中微公司：2025年LPCVD和ALD設備營收暴漲224.23%

1月23日晚間，國產半導體設備大廠中微公司披露了2025年業績預告，經財務部門初步測算，預計2025年營業收入約123.85 億元，同比增長約 36.62%。

其中，2025 年刻蝕設備銷售約98.32億元，同比增長約 35.12%； LPCVD 和 ALD 等半導體薄膜設備收入5.06 億元，同比增長約 224.23%。

預計歸屬于母公司所有者的凈利潤為 20.80 億元至 21.80 億元，同比增長約 28.74%至 34.93%；預計扣除非經常性損益的凈利潤為 15.00 億元至 16.00 億元，同比增加約8.06%至15.26%。

對于本期業績變化的主要原因，中微公司解釋稱：

2025 年度業績預計較上年同期增長的主要原因如下：

1. 公司主營產品等離子體刻蝕設備作為半導體前道核心設備之一，市場空間廣闊，技術壁壘較高。公司的等離子體刻蝕設備在國內外持續獲得更多客戶的認可，針對先進邏輯和存儲器件制造中關鍵刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝和先進存儲器件超高深寬比刻蝕工藝實現量產。

公司在新產品開發方面取得了顯著成效，近兩年新開發出十多種導體和介質薄膜設備，目前已有多款新型設備產品進入市場，其中部分設備已獲得重復性訂單，LPCVD 設備累計出貨量突破三百個反應臺，其他多個關鍵薄膜沉積設備研發項目正在順利推進；公司 EPI 設備已順利進入客戶端量產驗證階段。公司持續保持國際氮化鎵基 MOCVD 設備市場領先地位，積極布局用于碳化硅和氮化鎵基功率器件應用的市場，并在 Micro-LED 和其他顯示領域的專用MOCVD 設備開發上取得了良好進展，幾款 MOCVD 新產品進入客戶端驗證階段。公司新型八寸碳化硅外延設備、新型紅黃光 LED 應用的設備已付運至國內領先客戶開展驗證，目前進展順利。

公司在南昌約 14 萬平方米的生產和研發基地、上海臨港的約18 萬平方米的生產和研發基地已經投入使用，保障了公司銷售快速增長。公司持續開發關鍵零部件供應商，推動供應鏈穩定、安全，設備交付率保持在較高水準，設備的及時交付也為公司銷售增長提供有力支撐。公司特別重視核心技術的創新，始終強調創新和差異化并保持高強度的研發投入，同時公司運營管理水平持續提升，對產品成本及運營費用的控制能力有效增強。

2. 歸母凈利潤同比增加 4.64 億元至 5.64 億元（增加約28.74%至34.93%）的主要原因：

（1）2025 年營業收入增長 36.62%下，毛利較去年增長約11.45億元。

（2）由于市場對中微開發多種新設備的需求急劇增長，2025 年公司顯著加大研發力度，以盡快彌補國產半導體設備短板，積極趕超，為長期持續增長打好基礎。2025 年公司研發投入約 37.36 億元，較去年增長 12.83 億元（增長約52.32%），

2025 年研發投入占公司營業收入比例約為 30.16%，遠高于科創板上市公司均值。2025 年研發費用約 24.72 億元，較去年增長約 10.54 億元（增長約74.36%）。

（3）由于二級市場股價波動以及公司出售了部分持有的上市公司股票，經評估師初步評估，公司 2025 年計入非經常性損益的股權投資收益為6.11 億元，較上年同期的股權投資收益的 1.98 億元增加約 4.13 億元。

3. 扣非后歸母凈利潤同比增加 1.12 億元至 2.12 億元（增加約8.06%至15.26%）的主要原因：主要由于 2025 年營業收入增長36.62%，毛利較去年增長約 11.45 億元，以及 2025 年研發費用較去年增長約 10.54 億元。

編輯：芯智訊-林子