國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,南京和顯達(dá)微電子科技有限公司申請一項名為“一種兼容Cu/Mo及Cu/MTD的蝕刻液及其應(yīng)用”的專利,公開號CN121065701A,申請日期為2025年8月。
專利摘要顯示,本發(fā)明提供了一種兼容Cu/Mo及Cu/MTD的蝕刻液及其應(yīng)用,所述蝕刻液包括主劑和輔劑;所述主劑以重量份數(shù)計包括氧化劑5-22份、有機(jī)酸1-15份、無機(jī)酸0.01-5份、有機(jī)堿0.5-15份、穩(wěn)定劑0.01-5份、金屬抑制劑0.01-1份和水1-100份。本發(fā)明提供的蝕刻液能夠有效兼容Cu/Mo及Cu/MTD兩種不同的金屬結(jié)構(gòu),在蝕刻過程中對不同金屬膜層都能實現(xiàn)良好的蝕刻效果,減少了因蝕刻液兼容性差導(dǎo)致的蝕刻不良問題,提高了產(chǎn)品的良品率;對Cu/Mo及Cu/MTD合金雙層膜等均具有優(yōu)異的蝕刻性能,蝕刻后無殘留,并且不會損壞玻璃基板等基底材料,滿足了現(xiàn)代電子制造工藝對蝕刻液的高要求。
天眼查資料顯示,南京和顯達(dá)微電子科技有限公司,成立于2021年,位于南京市,是一家以從事科技推廣和應(yīng)用服務(wù)業(yè)為主的企業(yè)。企業(yè)注冊資本50萬人民幣。通過天眼查大數(shù)據(jù)分析,南京和顯達(dá)微電子科技有限公司參與招投標(biāo)項目3次,此外企業(yè)還擁有行政許可5個。
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本文源自:市場資訊
作者:情報員
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