ASML高管：十年前中國企業就在研發光刻機，但是他們迄今為止還是沒有一個產品問世

十年前，有人把“光刻機”當成一場技術競賽；今天，有人把它當成一塊考驗國家意志和產業鏈能否自立的試金石。近日ASML高管關于“中國在芯片制造上仍落后”的評論，再次把光刻機這個詞拽到輿論的最中央——它像一面放大鏡，把產業鏈、資本、人才和國家戰略全部照見。

為什么光刻機不是單純的設備，為什么過去十年某些努力沒有換來一個合格的商用產品，而這正是中國人必須奮起的理由。

光刻機不是一臺機器能解決的事。極端紫外（EUV）光刻機的核心，是光源、鏡片、光學臺、真空系統、極高精度運動控制、軟件與材料的極致結合。它的每一個組件，都可能來自不同國家、不同公司的“世界級零件庫”。ASML的高管曾公開指出，中國在最先進的制程與設備上仍有顯著落差，這并非一句“落后論”能帶過——它指向的是整個產業鏈和供應鏈長期被分割的現實。

這不是賺快錢能解決的事，也不是靠“模仿”就能以次充好的路可走。把光刻機做出來，從原理到量產，需要十年甚至更長的時間，需要在極其苛刻的誤差容忍里把每一個工序做到極致。想象一下，0.1納米級的誤差容忍度意味著什么？這就是為什么世界上能做出EUV的，寥寥無幾。

十年前，確實有企業、科研團隊動手研發光刻機。他們拆開進口設備，試圖復制關鍵部件；他們在實驗室里日夜攻關，繪制出一頁頁工程圖紙。然而，“有努力”并不等于“有產品”。有媒體報道，逆向工程的嘗試甚至導致精密組件被損壞，相關團隊不得不尋求外部支持。此類挫折暴露的不是能力的全部，而是我們曾經高估了模仿能帶來的廣度與厚度。

更重要的是，從“樣機”到“商用產品”的距離，往往比從理論到樣機的距離還要遠得多。

樣機能在實驗臺上一閃而過，商用設備要在無數家工廠、無數個批次中穩定工作多年。很多團隊在樣機階段就被現實拖住——供應商無法穩定提供高精度部件、軟件長期未能通過工業級驗證、系統集成出現致命不穩定。結果是：十年前開始的那些努力，很多沒能換來一個被市場檢驗的合格產品。

有人把問題歸咎于“被限制出口”，這一點確實存在：對EUV和部分高端DUV設備的出口限制，限制了中國獲取最頂尖整機與關鍵部件的渠道；ASML高層也多次強調，出口管制確實對中國部分企業的進步構成影響。

只是，限制并不是全部借口，真正能把限制化為動力的是系統性的組織能力、長期的產業投入與頂層設計。讓任何外部壓力不是成為拖慢進步的理由，而是催化劑。

看到別人在關鍵技術上比你領先，不是自我否定的理由，而是點燃全國資源、人才與資本，形成真正長期投入的理由。中國在材料、封裝、存儲等很多環節已經建立起顯著優勢；如果光刻機這道最硬的堡壘被攻破，那將是產業鏈真正崖式翻盤的開始。

我們需要的，不是民族主義的自嗨，也不是自憐的抱怨；我們需要的是：既要承認差距，也要把差距變成我們的火種。ASML高管的那句話，聽起來像刺耳，但的確是現實的診斷；它也像一把點燃的火柴，提醒每一個中國工程師、企業家、決策者：我們有能力，但還沒有把能力完全轉為可復制、可量產、可商用的產品。真正的勝利不在于用情緒去回答質疑，而在于用十年、二十年的堅持，把樣機變成千臺，寫出屬于中國的光刻機故事。

現在，站在這個時間節點上，中國既可以繼續抱怨被限制，也可以把“被限制”作為壓艙石，化作更大的投入與協同。歷史會記住那些不僅嘴上憤怒、而且腳踏實地把怒火變成產線和工廠的人。當那一天到來，我們不會再討論“十年前有人在做卻沒有產品”的遺憾，而會慶祝：中國造出能站到世界舞臺中央的光刻機。

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