美專家：中國人不可怕，可怕的是他們買了光刻機，卻不用來造芯片

美國專家驚呼：中國搶購光刻機卻不開工生產(chǎn)？背后藏著比芯片制造更驚人的戰(zhàn)略布局——用進口設(shè)備搭建自主技術(shù)生態(tài)，把西方封鎖變成創(chuàng)新跳板。

美國專家克里斯·米勒在其暢銷著作《芯片戰(zhàn)爭》中提出的一個觀點，至今仍在西方輿論場引發(fā)熱議，讓不少西方人士感到坐立難安。他直言：“中國人不可怕，可怕的是他們買了光刻機卻不是用來生產(chǎn)芯片。”

這番言論初聽之下充滿困惑，要知道一臺高端光刻機的造價高達數(shù)億美金，如此昂貴的精密設(shè)備，買回來不用于芯片生產(chǎn)，難道還有其他更重要的用途？這一疑問的背后，藏著中美半導(dǎo)體領(lǐng)域博弈的深層邏輯，也折射出中國應(yīng)對技術(shù)封鎖的獨特戰(zhàn)略布局。

要理清這一問題的來龍去脈，不得不從2018年美國開啟的半導(dǎo)體領(lǐng)域限制說起。當時中國科技企業(yè)尤其是通信領(lǐng)域的迅猛發(fā)展，讓美國感受到了前所未有的壓力，隨即在芯片出口環(huán)節(jié)直接設(shè)限，試圖遏制中國企業(yè)的發(fā)展勢頭。這一限制并非臨時舉措，而是逐步升級、層層加碼，形成了一套嚴密的封鎖體系。

2019年，美國的封鎖范圍進一步擴大，不僅自身停止向中國出口芯片相關(guān)設(shè)備，還對荷蘭展開施壓。荷蘭ASML公司作為全球唯一能制造高端光刻機的企業(yè)，其生產(chǎn)的EUV極紫外光刻機是制造7納米及以下先進制程芯片的核心設(shè)備，堪稱半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的“工業(yè)皇冠明珠”。

在美國的強硬施壓下，ASML被迫放棄向中國出口EUV光刻機，直接切斷了中國在先進制程芯片領(lǐng)域突破的重要路徑。面對這一困境，中國企業(yè)只能退而求轉(zhuǎn)向采購中端的DUV深紫外光刻機。

盡管DUV光刻機的精度不及EUV，但借助多重曝光技術(shù)，能夠生產(chǎn)出相對先進的芯片，且完全可以滿足汽車、家電等領(lǐng)域?qū)π酒瞥痰囊蟆?/strong>

美國的封鎖并未就此止步。2022年10月，美國出臺全新的半導(dǎo)體出口管制新規(guī)，限制范圍從設(shè)備出口延伸至人工智能芯片、相關(guān)生產(chǎn)工具，甚至對半導(dǎo)體領(lǐng)域的人才交流也實施了嚴格管控，試圖從全產(chǎn)業(yè)鏈層面阻斷中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

2023年至2024年，封鎖力度持續(xù)升級，在美方的持續(xù)施壓下，荷蘭政府開始嚴格審查光刻機出口許可，ASML旗下諸如NXT:2050i等稍先進的浸潤式光刻機，也被納入禁止出口中國的名單。

一邊是美國不遺余力地封堵，另一邊是中國企業(yè)抓緊時間囤積相關(guān)設(shè)備。數(shù)據(jù)顯示，2023年中國市場為ASML貢獻的銷售額占比一度接近一半，如此大規(guī)模的采購行為在西方人眼中顯得難以理解，甚至被視為“瘋狂之舉”。

在他們看來，中國現(xiàn)有晶圓廠的產(chǎn)能根本無法消化如此多的光刻機，這些超出實際需求的設(shè)備被大量采購后，并沒有立即投入生產(chǎn)賺取利潤，這一現(xiàn)象讓美國情報分析人員倍感焦慮，也讓克里斯·米勒等西方專家高度警惕。

一組組關(guān)鍵數(shù)據(jù)，逐漸揭開了中國采購行為背后的玄機。2023年中國從ASML采購的光刻機數(shù)量出現(xiàn)爆發(fā)式增長，尤其是第四季度，中國市場的銷售額占比直接飆升至49%。

當時ASML首席執(zhí)行官溫寧克雖公開表示會遵守各國法規(guī)，但面對中國這一重要客戶，并未停止相關(guān)交易，畢竟中國市場的份額對企業(yè)發(fā)展至關(guān)重要。

