ASML的2025年財報上,中國市場占比33%的數字還在閃爍,2026年預測曲線卻直接砸向20%。從EUV禁運到DUV封鎖,再到停止設備維修,五年圍堵換來的不是對手倒下,而是一座正在成型的技術孤島。
曾幾何時,美荷兩國對中國獨立研發的光刻機技術給予了強烈批評,可當一門生意必須靠斷絕對手呼吸來維持利潤時,它就不再是商業,如今ASML的CEO終于說白了:限制加得越多,反而把別人逼得越發自力更生。
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美荷同步發聲,批評聚焦核心要點
美國與荷蘭的批評發聲并非偶然,二者雖立場略有差異,但核心訴求高度一致,均圍繞中國光刻機研發的推進表達不滿。
美國方面率先表態,稱中國獨立研發光刻機技術“破壞全球半導體產業規則”,指責中國的研發行為“打破現有技術平衡”,甚至暗示該技術研發可能“威脅相關國家安全”。
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荷蘭緊隨其后,呼應美國的相關言論,其官方及相關企業代表表示,中國光刻機研發“可能影響全球半導體設備市場秩序”,擔憂中國技術突破后沖擊現有市場格局。
兩國發聲的時間集中在同一時間段,形成同步批評的態勢,言論傳播后迅速引發行業內的廣泛討論,也讓外界更加關注中國光刻機研發的實際進展。
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美國的批評邏輯與背后考量
美國對中國光刻機研發的批評,背后是其對全球半導體技術主導權的維護,核心邏輯圍繞技術壟斷與產業控制展開。
美國一直占據全球半導體高端技術的領先地位,在光刻機領域,通過扶持本國企業及盟友企業,構建起技術壁壘,掌控著全球高端光刻機的供應與定價權。
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中國獨立研發光刻機技術,逐步打破了這種技術壟斷格局,讓美國擔心其在半導體領域的主導地位受到沖擊,進而影響其全球科技戰略布局。
美國在發聲批評時,并未提供明確的證據支撐其“安全威脅”的說法,僅以意識形態差異和產業競爭為由,對中國的研發行為進行指責。
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此外,美國還通過向荷蘭等盟友施壓,試圖聯合限制中國獲取相關技術和設備,進一步遏制中國光刻機技術的發展進程。
2025年5月,白宮人工智能事務負責人戴維·薩克斯曾針對荷蘭外長訪華提及的光刻機相關議題,向荷蘭發出警告,強調對中國的EUV光刻設備限制是美國“最重要的出口管制”之一。
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荷蘭的立場:平衡利益與外部壓力
荷蘭作為全球高端光刻機的主要生產國,其阿斯麥公司在全球光刻機市場占據主導地位,其對中國的批評,更多是平衡自身利益與美國壓力的結果。
荷蘭的光刻機產業高度依賴全球市場,中國是其重要的市場之一,近年來中國大陸已成為阿斯麥的最大市場,雙方存在深厚的商業合作基礎。
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但在美國的持續施壓下,荷蘭不得不做出妥協,一方面呼應美國的批評言論,另一方面逐步收緊對華光刻機出口限制,尤其是先進的EUV光刻機出口。
荷蘭官方表示,其批評中國光刻機研發,是擔心“技術擴散”影響自身產業優勢,同時也是為了回應美國的施壓,維護與美國的盟友關系。
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阿斯麥現任CEO富凱曾表示,西方需要在對華技術出口限制上找到平衡點,中國絕不會接受技術“卡脖子”,自主研發是必然趨勢。
此前,阿斯麥首席執行官彼得·溫寧克也曾多次表示不支持美國對中國的芯片限制,抱怨“在美國的壓力下,我們放棄的已經夠多了”。
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中國光刻機研發的背景與進展
中國之所以全力推進光刻機自主研發,核心原因是外部技術封鎖帶來的產業困境,長期以來,中國芯片制造企業依賴進口光刻機,面臨諸多限制。
