四川
為搭建深度高效的智庫思想交流平臺，錘煉全員產業研究能力，雨前顧問日前舉辦了“雨前論壇暨產業研究專業能力競賽”。聚焦數字經濟、電子信息、醫藥能源、裝備制造四大領域，13位產業分析師深度剖析行業變革核心議題：從光刻機光學系統國產化破局、到工程塑料“以塑代鋼”技術躍遷、產業“內卷”治理路徑，直擊區域發展痛點與創新前沿。現將競賽PPT開放共享，為產業決策者提供參考。
作者：醫藥能源研究部 解曉倩
來源：雨前顧問
芯片制造的賽道上，光刻機是無可爭議的核心設備，而光學系統則是它的 “靈魂之眼”，直接決定著芯片制程的極限。
光刻機的三大核心系統包括光源、光學、雙工件臺，其中光學系統成本占比超 3 成（超 50 億美元），是實現高分辨率成像的關鍵。它分為照明系統（非成像，負責光束優化）與投影系統（成像，聚焦掩膜版圖案），一個 EUV 光刻機的光學系統總重可達 3.5 噸，精密程度可見一斑。
從產業鏈看，該領域呈現 “技術密集 + 國際壟斷” 格局：上游依賴肖特、蔡司等企業的超低膨脹玻璃與加工設備；中游核心元器件如高反射率反射鏡被蔡司壟斷；下游應用端，ASML 幾乎獨占 EUV、High-NA EUV 光刻機市場，上海微電子等國內企業則聚焦 DUV 領域。
國內外差距仍較顯著：在 EUV 反射鏡上，蔡司能做到 100 層鍍膜、反射率 65%，國內僅能實現 55% 反射率；CaF2 晶體純度、精密車床精度等基礎環節，國內也存在提純技術不足、關鍵部件依賴進口等問題。
不過，產業破局方向已明確：需從 “全鏈路突圍”，在光學材料、加工設備、設計軟件等領域同步升級，同時借鑒 ASML“控股 + 綁定” 模式，推動整機與核心系統協同，才能逐步打破國際壟斷，搶占光刻技術制高點。
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