之前美國不讓用芯片之母，現在是中國不用了，國產EDA加速替代

EDA工具被視為芯片之母，因為如今的芯片都高度復雜，在設計方面早已引入EDA工具對芯片進行設計；芯片代工企業如臺積電等也是依賴EDA工具提供的數據對芯片進行生產，因此EDA工具對于芯片的重要性不言而喻。

美國企業則壟斷著EDA工具，全球前兩大EDA工具企業分別是美國的新思科技、Cadence，第三大企業則是西門子EDA，而西門子EDA其實當初也是收購美國企業而來，他們合計占有EDA市場超過八成的市場份額。

但是幾年前，美國卻限制中國一些企業以及研發機構使用EDA，由此中國芯片行業認識到美國諸多技術都不可靠，說不讓用就不讓用，誰知下一個是不是支持，由此國產芯片企業紛紛以國產的EDA工具替代。

經過數年的努力，國產EDA工具逐漸獲得認可，甚至連臺積電也開始采用中國大陸的EDA工具，凸顯出國產EDA工具在快速替代美國的EDA工具，這正不斷推動著中國EDA工具的技術發展，讓美國的EDA企業蒙受了巨額的損失。

日前新思科技公布的收入就顯示中國市場為它貢獻的收入比例已從高峰期的20%下滑至15%，Cadence從中國市場獲取的收入比例則從15%跌至10%以下，印證了中國芯片EDA工具確實在替代這些美國的EDA工具。

這幾年在美國的壓力下，中國芯片產業鏈都在快速發展，加速完善，在諸多方面都以國產芯片設備、國產材料替代，除了EDA工具之外，光刻膠、刻蝕機、晶圓等都取得了長足的進展，增強了國產芯片產業的自主研發實力。

今年下半年國內一家存儲芯片企業就傳出已建成了一條完全采用國產芯片設備的生產線，之前它曾因美國的影響而導致已采購的ASML光刻機在使用中面臨一些問題，凸顯出中國芯片產業鏈的完善速度快得驚人。

當然存儲芯片能完全采用國產芯片設備，在于存儲芯片考慮到可靠性等問題而一直在10納米以上工藝，而國產芯片產業鏈恰恰能提供這樣的設備，由此實現了全國產化的芯片生產線，這也推動了國產芯片設備企業的收入連連實現高速增長。

針對難以獲得EUV光刻機這個難題，中國芯片制造企業則創造性地開發出多重曝光技術，用現有的光刻機生產出接近7納米的工藝，知名的浸潤式光刻機之父林本堅認為中國芯片行業甚至能依靠現有的浸潤式光刻機開發出接近5納米的工藝，而中國芯片行業也在朝著這樣的方向努力。

中國芯片行業正在將美國的壓力變成動力，加速推進技術研發，而獲得更多的收入也確實助推了技術研發進程，由此各方面的技術都在快速突破，包括美國企業在內的諸多西方芯片設備企業則因此蒙受了巨額的損失，美國恐怕沒有想到它遏制中國發展先進芯片的圖謀非但沒能實現，還加速了中國芯片產業的技術升級，造成搬起石頭砸自己的腳的后果。