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SK hynix Inc.是世界領先的半導體存儲器制造商。公司在DRAM和NAND閃存領域占據全球領先地位,并通過戰略性擴張,正成功地從專業的存儲器公司轉型為涵蓋存儲器、系統半導體和先進封裝等領域的綜合半導體解決方案提供商。公司以技術研發為驅動,積極布局人工智能(AI)、大數據和云計算等高增長市場,致(力于成為未來數字生態的核心基石。
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里程碑 (1983-2025)
1983-02 :現代電子工業有限公司(HEI)成立。
1984年 :生產16kB SRAM。
1985-10 :量產256kB DRAM。
1988-01 :開發1MB DRAM。
1989-09 :開發4MB DRAM。
1991-03 :開發4MB DRAM。
1992-11 :開發16MB DRAM。
1995-10 :全球首個開發256MB DRAM。
1996-12 :公司上市。
1997-05 :全球首個開發1GB SRAM。
1998-09 :開發64MB DRAM。
1999-03 :出售封測公司金朋科技(CHIPPAC)。
1999-10 :合并LG半導體有限公司。
2001年 :開發出世界第一顆128MB圖形DDR SDRAM。
2001-08 :Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. 更名為 Hynix Semiconductor Inc.。
2002-08 :在世界上首次開發高密度大寬帶256MB的DDR SDRAM。
2002-11 :出售TFT-LCD業務子公司HYDIS給京東方。
2003-08 :宣布發表行業第一個1GB DDR2。
2004-10 :將系統IC業務出售給花旗集團,成為專業的存儲器制造商。
2007-11 :業界最先開發1GB GDDR5 DRAM。
2012-02 :韓國SK集團收購海力士21.05%的股份入主。
2012-03-23 :更名為SK hynix Inc.。
2013-08 :收購臺灣銀燦科技(Innostor)的eMMC控制器部門。
2014-05 :收購美國閃存陣列供應商Violin Memory的PCle card部門。
2014-06 :收購白俄羅斯Softeq Development FLLC的固件業務。
2016年 :量產18nm DRAM。
2017年 :開始量產72層3D NAND閃存。
2018年 :量產1Ynm DRAM;宣布投資韓國龍仁半導體集群。
2019年 :量產1Znm DRAM;開始量產128層4D NAND閃存。
2020-10 :以90億美元收購英特爾NAND閃存及固態硬盤業務。
2021年 :量產1αnm DRAM;開始量產176層4D NAND閃存。
2022年 :開始量產HBM3高帶寬內存;宣布在韓國建設M15X晶圓廠和先進封裝集群。
2023年 :量產1βnm DRAM;開始量產238層4D NAND閃存;宣布投資美國印第安納州先進封裝基地。
2024年 :量產HBM3E高帶寬內存;量產1γnm DRAM;完成收購英特爾NAND業務后的整合,成立獨立運營的閃存子公司“Solidigm”。
2025年 :開始量產HBM4技術驗證樣品;宣布下一代300層以上NAND技術路線圖。
[收購] 1993年 :收購美國HDD生產公司Maxtor公司。
[出售] 1999年3月 :出售封測公司金朋科技CHIPPAC。
[收購] 1999年10月 :收購LG半導體有限公司。
[出售] 2002年11月 :出售TFT-LCD業務子公司HYDIS給京東方。
[出售] 2004年10月 :將系統IC業務出售給花旗集團,專注于存儲器。
[收購] 2012年6月 :收購意大利Ideaflash S.r.l.,并于歐洲建立閃存研發中心;收購Link_A_Media Devices,推出自有品牌固態硬盤主控。
[收購] 2014年5-6月 :收購美國Violin Memory的PCle card部門及白俄羅斯Softeq的固件業務,加強NAND競爭力。
[收購] 2020年10月 :戰略性收購英特爾NAND閃存及固態硬盤業務,極大增強公司在NAND市場的規模與技術組合。后續成立獨立子公司 Solidigm 進行運營。
[合資/剝離] 2021年 :將部分8英寸晶圓代工業務剝離,與Key Foundry等公司進行戰略合作,使自身更專注于12英寸先進制程。
[投資/合作] 2022-2024年 :與臺積電等公司加強合作,共同開發HBM3/HBM3E與先進邏輯芯片的封裝技術(如CoWoS)。
[投資] 2023年 :投資美國AI芯片初創公司 Sapeon ,布局AI算力生態。
[收購] 2024年 :收購韓國AI芯片解決方案公司 Lynx Lab ,強化系統半導體(如AI加速器)設計能力。
自2014年業務重組后,SK海力士持續深化多元化戰略。目前,公司業務核心已從DRAM、NAND、CIS三大事業部,演進為以 AI存儲器 為增長引擎, 傳統存儲器 為穩定基礎,并積極拓展 系統半導體 和 定制化解決方案 的多元格局。
存儲器業務 :
DRAM :產品線涵蓋DDR5/LPDDR5、LPDDR5X、GDDR6/GDDR7、HBM3/HBM3E等,重點滿足服務器、AI、高端PC和顯卡需求。2024年,高附加值DRAM產品(如HBM)營收占比顯著提升。
NAND Flash :通過子公司 Solidigm 運營,提供包括企業級/消費級SSD、eMMC、UFS等在內的全系列解決方案。重點發展高層數3D NAND技術。
系統半導體與代工業務 :CMOS圖像傳感器(CIS)持續為智能手機、汽車提供解決方案。同時,公司大力發展基于8英寸和12英寸的晶圓代工服務,專注于DDI、PMIC以及MCU等特色工藝。
先進封裝 :將TSV(硅通孔)等封裝技術視為核心競爭力,大規模投資HBM和Chiplet(小芯片)相關的高端封裝產能。
SK海力士通過持續的巨額投資和工藝微縮,維持技術領先地位。目前生產設施主要集中在韓國利川、清州和中國無錫,并正積極在韓國龍仁和美國印第安納州建設新基地。
韓國利川集群 :
M10 :早期12英寸DRAM產線。現已轉型為特種存儲器和CIS的研發與生產線。廠房很小

M14 :12英寸晶圓廠,主要生產先進制程(1αnm, 1βnm)DRAM。
M15 :2018年投產的12英寸晶圓廠,是先進DRAM和HBM的核心生產基地。
M15X (極速擴建線) :2022年宣布建設,專注于AI存儲器(如HBM)的產能擴張,中間層推遲擴產,預計11月份完工
韓國清州集群 :
M8 :8英寸晶圓廠,專注于CIS、DDI、PMIC等系統半導體產品。2022年設備完成搬遷(無錫海辰);目前擬改造為HBM封裝產線
M11/M12 :12英寸晶圓廠,主要生產100層以上(如176層、238層)的4D NAND閃存。
中國無錫集群 :
HC1&2 :SK海力士海外最重要的DRAM生產基地,經過多次擴產和技術升級,目前主要生產1Znm、1αnm等先進制程的移動DRAM和服務器DRAM,月產能超過19萬片,是全球DRAM供應鏈的關鍵環節。
新投資與未來規劃 :
龍仁半導體集群 :自2018年啟動,正在進行大規模分期建設,將是公司未來最先進的存儲器研發和制造中心。
美國印第安納州先進封裝基地 :2023年宣布投資建設,計劃于2028年投產,主要服務于北美市場的AI存儲器高端封裝需求。
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