最近幾天,一則令整個產業鏈心頭一緊的傳聞在國內外媒體和行業圈里瘋傳:日本或已對華光刻膠(photoresist)出口進行實質性管控,甚至“全面停供”的說法被反復提起。光刻膠,這個普通讀者聽起來無關痛癢的東西,卻幾乎決定 了 一座工廠命運。日本的斷供,讓它瞬間變成了輿論場上的關鍵詞。
PART.01
何謂光刻膠
光刻膠是光刻工藝中決定圖形成像質量、線寬控制、良率高低的核心化學材料。沒有合格的高端光刻膠,再好的光刻機也難以打出穩定的芯片良率。換句話說:光刻機是“刀”,光刻膠是“刃”——少了刃,刀再貴也砍不動高精度的電路。
而負責生產這些高端光刻膠的,是以日本企業為主的全球寡頭格局。行業報告與媒體多次指出,日本企業(如 JSR、Tokyo Ohka Kogyo、Shin-Etsu Chemical、三菱化學等)長期占據全球高端光刻膠市場的絕對份額——有媒體估算日本在整體市場占比超過 70%,在極紫外(EUV)高端光刻膠上甚至接近 90% 以上的主導地位。
因此,一旦日本以出口管控或企業自發限制對華供貨作為政治與貿易工具,短期內對中國高端芯片制造體系造成沖擊,確實是實打實、可以“掐死脖子”的那種沖擊。多家媒體與分析人士在近期都做出了類似警示:若高端光刻膠供應受限,中國相關晶圓廠在先進節點(尤其 7nm、5nm 及以下)產能與良率上會遭到嚴重影響。
PART.02
日本的優勢
日本的優勢不是一朝一夕堆出來的:幾十年積累的化學工藝、與半導體制造商(尤其日本、韓國與臺廠)的緊密合作、極高純度原料的長期供應鏈、以及對EUV/ArF等不同波段配方的掌控,構成了難以短期替代的壁壘。正因為如此,日本在“用貿易手段做政治”時,能拿出具有高影響力的籌碼——光刻膠就是其中之一。多個外媒與行業白皮書都強調:日本高端光刻膠在全球供應鏈中的不可替代性。
另一方面,日本也在平衡與盟友的安全考量、與本國企業風險暴露。對日企業而言,合規與政治風險、對關鍵國家的出口限制都可能是被動或主動的決策因素——這正是“技術寡頭+地緣政治”造成的雙重脆弱性。
PART.03
認清差距,奮起直追
重要的是:事情并非只有絕望。過去 2 年來,中國在光刻膠領域的投資與研發并非毫無收獲。TrendForce、Tom’s Hardware 等多家機構報道,中國光刻膠企業(包括一些專注于 ArF、KrF 等中低端及部分高端配方的廠商)已實現量產或拿到部分訂單,部分國產光刻膠在 ArF/ KrF 波段開始替代進口,用于成熟節點與部分中端產線。并有報道列舉了例如湖北某些企業(報道以 Hubei Dinglong 等為例)在 ArF、KrF 光刻膠上取得量產與訂單的進展。
國內也出現了“從0到1”的科研突破案例:高校與企業聯合攻關配方、工藝穩定性與材料純度控制,已有論文與產業化路標。然而——差距仍然很大,尤其是在EUV(極紫外)光刻膠這一最難啃的“硬骨頭”上。國際估算顯示,中國在高端 E UV 光刻膠的本地化率直到近期仍然極低(在 2022 年曾被估為不足 5%);從工藝復雜度、原料純度、配方可重復性、產線良率與長期穩定性來看,要完全替代日本廠商還需要相當長的時間與持續投入。
“至少還差二十年”這樣的論斷,聽起來刺耳但并非完全空穴來風。把時間拉長來看,關鍵因素包括:
1.基礎化學與材料積累的時間成本:能夠穩定生產高端光刻膠,不只是單一配方,而是一整套原料制備、純化、配方工程、長期可靠性驗證的體系,這需要反復驗證與大量資金與人才積累。
2.設備與測試生態:高端光刻膠需要與高端光刻機(光源、投影系統、浸潤技術等)協同優化,這一生態長期由荷蘭、日廠、歐美研究院占據。
3.產業鏈與供應商網絡:上游原料、溶劑、薄膜制備設備、高純度分析儀器等都需要可靠供應。缺一不可。
4.受制于外部政策的不確定性:即便短期內中國實現某些技術突破,外部限制(如設備、關鍵前體化學品)仍然可能成為新的“卡脖子”節點。
綜合這些,保守估計需要很長時間去全面關閉差距——因此“二十年”式的悲觀論調雖有夸張,但其背后的邏輯并非全然謬誤。我們必須正視長期性挑戰,而不是靠一句“攻克難關”就全然樂觀。
PART.02
憤怒是起點,自強是歸處
讀到這里,你可能會感到憤怒:為什么我們在如此關鍵的基礎材料上如此依賴外部?為什么幾十年來沒有把這類關鍵原料做到自給自足?這份憤怒是合理的,但憤慨不能代替行動。更應該把憤慨轉化為國家層面的清醒與自強:
激活科研體制、集中資源補短板、把那些“關鍵核心技術”做成國家名片,而不是讓一兩家外企的一個開關就能牽動千億級別產業的命運,這是這次事件帶給我們的最沉重但必要的教訓。
小小寰球,有幾個蒼蠅碰壁。嗡嗡叫,幾聲凄厲,幾聲抽泣。螞蟻緣槐夸大國,蚍蜉撼樹談何易。正西風落葉下長安,飛鳴鏑。
多少事,從來急;天地轉,光陰迫。一萬年太久,只爭朝夕。四海翻騰云水怒,五洲震蕩風雷激。要掃除一切害人蟲,全無敵。
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