河南
如果你今天打開手機，看到中國芯片產業被“卡脖子”，再回頭看看幾十年前中國光刻機幾乎和世界并肩起跑，可能會有點恍惚：這幾十年，我們到底經歷了什么？
上世紀八十年代，中國的光刻技術只比美國晚個七年；而現在，荷蘭的ASML已經在搞2納米的極紫外光刻機，我們還在啃28納米的骨頭。
整整20年技術代差，不是別人甩得快，是我們曾經自己主動放慢了腳步。這背后的癥結，其實早就寫在四個字里：造不如買。
那當年那條“買買買”的路，現在看，真的走得值嗎？
起點不低，咱也曾站在世界第一排
1965年，我們就做出了自己的第一臺接觸式光刻機，跟美國比也就差了四年。到了1985年，中國的分步光刻機樣機實現了3微米的精度，追上了美國1978年的水平。
那會兒我們和世界頂尖的差距頂多也就一個奧運周期，絕不是現在這樣兩代、三代的鴻溝。
那個年代的技術積累靠的是啥？靠的是“自力更生”四個字。中電科45所攻下了分布式投影這塊硬骨頭，清華大學也啃出了3微米的高精度光刻設備。
全國一盤棋，集中攻關，1977年還專門搞了場全國光刻機技術座談會，42家單位齊上陣，計劃經濟的那套“集中力量辦大事”在這件事上確實發揮了威力。
當時新華社甚至用了“世界第一方陣”來形容我們的技術水平，并不夸張。因為那時候國內的芯片制造基本靠國產光刻機撐著，進口只是補充，而現在呢？高端設備國產化率還不到5%。
“買買買”成了“斷脈刀”
進入八十年代，中國開始大規模對外開放，政策思路也從“自己造”慢慢變成了“買回來用”?！百Q工技”成了主旋律，意思是先通過貿易引進技術和設備，再談自主研發。聽起來挺合理，但問題是，這條路上很多人只走前半段，后半段壓根就沒走。
最典型的就是一批國家重大專項，當年的908工程和909工程，傾向于用外資設備直接搞生產，結果國產設備研發資金一砍再砍。
光刻機領域也沒逃過這波寒潮，原本在技術線上拼命爬坡的團隊，被迫轉行或者解散。像中電科45所的核心團隊，后來就遷去了上海，算是光刻機研發的“二次創業”。
與此同時，人才也開始流失，那會兒高校里的微電子專業成了冷門專業，畢業生寧愿去外資企業搬磚，也不愿意在國內研究所里熬項目。
原本起步不晚的國產設備企業，被“買辦資本”擠得透不過氣。而國外廠商把我們當成“現金奶?！保撡u的設備賣一半，不該賣的技術一個字都不透露。
根據數據，90年代中國光刻機專利申請量比高峰期暴跌了六成，而ASML卻靠著全球供應鏈整合，一步步做成了壟斷巨頭。
代差越來越大，“卡脖子”成了常態
到了今天，這些年積累的“技術債”終于集中爆發，上海微電子現在能量產的光刻機，精度是90納米，28納米的樣機還在路上。
而ASML人家已經能做2納米的極紫外光刻機了，按照美國高盛的估算，中國和世界頂級光刻技術的差距至少兩代，保守都得按20年來算。
為什么追不上？技術封鎖是一方面，核心零部件拿不到更是致命。EUV光刻機最關鍵的幾個部件：極紫外光源、高精度反射鏡、光學系統都被《瓦森納協定》擋在門外。
芯片制造環節被掐脖子的后果是成本飛漲，還要看人臉色，中芯國際想做7納米芯片，但沒有EUV設備，只能用多重曝光這種“曲線救國”的方法，結果工藝復雜、良率低、成本高，性價比比不過別人。
現在中國芯片自給率還不到三成，靠外面進口的那部分，動不動就有“斷供”風險。這其中最深的教訓，還是當初那四個字：造不如買。
自主創新，不是口號，是底氣
不管過去的路多繞，現在這筆賬必須得算清楚，光刻機的落后不是一朝一夕造成的，是一個國家在發展路線選擇上的長期搖擺。
早年那種“造不如買”的心態，的確幫我們省了點時間，省了點錢，但最終卻丟了控制權，丟了話語權。
好消息是，現在這場“技術補課”已經開始加速，國家大基金三期已經投了930億元，重點方向之一就是設備和材料。上海微電子的28納米光刻機樣機預計今年交付，雖然趕不上世界最前沿，但起碼已經重新上道。
哈工大在13.5納米光源上也取得了突破，華為在量子芯片方向的專利布局，或許能在將來實現“換道超車”。
但比技術更重要的是認知上的轉變，今天的中國，已經不再幻想靠市場換來核心科技。從“造不如買”走到“買也得造”，這是一次國家層面的價值觀逆轉。不
僅是光刻機，整個產業鏈都在朝著自主可控靠近，我們不怕起點低就怕方向錯。
有人說，中國如果早二十年堅持下去，今天就不會受這么多氣。這話雖然刺耳，但也點中了要害，技術不能靠買來的，產業話語權更不能靠別人恩賜。
早一天明白這個道理，就能少走一些彎路。
回頭看中國光刻機的發展史，從“領先七年”到“落后二十年”，每一個數字背后都是一次選擇的代價。今天的我們正在為昨天的短視買單，但也在為明天的自立埋下伏筆。
歷史不會撒謊，只會在輪回中提醒：該自己干的事，別指望別人會幫你干。走過“造不如買”的彎路，接下來這條“買也得造”的路，才是真正屬于中國芯的正道。
參考信息：
中國光刻機，從自強到困頓——2023-07-10 來源：新華社《財經國家周刊》
國產光刻機的突圍之路——2022-11-03 來源：央視新聞《面對面》欄目
“兩彈一星”精神與當代科技攻關——2021-05-28 來源：《求是》
高端光刻機技術發展與挑戰——2020-06-15 來源：《中國科學：技術科學》
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