來(lái)源丨財(cái)通社
上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(簡(jiǎn)稱SMEE)近日中標(biāo)一項(xiàng)步進(jìn)掃描式光刻機(jī)采購(gòu)項(xiàng)目。
該項(xiàng)目采購(gòu)方為zycgr22011903,采購(gòu)數(shù)量為一臺(tái),成交金額約1.1億元。
中國(guó)政府采購(gòu)網(wǎng)披露的公告顯示,中標(biāo)供應(yīng)商為SMEE,注冊(cè)地址位于上海市張江高科技園區(qū)張東路1525號(hào)。
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本次中標(biāo)設(shè)備為步進(jìn)掃描式光刻機(jī),型號(hào)為SSC800/10。
盡管未具體點(diǎn)名,但中國(guó)政府采購(gòu)網(wǎng)11月的一份公告顯示,科學(xué)技術(shù)部申請(qǐng)zycgr22011903步進(jìn)掃描式光刻機(jī)采購(gòu)項(xiàng)目采用單一來(lái)源方式采購(gòu),項(xiàng)目預(yù)算金額1.13億元。
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當(dāng)時(shí)提及的潛在政府采購(gòu)供應(yīng)商,正是SMEE。
受此消息影響,以園區(qū)開發(fā)為主業(yè)的A股上市公司張江高科(600895.SH)股價(jià)25日下午2點(diǎn)34分突然開始拉升,下午2點(diǎn)40分時(shí)最高漲到43.88元,6分鐘內(nèi)暴漲約7.76%。
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截至今日A股收盤,張江高科報(bào)42.48元/股,錄得漲幅4.81%,總市值657.88億元。
據(jù)財(cái)聯(lián)社,今日午后光刻機(jī)概念異動(dòng)拉升,國(guó)風(fēng)新材(000859.SZ)直線漲停,走出3天2板,華軟科技(002453.SZ)、華融化學(xué)(301256.SZ)、高盟新材(300200.SZ)等沖高。
天眼查顯示,張江高科通過子公司張江浩成持有10.7787%的SME股份。
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公開資料顯示,國(guó)有控股的SMEE成立于2002年,專注于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備和高端智能裝備研發(fā)制造,為國(guó)內(nèi)唯一能量產(chǎn)前道光刻機(jī)的企業(yè)。
官網(wǎng)信息顯示,SMEE主要光刻機(jī)產(chǎn)品有SSX600系列光刻機(jī)、SSB500系列步進(jìn)光刻機(jī)、SSB300系列步進(jìn)光刻機(jī)、SSB200小Mask系列曝光機(jī)、SSB200大Mask系列曝光機(jī)。
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其中,最先進(jìn)的型號(hào)是SSA600/20,采用深紫外光源(DUV),分辨率為90nm,可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。
今年5月,SMEE宣布成功交付首臺(tái)28nm浸沒式光刻機(jī),可支持7nm及以上制程。
據(jù)稱其28nm光刻機(jī)樣機(jī)目前已被送至中芯國(guó)際、華虹半導(dǎo)體等頭部晶圓廠進(jìn)行工藝適配,預(yù)計(jì)在年內(nèi)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
從技術(shù)路徑看,自1961年首臺(tái)光刻機(jī)問世以來(lái),作為半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟,光刻技術(shù)歷經(jīng)接觸式、接近式到投影式發(fā)展。
因顯著提升掩模利用率和曝光精度,目前步進(jìn)掃描式光刻機(jī)為行業(yè)主流,占據(jù)光刻機(jī)市場(chǎng)份額的70%以上。
該類設(shè)備通過動(dòng)態(tài)掃描方式,使掩模版相對(duì)晶圓同步進(jìn)行運(yùn)動(dòng),在完成26mm×33mm曝光場(chǎng)的曝光后,再轉(zhuǎn)移至下一曝光場(chǎng),直至整個(gè)晶圓片曝光完畢。
進(jìn)入2025年,光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程明顯加快。
11月25日,拆分自SMEE的上海芯上微裝科技股份有限公司(AMIES)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)350nm步進(jìn)光刻機(jī)AST6200完成出廠調(diào)試和驗(yàn)收,并啟程發(fā)往客戶現(xiàn)場(chǎng)。
AST6200并非用于高端邏輯芯片,而是專為功率、射頻、光電子及Micro LED等場(chǎng)景量身定制的。
與此同時(shí),國(guó)產(chǎn)廠商在技術(shù)展示和產(chǎn)品落地層面亦動(dòng)作頻頻。
9月23日有消息稱,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司已宣布,其研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度Stepper (步進(jìn)式)光刻機(jī)順利出廠。
9月24日,在上海國(guó)家會(huì)展中心舉行的第二十五屆中國(guó)國(guó)際工業(yè)博覽會(huì)上,SMEE展臺(tái)首次公開展示了極紫外(EUV)投影微場(chǎng)曝光裝置,并披露了部分相關(guān)技術(shù)內(nèi)容。
在多家企業(yè)持續(xù)推進(jìn)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的背景下,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)正從成熟制程加速向更高技術(shù)層級(jí)邁進(jìn)。
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