9月16日,聯(lián)發(fā)科宣布其首款采用臺積電2納米制程的旗艦SoC已完成設(shè)計流片,預(yù)計2026年底量產(chǎn)。這一里程碑標(biāo)志著半導(dǎo)體行業(yè)正式邁入2納米時代,而聯(lián)發(fā)科與臺積電的強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手,或?qū)⒅匦露x移動芯片的性能天花板。
![]()
臺積電2納米制程首次引入的納米片(Nanosheet)晶體管結(jié)構(gòu),堪稱半導(dǎo)體工藝的革命性突破。相較于現(xiàn)有的N3E制程,新工藝在邏輯密度上提升1.2倍,相同功耗下性能增強(qiáng)18%,而同等性能表現(xiàn)時功耗降低36%。這些數(shù)字背后,是智能手機(jī)、AI設(shè)備乃至自動駕駛系統(tǒng)即將迎來的體驗躍遷——更強(qiáng)勁的算力、更持久的續(xù)航,以及更精妙的能效平衡。
聯(lián)發(fā)科此次搶灘2納米賽道,展現(xiàn)了其在移動芯片領(lǐng)域的戰(zhàn)略前瞻性。作為首批擁抱這項尖端技術(shù)的企業(yè),聯(lián)發(fā)科不僅鞏固了其在高端SoC市場的地位,更為5G-A時代的多模態(tài)交互、實(shí)時渲染等高負(fù)載場景鋪就了硬件基礎(chǔ)。值得注意的是,這款芯片預(yù)計2026年底上市的時間節(jié)點(diǎn),恰與全球AI手機(jī)普及潮、車載計算需求爆發(fā)期形成共振,或?qū)⒋呱乱惠啌Q機(jī)浪潮。
這場制程競賽的意義遠(yuǎn)超參數(shù)比拼。2納米工藝的突破,本質(zhì)上是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在物理極限邊緣的又一次突圍。從FinFET到納米片結(jié)構(gòu)的演進(jìn),不僅是技術(shù)路線的革新,更折射出全球科技公司對算力基建的極致追求。當(dāng)聯(lián)發(fā)科與臺積電攜手將摩爾定律推向新高度,我們迎來的將是一個終端設(shè)備智能躍遷、邊緣計算無處不在的新紀(jì)元。
特別聲明:以上內(nèi)容(如有圖片或視頻亦包括在內(nèi))為自媒體平臺“網(wǎng)易號”用戶上傳并發(fā)布,本平臺僅提供信息存儲服務(wù)。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.