石(2022年成立)、國科天驥(2019年成立)等。國內光掩模與光刻膠產業發展正在提速，技術進步成為產業發展的重要推動力。

第3屆光掩模與光刻膠技術論壇將于2026年4月24日在上海召開。本次論壇由亞化咨詢主辦。此次會議將匯聚行業的領軍企業、機構的專家，探討下一代光刻技術發展方向，中國光掩模版與光刻膠產業的技術進展與應用，市場機遇與挑戰，和產業發展前景。