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散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州,
盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。
01
前沿導讀
中國臺灣議員、臺灣知名媒體人侯漢廷在節目中表示:
全球唯一有機會能夠單一國家自主獨立完成全面性生產制造的,看來就是中國大陸企業。在這個環節中,最困難的就是光刻機,大陸正在攻克這個難題。
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光刻機就是一個生產芯片的工具,在制造芯片這一塊,大陸企業已經實現了去美化的流程,將制造芯片所需的美國軟件、美國耗材、美國設備全部替換掉,并且在部分環節上面還實現了國產化設備的替代。等中國企業將DUV和EUV設備研發完成,到時候就不用擔心會被美國卡脖子了。
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02
去美國化
中國芯片的整個制造流程,在后端設備上面實現了自主可控,被美國卡脖子最嚴重的就是在前端的光刻機產業上面。
美國從2018年開始,不斷敦促荷蘭政府切斷ASML與中國的合作,但是荷蘭政府并未做出限制。
到了2020年,就在ASML準備將中芯國際訂購的EUV設備進行交付之前,美國正式對荷蘭政府施壓,禁止其允許ASML向中國交付最先進的EUV設備,攔截了這臺設備的對華出口,但是浸潤式的DUV設備并未進行限制,這也讓中國企業有了喘息的機會。
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從被封鎖EUV設備開始,中國企業將目光放在了DUV設備上面。開始大量從ASML采購未被限制的光刻機設備,準備用DUV設備加上自對準多重圖案化的技術來制造先進芯片。
根據ASML首席財務官羅杰·達森在2023年全年的財報數據中表示:
ASML全年凈銷售額度增加了30%,中國市場占ASML系統總銷售的29%,大幅度高于上一年的14%。
在2023年這個時期,中國市場是全球表現最強勁的市場,但ASML對中國市場交付的產品,大多數都是2022年甚至是更早的訂單,這些設備主要針對于成熟制程的中國企業,至于最先進的EUV設備,受美國管控的影響,無法交付。
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達森還透露表示,美國已經制定了最新的出口管制條例,2024年的ASML將無法向中國企業交付NXT:2000i及以上的最新浸潤式DUV設備。
與此同時,那些擁有FinFET生產線,并且專注于制造先進芯片的工廠,不但不能獲得NXT:2000i設備,還不能獲得NXT :1970i和NXT:1980i這兩個水平更低一些的設備。
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在進行去美化的過程中,對于困難度最高的光刻機產業,中國企業選擇提前做準備。
以制造成熟芯片的名義,采購一些可以制造先進芯片,但是技術難度較大的DUV光刻機。這些光刻機是制造成熟芯片的主力設備,賭的就是讓美國相信中國企業用這些設備造成熟芯片,不會選擇去制造困難度極高的先進芯片。
事實也如同中國企業所預想的那樣,在華為沒有發布mate60系列產品之前,美國政府一直都認為中國拿著進口光刻機只能生產成熟芯片,沒有制造先進芯片的技術能力。
03
技術博弈
在華為發布了mate60系列產品之后,經國際技術機構Techinsights進行的拆解分析稱,該產品所搭載的芯片是具有7nm工藝特性,并且具有5G調節器的先進芯片,這標志著中國在美國的重重封鎖下,制造出了先進芯片。
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2024年初,美國頒布了最新的制裁條例。其條例規定就如同ASML首席財務官達森所表述的那樣,對中國企業實行DUV設備的出口限制,封鎖一切可能制造先進芯片的設備。
美國之所以在多年前沒有封鎖DUV設備,其核心思想還是認為中國企業拿這種設備無法制造出先進芯片。
畢竟美國的英特爾曾經用DUV設備制造先進芯片失敗了,該技術路線可以制造先進芯片,但是良品率太低,無法進行大規模量產,最后宣告技術路線失敗,全面轉向EUV技術。
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英特爾是美國超一流的芯片企業,也是美國科技的集大成者,英特爾都無法解決的技術難題,中國企業沒道理能解決。就算中國企業跟英特爾一樣用DUV光刻機制造出來了先進芯片,也無法進行量產,該技術是個死局。
但是中國企業不但制造出來了先進芯片,還實現了規模性量產,甚至在未來的兩年內持續進行技術優化。其芯片所采用的技術、設備、供應鏈,均沒有美國的技術特性,實現了去美國化的生產流程。
中國企業現在所存在的不足,依然還是前端的光刻機上面對ASML的依賴。想要實現國產芯片制造業的全自主可控,將國產先進芯片的工藝下探到7nm以下,解決浸潤式DUV和EUV設備是必須要走的技術路線。
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