“光刻機之父”林本堅：中國現有設備能造出5nm芯片，美國已承認

2023年，林本堅指著DUV光刻機說：“這玩意兒能造5納米。”華盛頓沒信，轉頭鎖死高端設備，以為掐住了中國脖子。

兩年后，美國半導體協會一份報告讓白宮沉默：中國真做到了。這記耳光，打的不是技術，是西方“離了我你就不行”的傲慢。

那個“不想變通”的老頭，說了句實話

如果林本堅是個聽話的人，今天的芯片世界可能還停在干式光刻時代。

1942年出生，在IBM干了22年，又在臺積電當了研發副總。這老頭一輩子就干一件事：跟光的波長死磕。當年全行業都在搞157納米干式光刻，燒了幾十億美元，路越走越窄。

只有林本堅，盯著一杯水發呆。

他提出“浸潤式光刻”：在鏡頭和晶圓之間加層水，把193納米的光波長折射成134納米。ASML信了，尼康沒信。結果ASML成了霸主，尼康成了路人。這就是林本堅的“頂級理解”。

2023年，他又說了句“逆耳忠言”。

他在接受采訪時把賬算得明明白白：EUV（極紫外光刻機）確實好，波長13.5納米，一次曝光就能搞定。但沒有EUV，日子就不過了？

并不是。

他指出了另一條路：多重曝光。

原理極其粗暴：既然光的波長不夠短，那就多刻幾次。就像用粗筆畫細線，我不畫一筆，我畫兩筆，中間留出的空白，就是我要的“細線”。

美國人聽不進去。他們的邏輯是：EUV是由于ASML壟斷的，ASML是聽美國的，所以中國=0。

這是一種典型的“技術傲慢”。他們忘了，物理學沒有國界，而逼上絕路的工程師，最擅長把“理論可行”變成“工程奇跡”。

林本堅當時就警告：“你們越封鎖，越會逼著中國搞出自己的全套方案。”

沒人信。直到華為Mate60的麒麟9000S出世，直到2025年中芯國際的生產線開始轟鳴。

那些嘲笑林本堅“老糊涂”的人，現在都沉默了。

笨辦法，也是“殺人技”

沒有EUV，怎么干5納米？

答案藏在華為公開的CN117751427A號專利里，也藏在中芯國際那些日夜不息的機臺里。

SAQP（自對準四重圖案化）。

聽著高大上，拆解開來，就是一種“極致的暴力美學”。

普通的DUV光刻機，極限分辨率是38納米。要做到5納米，得把光刻、蝕刻、沉積的步驟，重復四次。

第一刀，刻出骨架；第二刀，長出側壁；第三刀，去掉骨架；第四刀，再修細節。

這就像在米粒上雕花，不僅要雕，還得在同一個位置連雕四刀，刀刀不能偏。

有多難？

2016年，芯片巨頭英特爾試圖用類似的“多重曝光”技術沖擊10納米（Cannon Lake項目）。結果呢？良率低到發指，功耗高到爆炸，項目直接流產。英特爾由此失去了制程領先的王座。

連英特爾都搞不定的事，美國人當然覺得中國搞不定。

但他們算漏了兩點：良率的容忍度，和生存的渴望。

資料顯示，中芯國際利用ASML的1980Di或2050i型DUV光刻機，硬是把SAQP工藝跑通了。

代價是慘重的。

成本暴漲40%。每一次曝光都是錢，四次曝光就是四倍的機時。一次流片的費用高達3億元人民幣。

良率只有50%左右。相比臺積電90%以上的成熟良率，這一半的芯片出來就是廢品。

在商業邏輯里，這是賠本買賣，是“自殺”。但在生存邏輯里，這是“唯一的路”。

對于軍用芯片、服務器芯片，乃至高端手機芯片，“有沒有”是0和1的區別，而“貴不貴”只是0.1和0.2的區別。

只要能產出，哪怕是一半的良率，中國龐大的市場也能把成本攤平。

英特爾放棄，是因為它要賺錢；中國堅持，是因為由于我們要活命。

這就是林本堅看透的本質：技術難題可以用錢和人去堆，但戰略封鎖，只能靠頭鐵去撞。

美國承認的，不僅是芯片

2025年11月，靴子落地。

美國SIA的報告，與其說是“承認”，不如說是“止損”。

報告里寫得明白：中國在沒有EUV的情況下，利用DUV設備實現了5納米量產，速度比ASML預期的快了整整18個月。

這18個月，是無數中國工程師在實驗室里熬出來的，是用那3億元一次的流片費燒出來的。

美國人為什么要承認？

因為瞞不住了。

市面上的產品不會撒謊。拆開手機，顯微鏡下一看，電路圖清清楚楚。是不是5納米，是不是SAQP工藝，行家一眼便知。

這也意味著，美國精心構筑的“EUV防線”，被中國從側翼繞過去了。

他們原本的劇本是：封鎖EUV -> 中國止步7nm -> 差距拉大 -> 產業窒息。 現在的劇本是：封鎖EUV -> 中國死磕DUV -> 5nm搞定 -> 產業鏈全線去美化。

更諷刺的是，因為使用了SAQP工藝，中國對光刻膠、蝕刻機、沉積設備的需求量暴增。這些環節，正在瘋狂地進行國產替代。

林本堅在2023年還說過一句話：“美國不賣最好的設備，中國就會把次一級的設備用到極致，直到造出最好的設備。”

現在，這句話應驗了。

雖然5納米還不是最頂尖的3納米、2納米，雖然成本還高，良率還低。

但那又怎樣？

原子彈剛造出來的時候，也不是為了好用，是為了“我有”。

從這一刻起，全球半導體格局的底層邏輯變了。以前是“誰有EUV誰是爹”，現在是“誰能把手里這家伙什用到極限，誰就有話語權”。

這不僅僅是一塊芯片的突圍，這是對西方技術迷信的一次祛魅。

林本堅沒說錯，中國沒信邪，美國沒攔住。

這就夠了。

參考資料：

“光刻機之父”林本堅：中國現有設備能造出5nm芯片，美國已承認.趣說文娛.2025.11.08

華為四重曝光工藝專利公開，國產5nm芯片有希望了？.旺材芯片.2024.03.27

沒有EUV光刻機，怎么做5nm芯片？.騰訊科技.2024.07.01

中芯國際用DUV光刻機量產5nm芯片？工程師揭秘“四重曝光”背后的極限工藝.2025.11.20

中國5納米光刻技術獲突破，有望打破荷蘭技術壟斷？.浙江省互聯網產業聯合會.2021.7.14

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