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幾十年來,電子器件通常采用兩級路由結(jié)構(gòu)來管理集成電路中產(chǎn)生的或終止的信號。近年來,路由層數(shù)增加到了五級。雖然這大大提高了電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)靈活性,但也帶來了更大的復(fù)雜性,并增加了完成項(xiàng)目所需的決策數(shù)量。
這種轉(zhuǎn)變是漸進(jìn)式的,而非革命性的。開發(fā)者們一步一步地尋找解決方案,克服遇到的障礙,逐步推進(jìn)。就像溫水煮青蛙的故事一樣,我們會(huì)逐漸適應(yīng)每一次變化,以至于只有當(dāng)我們回顧過去,對比現(xiàn)在和過去,才能真正意識到累積變化的巨大影響。
起點(diǎn)
就本文而言,布線“結(jié)構(gòu)”或“平臺”被定義為互連的所在位置。歷史上,這兩種平臺分別是集成電路 (IC) 本身的金屬布線和印刷電路板 (PCB) 上的金屬布線。它們都提供多層布線,以最大限度地提高連接性,同時(shí)兼顧增加布線層的成本。這里必須謹(jǐn)慎使用“層”和“級”這兩個(gè)術(shù)語,因?yàn)?IC 和 PCB 是兩個(gè)級別的互連,每個(gè)級別都可以包含多個(gè)布線層。
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直到最近,芯片和PCB這兩個(gè)層級之間的差異還足夠大,可以分別討論。芯片設(shè)計(jì)人員負(fù)責(zé)構(gòu)建芯片內(nèi)部的布線,而PCB設(shè)計(jì)人員則負(fù)責(zé)構(gòu)建連接集成電路與其他電路板組件的布線。
在這些層級以及所有其他層級上,線間距和層數(shù)之間都存在權(quán)衡。增加層數(shù)會(huì)增加成本,但可以減輕特定層級的布線壓力。“雖然增加層數(shù)可以降低布線密度,但也會(huì)增加圖形化的復(fù)雜性,并提高對橫向蝕刻效應(yīng)的敏感性,”Brewer Science公司光刻材料產(chǎn)品經(jīng)理Daniel Soden表示,“更大的線間距和更寬容的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)有助于平衡這些權(quán)衡。”
兩種方案太少
三項(xiàng)發(fā)展挑戰(zhàn)了這種簡單的方案:
性能的提升使得信號傳輸?shù)木€路比以往任何時(shí)候都更加重要。過長的線路會(huì)降低性能,而傳統(tǒng)的互連方案提供了兩種互連尺度——芯片尺度(線路尺寸以納米為單位)和PCB尺度(尺寸以微米和毫米為單位)。這些差異可達(dá)六個(gè)數(shù)量級。實(shí)際上,不存在介于兩者之間的任何中間狀態(tài)。
第二個(gè)發(fā)展趨勢是芯片功率的提升。當(dāng)功率達(dá)到千瓦級時(shí),產(chǎn)生的熱量更難散發(fā)。在舊式封裝中,主要的散熱路徑是通過引線框架傳遞到PCB上的金屬線路。更具挑戰(zhàn)性的情況是在芯片封裝頂部加裝散熱器。但事實(shí)證明,這種方法越來越不足以應(yīng)對散熱需求。
第三個(gè)發(fā)展趨勢源于芯片集成度不斷提高,這意味著每個(gè)芯片可以集成更多電路,而在較早的簡單封裝中,每個(gè)PCB上可以集成更多芯片。這加劇了功率問題,使得功率密度(即單位面積或體積的功率)的增長速度可能超過功率本身的增長速度。高功率密度會(huì)加劇散熱挑戰(zhàn),因?yàn)楦嗟臒崃勘仨殢母〉捏w積中散發(fā)出去。
封裝的助力
