荷蘭媒體CEO：中國與其拿錢研發光刻機，還不如把錢用在別的地方

荷蘭一家科技學院的董事在接受采訪時說，中國與其花大把錢去搞光刻機研發，不如把這筆錢用在別的地方。這話聽起來挺“理性”，甚至帶著點“為你好”的語氣。他說得沒錯，光刻機這東西確實難做。一臺EUV光刻機，零件超過十萬個，來自全球5000多家供應商，光是德國蔡司的鏡頭系統就卡住了無數國家。更別說整個技術體系被ASML、英特爾、臺積電這些巨頭牢牢攥在手里，專利壁壘高得像一堵墻。從這個角度看，一個國家想從零開始造出自己的高端光刻機，幾乎是在挑戰物理和工程的極限。

但問題在于，這位董事忽略了一個最根本的事實：有些事，不是“值不值得做”，而是“不得不做”。

芯片是現代工業的血液，而光刻機就是制造芯片的核心工具。沒有它，7納米以下的先進制程就無從談起，人工智能芯片、高性能計算、下一代通信設備都會被卡住脖子。這不是選擇題，而是生存題。你可以勸一個人別去爬珠峰，因為太危險、成本太高，但如果他家就在山那邊，不翻過去就活不下去，那他只能硬著頭皮上。

中國不是沒試過“干點別的”。過去幾十年，我們大量采購國外設備，依賴全球供應鏈，結果呢？一旦地緣政治風向一變，出口管制一收緊，整個產業鏈就面臨停擺風險。華為被斷供就是一個活生生的例子。那時候大家才真正明白，核心技術靠買是買不來的，靠求更是求不到的。

所以，中國投入巨資研發光刻機，不是為了“復制ASML”，也不是為了“爭一口氣”，而是為了掌握最基本的產業自主權。哪怕短期內看不到回報，哪怕要花二十年、三十年，也必須有人去做。因為一旦放棄，就意味著永遠被鎖在技術金字塔的底層，只能做組裝、代工、低端制造，永遠無法參與最高端的競爭。

那位董事還提到，日本當年靠逆向工程抄了美國GCA的光刻機，后來卻還是被ASML用浸潤式技術一舉反超。他似乎想用這個例子說明“模仿沒出路”。但這里有個關鍵區別：日本當年抄的時候，整個行業還在成長期，技術路線尚未固化；而今天，EUV已經成了事實標準，生態、專利、供應鏈高度集中，想繞開幾乎不可能。

正因為如此，中國的策略其實比“照搬”要復雜得多。一方面，確實在攻關LPP光源、精密光學、雙工件臺這些傳統路徑上的關鍵技術；另一方面，也在探索LDP、納米壓印等非主流路線。這不是盲目蠻干，而是在多條戰線上同時推進，試圖找到突破口。哪怕只有一條路走通，就能打破僵局。

更重要的是，光刻機研發帶來的溢出效應遠超想象。為了造這臺機器，中國在超高真空、精密控制、激光物理、材料科學等領域都取得了實質性進步。這些技術不會只停留在實驗室，它們會流向醫療設備、航空航天、高端儀器制造等多個行業。換句話說，就算最終沒能造出完全對標ASML的EUV，這場“長征”本身就已經在重塑中國的工業基礎。

有人說，與其死磕光刻機，不如發展chiplet（芯粒）、RISC-V架構或者新材料器件，繞開摩爾定律的限制。這種思路當然有價值，也是中國正在布局的方向。但問題是，先進封裝依然需要先進制程的芯片作為基礎，RISC-V也需要制造能力來落地。沒有制造，再好的設計也只是紙上談兵。

回到那位荷蘭董事的話——“不如拿錢干點別的”。這話如果出自一個普通學者之口，或許只是學術討論；但出自一個與ASML生態密切相關的人士之口，就難免讓人多想一層。ASML今天的地位，正是建立在全球多數國家“不干這事”的基礎上。如果大家都覺得“不劃算”“沒必要”，那它的壟斷就穩如泰山。

而中國偏偏不信這個邪。明知山有虎，偏向虎山行。這不是沖動，而是一種清醒的戰略定力。歷史上，所有實現技術躍遷的國家，都是在別人說“你做不到”的時候，默默把事情做成了。

所以，別用“性價比”去衡量光刻機的研發。這不是一筆經濟賬，而是一筆戰略賬、安全賬、未來賬。今天花3000億可能造不出完美的EUV，但如果不花這3000億，明天連說話的資格都沒有。

中國不怕慢，就怕停。光刻機這條路，注定漫長、孤獨、充滿失敗，但只要不停下腳步，就有希望。而那些勸你“干點別的”的人，或許只是希望你永遠留在原地，別去動他們的蛋糕。