值得注意的是，中國的采購范圍不僅限于新設(shè)備，二手光刻機市場也成為重點布局領(lǐng)域，只要是具備使用價值的光刻機，無論年份長短，都會被納入采購清單。

與采購量激增形成呼應(yīng)的，是中國在光刻機技術(shù)領(lǐng)域的專利爆發(fā)。2020年至2023年，中國在光刻機相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的專利申請量增長了四倍之多；到2024年，中國持有的半導(dǎo)體相關(guān)專利數(shù)量已占到全球總量的55%左右。

這兩組數(shù)據(jù)的疊加，讓西方觀察家逐漸意識到，中國企業(yè)這種看似不計成本的飽和式采購，絕非單純?yōu)榱藬U大眼前的生產(chǎn)規(guī)模，而是帶有明確的戰(zhàn)略性技術(shù)積累目的。ASML的財報也從側(cè)面印證了這一點，2025年受管制政策影響，中國市場對其銷售額占比下滑至20%-30%，但此前數(shù)年囤積的設(shè)備，已足夠支撐中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)度過一段關(guān)鍵的發(fā)展期。

克里斯·米勒基于這些現(xiàn)象提出了“逆向工程論”，他在《芯片戰(zhàn)爭》及后續(xù)的公開演講中多次提及，認為中國大量采購光刻機的核心目的是開展逆向工程。

在他的認知中，中國企業(yè)會將這些昂貴的精密設(shè)備送入實驗室，而非生產(chǎn)車間，把設(shè)備當作“解剖對象”，通過拆解研究其內(nèi)部構(gòu)造、核心零件和技術(shù)原理，進而實現(xiàn)仿制，快速掌握光刻機核心技術(shù)以打破西方封鎖。

即便是將ASML的光刻機拆分成零件，單是其核心鏡頭的打磨工藝、雙工件臺的同步精度控制等關(guān)鍵技術(shù)，都不是簡單通過拆解就能掌握的，背后需要長期的技術(shù)積累和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同。

中國大量采購光刻機卻不全用于生產(chǎn)，真實的戰(zhàn)略布局遠比逆向工程更為深遠和系統(tǒng)。首先是構(gòu)建技術(shù)驗證平臺，國產(chǎn)替代的核心不僅是造出光刻機整機，更重要的是打造完整的配套生態(tài)，包括國產(chǎn)光刻膠、國產(chǎn)掩膜版、國產(chǎn)核心鏡頭等一系列零部件。

這些國產(chǎn)零部件研發(fā)完成后，需要一個成熟的標準平臺進行測試驗證，而采購的ASML光刻機就承擔了“考官”和“陪練”的角色。科研人員將國產(chǎn)零部件搭載到成熟的ASML設(shè)備上，測試其是否符合國際標準，精準定位缺陷并進行優(yōu)化改進，這一過程是構(gòu)建自主技術(shù)體系的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，而非簡單的模仿復(fù)制。

其次是進行戰(zhàn)略資源儲備。美國在國際合作中的反復(fù)無常，讓中國深刻意識到供應(yīng)鏈安全的重要性。誰也無法預(yù)料美國未來是否會進一步升級封鎖，甚至停止提供光刻機的維修服務(wù)，乃至禁止低端設(shè)備的出口。

在這樣的背景下，提前囤積足夠數(shù)量的光刻機，即便部分設(shè)備暫時無法投入使用，也是為未來可能出現(xiàn)的極端情況預(yù)留后手，保障半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基本運轉(zhuǎn)能力。

此外，這也是深耕成熟制程市場的戰(zhàn)略選擇。盡管高端制程芯片的研發(fā)受到限制，但14納米、28納米等成熟制程芯片的市場需求極為龐大，中國在這一領(lǐng)域的需求量位居世界第一。

新能源汽車、智能家電、工業(yè)控制、物聯(lián)網(wǎng)等諸多領(lǐng)域，對芯片的制程要求并不高，現(xiàn)有DUV光刻機完全能夠滿足生產(chǎn)需求。中國通過大規(guī)模采購DUV光刻機，全力提升成熟制程芯片的產(chǎn)能，憑借規(guī)模效應(yīng)和成本優(yōu)勢占據(jù)全球市場主導(dǎo)地位，這本身就是一種極具殺傷力的產(chǎn)業(yè)競爭策略。