在高端光刻機領域,中國曾長期無法獲得荷蘭阿斯麥的EUV光刻機,美國通過施壓荷蘭,阻止該設備對華出口,導致中國高端芯片制造面臨“卡脖子”難題。
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為打破這一困境,中國相關企業和科研機構加大研發投入,逐步攻克光刻機研發中的核心技術難題,從低端光刻機入手,逐步向中高端領域突破。
經過多年努力,中國已實現中低端光刻機的自主生產,能夠滿足部分芯片制造企業的需求,在高端光刻機領域也取得了階段性進展。
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中國的研發過程完全遵循國際規則,基于自身產業發展需求,通過自主創新實現技術突破,并未涉及所謂的“技術竊取”或“規則破壞”。
2024年1月,中方曾就美國強推“光刻機禁令”嚴正表態,反對美國泛化國家安全概念,以各種借口脅迫其他國家搞對華科技封鎖。
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批評背后的全球半導體格局博弈
美荷兩國對中國光刻機研發的批評,本質上是全球半導體產業格局博弈的體現,核心是技術主導權與市場控制權的爭奪。
全球半導體產業高度全球化,各國分工協作,形成了完整的產業鏈條,而光刻機作為核心設備,是產業鏈中的關鍵環節,直接影響各國在產業中的地位。
美國試圖通過維持技術壟斷,鞏固其在全球半導體產業中的主導地位,遏制中國等新興國家的產業崛起,確保自身科技優勢。
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荷蘭則在技術優勢與市場利益之間尋求平衡,既不想失去中國市場,又難以擺脫美國的壓力,只能在雙方之間做出妥協。
中國堅持自主研發,不僅是為了擺脫外部技術封鎖,更是為了完善自身半導體產業鏈,提升產業競爭力,推動全球半導體產業的多元化發展。
半導體是高度全球化的產業,在各國經濟深度融合的背景下,美方的霸道、霸凌行徑嚴重違背國際貿易規則,破壞全球半導體產業格局。
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各方回應與后續發展
針對美荷兩國的批評,中國相關部門及企業并未過多回應,而是始終堅持自主研發,穩步推進光刻機技術的突破與完善。
中國一貫主張相互尊重、和平共處,秉持相互尊重主權、互不干涉內政的立場,希望各國在半導體領域開展平等合作,而非搞技術封鎖與對抗。
中國駐荷蘭使館曾針對美國駐荷大使的不實指責表示,科技無國界,科技進步依賴各國合作與市場支撐,人為制造壁壘是一條走不通的死胡同。
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駐荷蘭大使徐宏曾表示,美國向荷蘭施壓阻止光刻機對華出口,是典型的將商業問題政治化,會對全球半導體行業發展帶來不良影響。
后續,隨著中國光刻機技術的不斷突破,美荷兩國的限制與批評并未停止,美國甚至試圖推動擴大對華光刻機禁售范圍,將DUV光刻機也納入限制行列。
面對外部壓力,中國始終堅持自主創新,不斷提升光刻機技術水平,同時積極與其他國家開展合作,推動全球半導體產業的健康發展。
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官方信源及鏈接
1. 中國駐荷蘭使館發言人就美國駐荷大使要求荷蘭政府禁止對華出口光刻機發表談話_人民網
鏈接:
http://world.people.com.cn/n1/2020/0119/c1002-31552134.html
2. 駐荷蘭大使徐宏接受金融日報專訪實錄 — 中華人民共和國外交部
鏈接:
https://www.mfa.gov.cn/gjhdq_676201/gj_676203/oz_678770/1206_679234/1206x2_679254/202001/t20200118_9340869.shtml
3. 美施壓荷蘭打擊中國芯片產業,外交部:搞“脅迫外交”又一例證!(環球網國際頻道)
鏈接:
https://world.huanqiu.com/article/48it1izPBpk
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