日媒：中國光刻機產業(yè)將迎來實質性突破！這是慌了嗎？

最近刷到日媒報道說，中國光刻機可能要迎來實質性突破，還預測我們會成為繼荷蘭、日本之后第三個能獨立造光刻機的國家。
關注國產芯片產業(yè)的朋友們都知道，這種報道背后反映出來的并不是突然性的爆發(fā)，而是我們早早就選對了路。

即：沒有跟著荷蘭ASML公司去死磕EUV光刻機，而是把重心放在了成熟制程和特色工藝里研發(fā)。比如，20nm左右制程工藝的晶圓產業(yè)。

不過經常在評論區(qū)看到。很多人覺得造不出EUV光刻機就不算突破，其實根本不是這么回事。因為現(xiàn)在智能汽車產業(yè)、5G基站、智能家居、出口貿易等等這些剛需領域，誠如尖端的7nm、5nm、3nm等芯片的實際用處有一定的局限性，反而需要大量穩(wěn)定、便宜的成熟制程芯片。

正是國內廠商就抓住了這些實際需求，比如已經交付的化合物半導體光刻機，雖然在制程上不是最前沿的，但兼容性很強，剛好能滿足碳化硅、氮化鎵這些功率器件的需求。
重點是在滿足國內市場的基礎上，還實現(xiàn)了數(shù)規(guī)模化的出口。經常看到一些外媒很夸張的表示，我們在成熟芯片市場占比近三分之一。

由此可見，并不是空穴來風。

不管是日媒還是別的媒體，他們最清楚自己的軟肋，日企在光刻膠、核心部件上有優(yōu)勢，但中國現(xiàn)在不僅在造設備，還在補全產業(yè)鏈。比如光刻膠，國內企業(yè)已經有突破了，還造出了28nm以下精度光刻機用的冷卻部件，已經量產了。
以前日本企業(yè)靠對華出口賺得盆滿缽滿，現(xiàn)在我們自己能造了，不僅安全性自主性更高，關鍵成本更低，把價格打下來，隨著時間的推移，他們自然也就慌得一批。

從咱們實際應用的情況來看，EUV光刻機也越來越少被提及，不管出于什么原因，我們走的是“穩(wěn)扎穩(wěn)打”的自主化路徑，先把成熟制程的生態(tài)建起來，積累經驗和資金，再慢慢向高端突破。

而且實際的技術發(fā)展要比網上關注到的信息是更超前的，有些是不能被媒體報道的。

所以日媒的關注，其實是給我們提了個醒：技術突破不一定非要“硬碰硬”，找到適合自己的賽道更重要，未來就算不依賴EUV，照樣能在半導體領域擁有話語權。
畢竟市場不會說謊，誰能解決實際需求，誰就能笑到最后。