克里斯·米勒真正感到恐懼的，其實是中國產(chǎn)學(xué)研一體化的推進速度，以及這種不按西方設(shè)定劇本出牌的發(fā)展模式。

中國并非在單純模仿，而是借助現(xiàn)有設(shè)備資源，搭建一套完全自主、即便脫離ASML也能正常運轉(zhuǎn)的半導(dǎo)體技術(shù)生態(tài)系統(tǒng)，這種系統(tǒng)性的突破能力，遠比單一技術(shù)的模仿更具威脅。

美國層層加碼的封鎖措施，短期來看確實給中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造了不少麻煩，中芯國際等企業(yè)的先進制程擴產(chǎn)計劃受到明顯阻礙。但從長遠來看，這一舉措更像是“七傷拳”，傷人的同時也嚴重損害了自身利益，其中ASML的處境最為典型。

作為全球光刻機領(lǐng)域的絕對霸主，失去中國這個最大的增長市場后，ASML的股價和未來發(fā)展預(yù)期受到重創(chuàng)。2024年下半年，隨著管制政策的收緊，ASML的股價出現(xiàn)劇烈波動，瑞銀等國際金融機構(gòu)紛紛下調(diào)對其的評級。資本市場看得十分清楚，將最大的客戶拒之門外，ASML后續(xù)的增長動力將嚴重不足。

更具戲劇性的是，美國的封鎖反而成為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化發(fā)展的助推力。在此之前，國內(nèi)晶圓廠為了保障生產(chǎn)穩(wěn)定性，更傾向于采購技術(shù)成熟的進口設(shè)備，國產(chǎn)設(shè)備廠商即便產(chǎn)品質(zhì)量達標，也難以獲得試用機會和市場空間。

而在美國封鎖導(dǎo)致進口設(shè)備短缺后，國內(nèi)晶圓廠紛紛將目光轉(zhuǎn)向國產(chǎn)設(shè)備，為國產(chǎn)設(shè)備廠商提供了寶貴的試錯機會和產(chǎn)業(yè)化驗證場景，加速了國產(chǎn)設(shè)備的迭代升級。

上海微電子（SMEE）的發(fā)展進程就是最直觀的例證。盡管與ASML仍存在技術(shù)差距，但上海微電子在28納米光刻機的研發(fā)上已取得實質(zhì)性進展，接近量產(chǎn)應(yīng)用階段。

除了光刻機整機，國內(nèi)相關(guān)企業(yè)在雙工件臺、激光光源、精密軸承等核心子系統(tǒng)的研發(fā)上也不斷突破，陸續(xù)傳來關(guān)鍵技術(shù)攻克的消息，自主化產(chǎn)業(yè)鏈正在逐步成型。

米勒擔憂的“可怕之處”正在逐步顯現(xiàn)，中國正在全力打造一條完整的“去美化”半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。一旦這條產(chǎn)業(yè)鏈徹底打通，即便只是在成熟制程領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全面自主，西方半導(dǎo)體設(shè)備廠商也將徹底失去中國這個龐大的市場。

更重要的是，中國產(chǎn)品向來以高性價比著稱，未來若中國制造的光刻機及相關(guān)設(shè)備推向國際市場，將對ASML等西方企業(yè)形成直接沖擊，重塑全球半導(dǎo)體設(shè)備市場的格局。

2026年正處于中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突圍的關(guān)鍵節(jié)點，未來五年直至2030年，將是決定產(chǎn)業(yè)格局的關(guān)鍵時期。中國并非急于一蹴而就造出EUV光刻機，而是穩(wěn)步推進DUV光刻機及相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈的自主化進程，只要徹底攻克DUV相關(guān)技術(shù)難關(guān)，全球芯片產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)有格局就將被重新改寫。

美國專家的恐懼，本質(zhì)上源于中國沒有按照他們設(shè)定的劇本應(yīng)對封鎖。中國既沒有因封鎖而崩潰，也沒有因買不到高端設(shè)備而放棄突破，反而通過一種西方難以理解的戰(zhàn)略布局，將采購的設(shè)備轉(zhuǎn)化為研發(fā)的基石，將外部的封鎖壓力轉(zhuǎn)化為自主創(chuàng)新的動力。

這種立足長遠、系統(tǒng)推進的發(fā)展思路，正是讓西方感到無力的核心原因，也彰顯了中國突破技術(shù)封鎖、實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)自主的堅定決心。