北京
參考消息網1月9日報道 據臺灣《聯合報》1月6日報道，臺灣檢方偵辦臺積電2納米核心關鍵技術竊密案，查出前工程師陳力銘跳槽日本企業東京威力科創公司后，為得知“蝕刻機臺”量產測試數據，買通時任工程師吳秉駿、戈一平竊取參數配方，2025年起訴3人。檢方偵辦期間，臺積電另一名陳姓工程師涉竊取核心技術給陳力銘，東京威力科創盧姓員工也涉湮滅證據，對3人及東京威力追加起訴。
據報道，起訴指出，陳力銘偵查中坦承犯行，供出陳姓共犯，讓檢方順利查獲陳男，因此求處7年徒刑。陳姓共犯犯后態度欠佳，求處有期徒刑8年8個月。
盧姓員工知悉陳力銘遭臺積電發覺犯行后，刪除陳力銘上傳相關檔案，有妨害刑事案件調查行為，且犯后否認犯案，求處1年徒刑。東京威力公司于本案查證過程中，提供相關事證配合調查，對厘清案情尚有助益，求處罰金2500萬元新臺幣（1元新臺幣約合0.22元人民幣——本網注）。
報道稱，臺檢方指出，檢察官偵辦期間，發覺該公司云端硬盤內，尚存有臺積電核心關鍵技術項，也就是“14納米以下制程技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術”營業秘密資料，清查是陳姓員工竊取。
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