隨著芯片尺寸的增大,所需的I/O數(shù)量也隨之增加,而引線框架已被證明不足以滿足散熱需求。相反,倒裝芯片封裝將芯片翻轉(zhuǎn)過來,采用凸點(diǎn)而非引線框架,并且至關(guān)重要的是,它將芯片連接到封裝基板而非引線框架上。
基板本質(zhì)上是一種由有機(jī)材料制成的小型PCB,其尺寸比PCB上的精度更高。最簡單的基板只有一層,但也可以有多層,這使其成為一種全新的互連方式。
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基板現(xiàn)在已成為封裝設(shè)計(jì)的一部分。傳統(tǒng)上,封裝設(shè)計(jì)和芯片設(shè)計(jì)是分開的,彼此之間傳遞關(guān)鍵信息。
基板上的線路可以比PCB上的線路更密集。這有利有弊。更短的線路可以提高信號質(zhì)量,但更窄、更密集的線路則不然。散熱設(shè)計(jì)與引線框架版本類似,但基板上提供了更多的I/O接口,可以將熱量通過基板傳遞到PCB上。必要時(shí),仍然可以選擇使用散熱片(或更先進(jìn)的冷卻方式)。
只要面積和線間距允許,就可以在基板上安裝多個(gè)芯片。
堆疊式封裝
另一種顯而易見的提高封裝效率的方法是將多個(gè)芯片以3D方式堆疊起來。實(shí)現(xiàn)這種堆疊的互連方式是硅通孔(TSV),它允許信號在芯片之間垂直傳輸。與其他互連方式相比,TSV的靈活性較低,因?yàn)槊總€(gè)TSV只能傳輸一個(gè)信號。
雖然存在多個(gè)TSV,但它們并非可供特定路由算法利用的路由資源。TSV的位置可以靈活調(diào)整,但它們承載的信號是固定的。也就是說,選擇哪些信號位于不同的TSV上,是將大問題分解成小問題的整體劃分過程的一部分。對于某些芯片,例如HBM,這些信號可能顯而易見。但在大多數(shù)情況下,情況并非如此。
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芯片堆疊極大地增加了散熱難度,因?yàn)槲挥诙询B中間的芯片缺乏散熱路徑。在封裝內(nèi)僅包含單個(gè)芯片的情況下,熱量可以通過芯片的六個(gè)面中的任何一個(gè)散發(fā)出去,尤其是頂部和底部。然而,在這樣的堆疊結(jié)構(gòu)中,上下芯片會(huì)產(chǎn)生自身的熱量——即使相鄰芯片試圖將熱量向上或向下散發(fā),這些熱量仍然會(huì)傳遞到相鄰芯片。
如何有效地散熱一直是此類堆疊結(jié)構(gòu)的一大挑戰(zhàn)。堆疊結(jié)構(gòu)周圍的材料可能會(huì)發(fā)生變化,以便更多地從側(cè)面散發(fā)熱量,而不是僅僅依賴頂部和底部。
堆疊結(jié)構(gòu)的高度和強(qiáng)度取決于鍵合技術(shù)。目前,傳統(tǒng)的微凸點(diǎn)互連技術(shù)占據(jù)主導(dǎo)地位,但混合鍵合技術(shù)正在取得長足進(jìn)步。“混合鍵合是一種性能更高的解決方案——但成本也更高,”日月光集團(tuán)工程與技術(shù)推廣總監(jiān) Vikas Gupta 指出。
中介層構(gòu)成了第五層
幾乎與芯片堆疊技術(shù)同時(shí)發(fā)展的是2.5D集成技術(shù),該技術(shù)利用中介層作為中間“PCB”,其線間距比PCB或基板上的線間距小得多。多個(gè)芯片或芯片組可以安裝在中介層上,而不是PCB上。主要區(qū)別在于,只有封裝好的單元才會(huì)安裝在PCB上,而裸芯片則安裝在中介層或基板上。中介層上的線間距可以比基板上的線間距更小。
中介層可以是像PCB一樣的有機(jī)材料,也可以是硅材料。后者可以實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的尺寸,而前者成本更低。它們可以有多個(gè)布線層,目前大約有四層,但預(yù)計(jì)會(huì)增加到八到九層。如果沒有中介層,單個(gè)芯片或堆疊會(huì)將所有I/O信號從封裝發(fā)送到PCB。有了中介層,許多信號將不再經(jīng)過中介層。
