首臺350nm步進式光刻機發(fā)運：中國的光刻機廠商，又多了一家

目前全球知名的光刻機廠商其實就4家，一家是荷蘭的ASML，一家是中國大陸的上海微電子，還有兩家是日本的尼康、佳能。

當然，大哥是ASML，覆蓋了高、中、低端，特別是EUV光刻機，全球只有他一家能夠生產。而尼康則達到了中端，至于佳能、上海微電子，則還是低端。

這三大企業(yè)，各自所處的位置，也給大家放一張圖，大家就會明白為什么ASML是王者了。

如下圖所示，只有ASML達到了EUV水平，而在浸潤式方面，依然還是ASML為王，尼康雖然也有，但出貨量極少，至于佳能、上海微電子，大家看圖就會明白的，不用我多說了。

光刻方案是目前大規(guī)模制造芯片的唯一方案，其它的像什么電子束、納米壓印等，都實現(xiàn)不了大規(guī)模制造，只能小批量，所以研發(fā)光刻機，是中國芯片產業(yè)繞不過的。

這些年，上海微電子在研發(fā)，還有新凱萊等也在研發(fā)，近日傳出消息，那就是有一家國產企業(yè)，研發(fā)出了首臺350nm步進光刻機，并且完成了出廠調試與驗收，啟程發(fā)往客戶現(xiàn)場。

當然了，說起來350nm的步進光刻機，按照這種第幾代來算，確實不算先進，屬于第二代產物，而目前像ASML早達到了第6代，并且是第六代EUV的第二代Hige NA EUV了。

但是，不能單純的看350nm這個分辨率，這臺350nm的步進式光刻機，主要是用于以碳化硅（SiC）新型芯片領域的。

要知道碳化硅（SiC）這種芯片，現(xiàn)在廣泛用于5G通信、新能源汽車、光通信、激光雷達、Micro LED，已經是越來越重要，被稱之為第二代半導體。

這些半導體的制造，對工藝要求不那么高，但是同樣需要高精度、高穩(wěn)定性的光刻工藝支持。

所以這臺步進式350nm的光刻機，就是為了這些芯片而生的，并不能單純以350nm分辨率來判定它就是低端的光刻機，好就片面了。

另外，芯上微裝這家公司，他是從上海微電子分拆出來的，繼承了上海微電子的一些技術和訂單，所以技術實力是非常強的。

接下來，就讓我們期待一下，這家國產光刻機廠商，再創(chuàng)更多的輝煌。