日本報復來了，高市即將下達禁令，一滴光刻膠都不賣給中國

高市早苗激怒中國后，中日之間的科技領域又起了波瀾。有消息說，日本高市早苗政府打算對中國下狠手，要全面禁止光刻膠出口到中國。雖然日本官方還沒正式宣布這個禁令，但行業里早就有了動靜，佳能、尼康、三菱化學這些日本光刻膠巨頭，已經悄悄收緊了對華供應渠道，高端光刻膠的交貨周期從之前的兩三個月拉長到了四到六個月，甚至第三方轉口貿易都被禁止了，明眼人都能看出來，這是“不官宣、只執行”的變相斷供。

日本之所以這么做，明擺著是故意報復。這段時間中日矛盾不斷升級，高市早苗之前在涉臺問題上發表錯誤言論，讓兩國關系變得很僵?，F在日本想拿光刻膠當“王牌”，用技術封鎖卡中國脖子，逼中方讓步。畢竟光刻膠這東西太關鍵了，被稱為“芯片制造的血液”，沒有它，芯片生產線根本轉不起來。而日本在這一領域的優勢確實嚇人，全球九成以上的高端光刻膠市場都被日本企業壟斷，從先進的EUV光刻膠到成熟的KrF光刻膠，日本不僅握有核心技術，產能優勢短期內也很難被撼動。在高市早苗政府看來，中國半導體產業對日本光刻膠的高度依賴，就是他們最硬的籌碼。

其實日本對中國半導體產業的打壓早有預謀。2025年3月，日本就出臺了23種半導體設備的管制清單，7月正式執行后，出口從備案制改成了逐案審批，連設備維修的遠程技術支持都給卡死了。到了2月，更是直接把42家中國企業列入“最終用戶黑名單”，不少中國工廠都陷入了“設備壞了沒人修”的困境。這次再拿光刻膠開刀，就是想配合美國主導的“芯片四方聯盟”，完成對華科技圍堵，一邊討好美國，一邊遏制中國發展，算盤打得倒是精。

可日本顯然低估了中國的反制能力和準備。中國向來講道理、守規則，但這不代表會任由別人拿捏，你敢出手，我就有精準有力的回應。首先是原料反制，光刻膠生產離不開稀土，而日本90%以上的稀土需求都得靠中國進口。2025年10月，中國商務部已經發布公告，對稀土相關物項實施更嚴格的出口管制，不光是原生稀土，連含中國稀土成分的加工產品和相關技術都納入了管控，12月1日就正式實施了。這意味著一旦日本光刻膠禁令落地，日本企業很快就會面臨“無米之炊”的困境，生產線停擺只是時間問題。

其次是市場反制。中國不只是全球最大的半導體消費市場，更是日本光刻膠企業的“營收支柱”。像信越化學、JSR這些日本龍頭企業，對華營收占比都超過三成，部分高端產品甚至達到五成以上。這么大一塊市場，日本企業說放棄就放棄，想再找一個同等規模的替代市場，至少得花三到五年時間。而且中國市場不會一直等，國內企業早就加速推進國產替代了。南大光電已經成了國內ArF光刻膠國產化的破冰者，產品覆蓋90nm-14nm制程，還拿到了中芯國際、長江存儲等頭部晶圓廠的認證；彤程新材更是被稱為中國唯一掌握高檔光刻膠研發技術的企業，大陸唯一一臺ASML曝光機就在他們那，五大類光刻膠都有布局。從數據上看，中國光刻膠國產率也在穩步提升，從2020年的15%升到2024年的32%，2025年有望突破40%，雖然高端領域還有差距，但進步速度已經很明顯了。

更重要的是，中國在技術研發上也沒停下腳步。2024年10月，我國首個EUV光刻膠標準《極紫外（EUV）光刻膠測試方法》開始公示，這個標準由上海大學、張江國家實驗室等單位共同起草，能填補國內在該領域的技術標準空白，給國產EUV光刻膠的性能評價提供統一標尺。清華大學和浙江大學的聯合團隊還全球首次提出了“點擊光刻”新方法，開發出的超高感光度光刻膠樣品，能在極低曝光劑量下實現高對比度成像，大大提高光刻效率。這些突破都說明，中國在光刻膠技術上正在一步步追趕，日本的封鎖反而倒逼我們加速構建自主可控的產業鏈。

說到底，日本的禁令就是一把“雙刃劍”，恐嚇別人的同時也會傷到自己。光刻膠產業是日本制造業的優勢領域，對華出口一直是重要的利潤來源。2024到2025年，光是半導體設備對華出口下滑，就已經讓尼康、東京電子等企業訂單腰斬，被迫減產裁員。現在再放棄光刻膠市場，相關企業的營收肯定會大幅下滑，大量產能閑置，這種損失短期內根本補不回來。而且全球化時代的產業鏈早就你中有我、我中有你，日本想靠技術壟斷和政治操弄搞封鎖，最終只會搬起石頭砸自己的腳。