僅通過中介層傳輸信號有兩種方法。顯而易見的好處是,原本可能位于同一塊PCB上的芯片現(xiàn)在可以位于封裝內(nèi)部,而且它們之間的連接完全隱藏起來。
不太明顯的好處是,原本的單片芯片可以分割成多個(gè)小芯片。“你正在拆解一個(gè)非常大的SoC,并試圖將其分割成更小的芯片和小芯片,”Synopsys公司SoC工程高級總監(jiān)Shawn Nikoukary說道,“這樣做是為了提高功耗、性能和面積(PPA)。”
原本可能保留在單片芯片上的內(nèi)部信號現(xiàn)在可以從一個(gè)小芯片輸出到另一個(gè)小芯片。中介層上的線間距比芯片本身的線間距要窄一些,但硅中介層仍然可以提供窄線和窄間距——盡管它們的電阻可能很高。
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隨著中介層厚度的增加,機(jī)械翹曲問題成為一大挑戰(zhàn),而機(jī)械翹曲是由多層材料熱膨脹系數(shù)不同的問題引起的。“金屬層厚度約為 1.5 至 2.0 微米,”聯(lián)電先進(jìn)封裝總監(jiān) Pax Wang 解釋道,“硅襯底上的介質(zhì)層總厚度約為 15 至 20 微米。傳統(tǒng)的硅工藝會(huì)顯著增加晶圓翹曲。”
成本也是一個(gè)挑戰(zhàn),硅中介層(線間距最小)的成本高于有機(jī)中介層。如果襯底設(shè)計(jì)規(guī)則允許,放棄中介層而直接使用襯底或許有所幫助。“用襯底代替中介層將是一種更具成本效益的解決方案,”Wang 表示,“襯底的線間距約為 25 至 50 微米。相比之下,有機(jī)中介層的線間距約為 2 至 5 微米,這使得中介層架構(gòu)對于高性能計(jì)算應(yīng)用仍然具有很高的實(shí)用價(jià)值。”
孤島瓦解
五層互連系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證過程比幾十年前復(fù)雜得多,過去芯片和封裝設(shè)計(jì)師各自獨(dú)立工作。雖然PCB設(shè)計(jì)仍然是獨(dú)立的,但五層互連中有四層位于封裝內(nèi)部,因此整個(gè)封裝的內(nèi)容必須一起設(shè)計(jì)和驗(yàn)證。
即使是像封裝是否需要蓋子這樣看似微不足道的問題也必須進(jìn)行評估,尤其是在規(guī)劃散熱方案時(shí)。“有些客戶希望封裝帶有蓋子,”Amkor負(fù)責(zé)芯片/FCBGA集成的副總裁Mike Kelly表示,“這對于提高機(jī)械強(qiáng)度非常有利,尤其是在測試和組裝車間搬運(yùn)方面。但其他客戶已經(jīng)不得不放棄蓋子,直接將散熱方案放在芯片背面。”
在架構(gòu)設(shè)計(jì)的早期階段,這些互連層級提供了最大的靈活性。如果設(shè)計(jì)過程涉及拆分原先的單片設(shè)計(jì),最簡單的方法可能是從模塊層面入手,確定拆分的位置。但各層級的布線資源對布線性能有著顯著的影響。某些分區(qū)的布線性能會(huì)優(yōu)于其他分區(qū)。
還有更多需要驗(yàn)證的內(nèi)容
驗(yàn)證工作從早期階段就開始了,其范圍遠(yuǎn)不止布線性能。“首先要進(jìn)行結(jié)構(gòu)材料分析,例如 RDL 堆疊要求、材料堆疊及其特性,”日月光集團(tuán)高級總監(jiān)曹立宏表示,“然后,目標(biāo)是進(jìn)行預(yù)分析,包括布局規(guī)劃、翹曲分析和電學(xué)仿真。”
新思科技 SoC 工程高級工程師 Satya Karimajji 對此表示贊同。“你可以關(guān)注架構(gòu)層面:功耗是多少?熱通量是多少?我們可以預(yù)期采用哪些散熱方法?評估芯片級的熱完整性也很有幫助。我們可以通過優(yōu)化所用材料、模塊布局、堆疊方式等來改進(jìn)散熱設(shè)計(jì)。”
