第二個“沃爾沃法案”誕生！這回標準是半導體，荷蘭是最大背鍋俠

時隔1年之后，美國又搞出第二個“沃爾夫方案”，這回成半導體

此次提交的法案名為所謂“硬件技術控制多邊協調法案”（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware，簡稱“MATCH法案”）。

不過我更喜歡稱呼他為“半導體沃爾夫法案”，就是美國兩黨國會議員再度提出一項試圖打擊對華芯片制造工具出口的立法，尤其針對來自包括荷蘭和日本在內盟友國家的相關出口。

無論是阿斯麥、東京電子，還是應用材料、科林研發以及科磊，它們的設備產品是制造從人工智能（AI）芯片到各類電子產品所用簡單元件的關鍵工具。多年來，美國一直與日本、荷蘭聯手，試圖阻止中國獲取最尖端的設備，在AI芯片生產領域對華“卡脖子”。

這回不光是自己對中國實施各種限制，盟友都被算進去了。

想起了當初沃爾夫方案，當時提出這個方案議員現在還活著，恭喜他有生之年見證到中國航天事業發展，可喜可賀

美國當初為了限制中國在航天事業發展，在2011年弄得那個沃爾夫法案。

里頭的內容有

禁止中美兩國之間任何與NASA有關或由白宮科技政策辦公室協調的聯合科研活動

禁止美國航天局所有設施接待“中國官方訪問者”。

搞得這些破東西就是為了限制中國在航天領域發展，可是這位做夢也沒有想到，中國航天事業沒有被限制，反而進一步完成自力更生。

我們有了空間站，自家的，而且宇航員定期去空間站！

只是沒有想到美國人到現在還沒有吸取教訓，繼續搞事情

為了進一步在科技領域遏制打壓中國，美國又開始搞事情

彭博社4月3日援引知情人士透露，美國國會參議院預計還將于本月晚些時候推出該法案的配套版本。

此舉的目標是讓這些外國公司也面臨與其美國競爭對手目前所受的同等、甚至更為嚴格的限制。具體措施包括禁止這些公司的工程師在中國境內的特定設施內從事設備維護和維修工作——而美國人員目前已被禁止從事此類工作。

其中最重要的措施之一，將是對阿斯麥所有浸潤式深紫外光刻機（浸潤式DUV）實施限制，此舉是在現有管制基礎上的進一步升級。現有的管制已禁止向中國出口最尖端的極紫外光刻機（EUV），荷蘭政府此前也已針對部分DUV設備實施了管制措施。

不知道這是針對中國，還是針對荷蘭，以及日本，后續服務沒有了，誰還會買人家東西

對于相關消息，阿斯麥方面拒絕就此發表評論。荷蘭貿易部的一名發言人則表示：“對于其他國家立法者所提出的立法草案，我們不便發表評論。”

該法案在眾議院的主要推動者、眾議員邁克爾·鮑姆加特納（Michael Baumgartner）在一份聲明中宣稱，該法案旨在“確保美國及其盟友步調一致，共同彌補現存的漏洞，捍衛我們在技術領域的領先優勢，并保障那些支撐著從武器系統到關鍵基礎設施等一切運作的供應鏈的安全。”

參議院配套法案的主要推動者、參議員皮特·里基茨（Pete Ricketts）則配合炒作稱，這項立法將有助于為美國企業營造一個所謂“公平的競爭環境”。

為了保證自己在科研領域的領先地位，美國現在連臉皮都不要了。不是自己想辦法搞，而是想辦法拖垮中國，不讓中國接觸到先進的科技產品

彭博社認為，上述措施所實施的管制力度，已超越了針對中國整體半導體產業所實施的常規管制。在某些特定案例中，美方此前已針對美國企業向相關設施供貨的行為實施了更為嚴厲的限制措施，而此次提出的法案將強制要求美國的盟國政府也采取同等力度的管制措施。

依照過去經驗，美國越要對中國搞這種限制，反而會激發起中國的自主研發的決心！雖然當前困難存在，但是反而會更加促成中國自力更生。

如果中國一旦在半導體領域取得極大突破，特別是光刻機方面，那么荷蘭阿斯麥這家就是麻煩了！就會丟掉中國偌大市場，荷蘭再度成為背鍋俠