美國技術機構(gòu)：如果中國遲遲造不出EUV，跟日本企業(yè)合作，采用佳能的設備是突破封鎖的唯一機會

散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導讀

據(jù)美國半導體技術機構(gòu)SemiAnalysis所發(fā)布的專欄報告指出，日本佳能的納米壓印（NIL）技術在國際芯片領域被冠以“匹敵甚至超過EUV的能力”，從理論上來說，納米壓印可以達到甚至是超過EUV光刻機的曝光分辨率，并且設備的制造成本比EUV光刻機更低。

但是納米壓印技術存在多種問題，例如零件的損耗、多層圖案的對齊精度、制造邏輯芯片的良品率等問題。日本的納米壓印設備與ASML主導的傳統(tǒng)光刻設備不同，盡管美國也對日本企業(yè)實施出口管制，但納米壓印設備還可以進行出口。

如果中國企業(yè)在EUV領域的進展緩慢，那么與日本佳能合作，嘗試使用納米壓印技術制造芯片，也是一條可行的技術路線。

02

納米壓印

納米壓印與光學光刻的核心理念是一致的，都是將掩模板上面的圖案轉(zhuǎn)移到晶圓上面。先進行多層的圖案化疊加，然后進入到刻蝕、沉積等工藝步驟，最終完成整個芯片之后進入封裝環(huán)節(jié)。

只不過光學光刻使用光源透過光縫快速掃描印刷，而納米壓印則是使用一種特定的“印章”，將圖案進行機械化印刷，這兩種技術存在本質(zhì)上的差別。

納米壓印技術，最早是由美國普林斯頓大學的華人科學家周郁在1995年提出的技術。

2001年，納米壓印從學術界逐步過渡到商業(yè)化的范疇，成立了分子壓模公司 (Molecular Imprints Inc.），開始將納米壓印技術應用在制造半導體芯片上。

2014年，在日本佳能公司收購了分子壓模公司之后，又聯(lián)合了日本印刷株式會社、鎧俠控股等多個企業(yè)共同開發(fā)納米壓印的芯片制造技術。并且佳能將納米壓印技術定義為ASML EUV的替代方案，企圖用這種方法來縮短與ASML的技術差距。

目前為止，全球的芯片制造格局變成了ASML、尼康、佳能三家比拼，中國企業(yè)緊隨其后。

ASML持有浸潤式DUV光刻機和EUV光刻機這兩大王牌設備，尼康走的是傳統(tǒng)光刻，旗下有干式DUV和浸潤式DUV設備，但設備的技術水平落后于ASML。佳能擁有干式DUV光刻機，并且還持有已經(jīng)商用的納米壓印設備。

2023年10月13日，佳能宣布推出型號為“FPA-1200NZ2C”納米壓印光刻機設備。據(jù)佳能表示，該設備的硬件能力支持最小線寬14nm的芯片制造，相當于是邏輯芯片的5nm節(jié)點。

隨著掩模技術的提升，該設備可以實現(xiàn)2nm節(jié)點的邏輯芯片制造，并且其技術成本要比ASML的EUV設備低很多。

03

現(xiàn)存問題

佳能的納米壓印設備已經(jīng)交付給了鎧俠集團和鎂光科技，用于制造閃存芯片。存儲芯片與邏輯芯片存在本質(zhì)上差別，存儲芯片的結(jié)構(gòu)簡單，重復度高，對于掩模的要求較低，甚至幾百層的圖案結(jié)構(gòu)都是一致的。

而邏輯芯片涉及到CPU、GPU、NPU等多種晶體管的圖案設計，其每層的電路圖案都不一樣，這對于掩模和設備精度要求很高。

納米壓抑的機械印章非常細小，其尺寸相當于人類頭發(fā)的橫截面。現(xiàn)在使用這個設備每秒壓印一次芯片，只要是機械印章出現(xiàn)一丁點的缺陷或者是損耗，這都會直接影響芯片的良品率。

傳統(tǒng)光學光刻所使用的掩模板，其使用壽命支持光刻100000個晶圓，而納米壓印所使用的掩模板壽命遠低于光學掩模板。想要解決這個問題，就必須投入資源去開發(fā)適配的材料，不但成本高，而且耗時長，這也是納米壓印遲遲沒有制造邏輯芯片的原因之一。

我們將目光投向中國大陸市場，杭州璞璘是中國唯一一家深耕納米壓印技術的企業(yè)，由該公司制造的PL-SR系列納米壓印設備已經(jīng)在2025年8月份正式交付給客戶使用。并且該公司的創(chuàng)始人葛海雄先生，師從納米壓印技術發(fā)明人周郁博士，具備20年以上的技術開發(fā)經(jīng)驗。

根據(jù)璞璘公司的資料顯示，該設備是迄今為止唯一在國內(nèi)初步實現(xiàn)20nm以下高端芯片所需的納米壓印設備。

并且公司還向市場供應了包括模板復制膠、耐刻蝕型納米壓印膠、刻蝕傳遞膠、光學納米壓印膠、耐腐蝕納米壓印膠、增粘膠、防粘試劑在內(nèi)的40余種制造材料，建立起一條全新的芯片產(chǎn)業(yè)鏈。

佳能在硬件設備上，對比我國現(xiàn)存的產(chǎn)品具備明顯優(yōu)勢。

但中國企業(yè)的路線是押注傳統(tǒng)光學光刻和納米壓印光刻兩種技術路線，并且這兩種技術路線并行研發(fā)。

在無法獲取EUV設備的前提下，納米壓印技術是一個可以嘗試的技術方案，但納米壓印現(xiàn)存的問題就是制造先進邏輯芯片的損耗大、良品率低，可以當做備選方案，光學光刻技術依然是主流的選擇。

參考資料： Nanoimprint Lithography: Stop Saying It Will Replace EUV https://newsletter.semianalysis.com/p/nanoimprint-lithography-stop-saying?utm_source=publication-search

往期經(jīng)典回顧：50萬+閱讀量

往期經(jīng)典回顧：100萬+閱讀量