但這不僅僅關(guān)乎芯片本身,還應(yīng)包括多層機(jī)械封裝。 “另一個(gè)層面是封裝,也就是封裝體和PCB所在的位置,以及空氣流動(dòng)——或者液冷,或者我們采用的任何散熱管理方式,”Nikoukary補(bǔ)充道。
由于這些額外的考量遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了功能驗(yàn)證的范疇,因此該流程需要多物理場工具。這些考量過去都是單獨(dú)處理的,現(xiàn)在它們已成為整個(gè)芯片設(shè)計(jì)流程的一部分。
無論是由于更高的集成度還是單片解耦,各個(gè)芯片都將像以前一樣擁有各自的設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)。只是在確定更高層架構(gòu)之前,它們的規(guī)格無法確定。設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)可以獨(dú)立地開發(fā)各自的芯片或芯片組,但集成商必須將這些單獨(dú)的設(shè)計(jì)整合起來,確保它們能夠協(xié)同工作。
集成團(tuán)隊(duì)的任務(wù)不僅包括驗(yàn)證功能,還包括驗(yàn)證信號完整性、電源完整性、抗翹曲等物理特性的魯棒性以及整體散熱性能。這些驗(yàn)證之前已經(jīng)通過估算完成。現(xiàn)在需要進(jìn)行最終驗(yàn)證,以確認(rèn)設(shè)計(jì)結(jié)果。
電源涌入
互連層的增加也為更精細(xì)的電源傳輸和信號質(zhì)量方案提供了可能。過去,電壓調(diào)節(jié)僅限于系統(tǒng)級,通過導(dǎo)線將電源輸送到電路板;而現(xiàn)在,電壓調(diào)節(jié)正盡可能地靠近芯片,包括將電壓調(diào)節(jié)器置于封裝內(nèi)部。它們可以安裝在基板或中介層上。
使用去耦電容(去電容)來緩沖電壓波動(dòng),也能提高信號完整性。在較早的單芯片中,這些去電容通常位于PCB上靠近調(diào)節(jié)器和芯片的位置(可能采用小型片上金屬-氧化物-金屬 (MOM) 或金屬-絕緣體-金屬 (MIM) 電容)。在先進(jìn)的封裝中,這些去電容可以移至封裝下方、基板上或中介層上。新技術(shù)也使得它們能夠集成到基板或中介層的核心層中。
換句話說,這些互連層級——芯片、堆疊層、中介層、基板、PCB——都為將電源和去電容電路更靠近芯片提供了機(jī)會(huì)。目前通常不會(huì)在所有五個(gè)層級都采用這種設(shè)計(jì),但未來為了進(jìn)一步提升性能極限,這種可能性依然存在。
多年發(fā)展的成果
與其說這是一次革命性的變革,不如說這是一個(gè)回顧過去、審視多年漸進(jìn)式改進(jìn)成果的機(jī)會(huì)。每一次改進(jìn)都帶來了各自的挑戰(zhàn)。然而,綜合來看,我們處理簡單、傳統(tǒng)的芯片和新型復(fù)雜芯片的方式截然不同。
這種五層結(jié)構(gòu)或許會(huì)影響我們?nèi)粘i_發(fā)新芯片的決策,也或許不會(huì)。但至少,它讓我們對芯片的靈活性和復(fù)雜性增長的程度有了更清晰的認(rèn)識。這種思考方式在架構(gòu)層面尤為重要,因?yàn)樵诩軜?gòu)層面,所有層級都可能發(fā)揮作用。
https://semiengineering.com/an-explosion-in-interconnect-complexity/
(來源:編譯自semiengineering)
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