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      美國科技媒體:中國正在以10年低效期的代價去開發(fā)自主設備,用這種高風險的方法換取在光刻機領域的獨立自主

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      散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州,

      盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

      01

      前沿導讀

      據(jù)美國科技媒體Tom's Hardware所發(fā)布的新聞表示:

      隨著美國制裁的一步步收縮,中國獲得ASML先進EUV光刻機的希望渺茫,于是中國企業(yè)將目光放在了浸潤式DUV光刻機上。中國企業(yè)正在嘗試完成國產(chǎn)浸潤式設備的開發(fā),并且依賴于多重圖案化技術去制造國產(chǎn)的先進芯片。


      ASML現(xiàn)任CEO克里斯托夫·富凱在接受彭博社采訪時表示,中國的光刻機產(chǎn)業(yè)落后世界10到15年的時間,但是美國的制裁正在讓中國加速發(fā)展。


      DUV設備成為了中國的突破口,不過研發(fā)先進的DUV會讓中國企業(yè)陷入10年左右的低效時期。用10年的產(chǎn)業(yè)低效率換取在光刻機領域的獨立自主,這對于中國企業(yè)來說是一個極具風險的挑戰(zhàn)。

      參考資料: China bets on DUV as EUV blockade reshapes chipmaking https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/china-bets-on-duv-as-euv-blockade-reshapes-chipmaking

      02

      技術追趕

      對于荷蘭ASML的NXT系列EUV光刻機來說,全部產(chǎn)品均無法交付給中國大陸企業(yè)。

      這些產(chǎn)品是單次曝光制造7nm及以下芯片的核心設備,據(jù)中芯國際CEO梁孟松在大會報告上面表示,中國企業(yè)已經(jīng)完成了7nm技術開發(fā),但是需要EUV設備進行測試。如果EUV設備持續(xù)被封鎖,那么就要想辦法采用其他技術 。

      據(jù)ASML首席財務官羅杰·達森在公司財報上面表示,ASML在2023年向中國大陸企業(yè)交付了許多未被美國限制的DUV光刻機,這些設備都是中國企業(yè)幾年前下的訂單,并且采購的中國企業(yè)均為成熟芯片的制造商,符合美國以及荷蘭的出口條例。


      參考資料: ASML Q4 2023 - Financial results | ASML https://www.asml.com/en/investors/financial-results/q4-2023

      EUV光刻機是現(xiàn)存最復雜的精密設備之一,其內(nèi)部的零部件高達幾十萬個,并且還有數(shù)千個來自于美國企業(yè)提供的零部件,整體售價達到了1.5億美元以上。

      EUV設備可以單次曝光制造7nm及以下的先進芯片,這是DUV光刻機所達不到的效果,所以EUV設備成為了先進芯片制造商的首選產(chǎn)品。


      DUV光刻機的應用時間比EUV早了20多年,先進的浸潤式DUV光刻機可以單次曝光制造28nm的芯片,使用多重圖案化技術可以制造出7nm芯片,但是其成本、能效、良品率均會大幅度波動。


      英特爾曾經(jīng)使用ASML的浸潤式DUV光刻機和多重圖案化技術,去制造金屬間距在30nm左右的10nm先進芯片,該芯片的整體特性與臺積電的7nm相當。盡管英特爾成功制造出了先進芯片,但是其能效、產(chǎn)能均無法達到合格水平,成本投入和市場化效果不成正比。

      英特爾和臺積電已經(jīng)驗證了該技術的可行性,這也給了中國大陸企業(yè)制造先進芯片的機會。

      03

      技術瓶頸

      華為新麒麟芯片的推出,成功說明了中國大陸企業(yè)已經(jīng)通過以上方法制造并量產(chǎn)了先進芯片。盡管這些芯片可以被搭載到手機產(chǎn)品中,但是其整體的能效和性能要差于臺積電制造的產(chǎn)品。


      現(xiàn)在中國企業(yè)手中的光刻機,幾乎都是來自于前幾年從ASML手中囤積的浸潤式設備。

      多重圖案化技術會消耗更多的晶圓資源,并且需要高精度的刻蝕機和測量設備進行輔助制造。用浸潤式設備制造先進芯片,其綜合成本是要遠高于EUV設備。

      即便中國企業(yè)遇到了多種困難,同時還承擔著著高昂的制造成本,但好在是解決了先進芯片的供應問題,這一切是值得的。先解決有的問題,然后解決好不好用的問題。


      雖然EUV光刻機是制造先進芯片的核心設備,但是DUV光刻機也是不可或缺的設備。

      據(jù)ASML官方的產(chǎn)業(yè)報告顯示:

      哪怕是現(xiàn)在經(jīng)過EUV光刻機制造完成的芯片,其內(nèi)部的多個關鍵層也是采用了DUV技術。DUV和EUV從來都不是替代的關系,而是面向兩個領域的產(chǎn)品,都擁有不可替代性的理念和原則。

      美國的對華封鎖,是一個零和博弈的競爭。要么就擁抱全球化體系,使用先進的進口光刻機。要么就自立自強,想辦法開發(fā)自主的光刻機設備,走國產(chǎn)化路線。

      但是美國的制裁封鎖,相當于直接掐斷了中國走全球化體系這條路。美國先封鎖了EUV,然后封鎖DUV,那么中國企業(yè)自然而然的就會將目光轉(zhuǎn)向本國的設備制造商,走另一條國產(chǎn)化技術的道路。

      雖然在國產(chǎn)化的道路上會面臨著多年的低效期,但是每發(fā)展一個階段,就離自立自強又近了一步。對于現(xiàn)在以及未來的中國芯片產(chǎn)業(yè)來說,自立自強是首要的目標,也是長遠的目標。

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