光刻膠是精細化工行業技術壁壘最高的材料，在芯片制造的曝光、刻蝕、光刻等工藝過程中，都需要光刻膠的配合。光刻膠質量對光刻精度有重要影響，并制約著芯片的精度。
中國光刻膠短板明顯
目前，在光刻膠領域，日本、歐美企業是行業壟斷者。全球前五大光刻膠廠商，手握行業87%的市場。
反觀我國光刻膠自給率十分低，且還處于低端行列。在技術門檻較高的LCD光刻膠領域，我國的產值占比只有2.7%；而門檻更高的半導體光刻膠產值，僅占比1.6%。
我國高端12英寸晶圓所用的ArF光刻膠，基本依賴進口；而8英寸硅片所需的KrF光刻膠，我國自給率也不過5%。
近兩年來，韓國被日本制裁半導體材料、華為遭美國制裁等事件的頻發，不得不讓人警醒。為此，中國光刻膠企業加快了在高端光刻膠領域的布局。
中國光刻膠龍頭：晶瑞股份
晶瑞股份的起點要追溯到1976年，這一年蘇州中學成立的光刻膠研發室，便是晶瑞股份的前身。
2001年，晶瑞股份正式成立，從事光刻膠、超凈高純試劑等新興材料的研發、生產與銷售業務。晶瑞股份曾承擔國家“863”、“02”等重大專項，行業經驗豐富。
在2020年，晶瑞股份的Krf（248nm）光刻膠已經進入了客戶測試階段，可實現0.15μm分辨率。同時，晶瑞股份還正攻克ArF光刻膠與ArFi光刻膠項目，該項目產品最高可用于14nm芯片生產。
為了加快高端光刻膠研發項目，晶瑞股份不惜斥資1102.5萬美元（折合人民幣7500萬元），從SK海力士手中買來一臺二手ASML光刻機設備。據悉，該光刻機將用于研究而不是生產制造。
關鍵時刻，晶瑞股份光刻機到廠
2020年9月，晶瑞股份開始光刻機采購。經過幾個月的努力，1月19日，這臺ASML XT1900Gi型光刻機終于到貨。目前，該光刻機已經進入晶瑞股份的高端光刻膠研發實驗室。
據了解，該光刻機可研發最高分辨率為28nm的高端光刻膠。這對中國光刻膠行業來說，無疑是一個巨大的助力。
一旦中國高端光刻膠成功攻克，中國就少一個“卡脖子”的行業，進一步提升國產芯片自主化程度。
在中美貿易摩擦加劇的這一關鍵時刻，晶瑞股份這臺光刻機來得可謂是十分及時。
文/BU 審核/子揚 校正/知秋
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