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      科技深度研究者
      山西
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    8. 【日月光】先進封裝趨勢(2.5D、3D、CPO、異質(zhì)集成)
    9. “雙碳”目標(biāo)下的火電求生記:一場關(guān)乎價值的蛻變
    10. 【yole】先進封裝和CPO封裝現(xiàn)狀
    11. 光伏在新能源中將更具優(yōu)勢?光伏未來發(fā)展究竟如何。
    12. 【深度解讀】KLA發(fā)布2025技術(shù)路線圖
    13. 【UMC】特色工藝介紹

      【UMC】特色工藝介紹

      2025-11-22 11:47
    14. 【華虹】ICCAD eNVM工藝介紹
    15. Candela 8520 SiC GaN檢測設(shè)備
    16. 【更正】先進工藝(以7nm為例)正顯影、負(fù)顯影方案設(shè)計
    17. [TECHCET] 先進工藝(Logic DRAM 3D NAND)中CMP材料趨勢
    18. 風(fēng)電行業(yè)未來幾年會走向何處?
    19. 全球氮化鎵(GaN)半導(dǎo)體器件市場報告,預(yù)測到2030年(已上傳知識庫)
    20. 風(fēng)車島浸沒式照相機的故事
    21. TSMC 工藝組合

      TSMC 工藝組合

      2025-11-06 21:45
    22. 【LAM】GAA/3D DRAM 3D NAND繞不開的工藝:ALD與ALE技術(shù)介紹PPT
    23. 【LAM】GAA/3D DRAM 3D NAND繞不開的工藝:ALD與ALE技術(shù)介紹(橫向集成ALE ALD如何搭配?)
    24. 高壓 LDMOS 工藝介紹、process 挑戰(zhàn)及STM經(jīng)驗借鑒
    25. 【ASML】0.55NA EUV的成像與套刻技術(shù),分享如何解決高NA的關(guān)鍵難題
    26. SEMICON-ASML演講:突破未來光刻技術(shù)的障礙;EUV光源功率達(dá)到740W,未來突破1000W
    27. 光刻正顯影與負(fù)顯影工藝解析及 M0 通孔工藝方案設(shè)計
    28. 上一篇東莞晶圓廠文章已被刪,文檔已上傳免費知識庫
    29. 【2025年P(guān)wC】2026 全球半導(dǎo)體行業(yè)展望:AI 驅(qū)動下的需求變革與供應(yīng)鏈重構(gòu)
    30. 從一粒沙開始:一片晶圓如何承載全球科技
    31. 【IBS】5萬片2nm晶圓線投資175億美元設(shè)備投資,到底誰在陪臺積電三星玩?(附臺積電三星先進制程客戶)
    32. 可控核聚變各類工藝發(fā)展情況
    33. 【賽靈思】ISP 處理器定制化時代來臨:從自拍美拍到工業(yè)檢測:ISP為什么越來越 “挑活”?
    34. 【2025年歐盟報告】歐洲半導(dǎo)體戰(zhàn)略:核心要點、動因邏輯與現(xiàn)實挑戰(zhàn)
    35. 【HITACHI】如何解決EUV光刻膠CD-SEM測量高重復(fù)性和低收縮問題
    36. 【IBS 預(yù)測】拆解半導(dǎo)體 CAPEX:數(shù)據(jù)中心硬撐需求,2030 年≤2nm 晶圓值 1066 億,封裝成新增長點
    37. 10月份 全球Fab進展跟蹤
    38. 【CICC 84頁報告】10nm以下FinFET的工藝就必須DTCO(尤其是光刻工藝)
    39. 【IMEC】193i和EUV光刻對比
    40. JSR:20nm以下工藝中193nm光刻膠選型及光刻方案的介紹
    41. 【3D模型】22nmPlanar 邏輯工藝Flow(128頁)
    42. 【3D模型】22nm FinFET 工藝 Flow詳解
    43. 【3D剖面】14nm FinFET 工藝Flow
    44. 5nmFinFET工藝中CMP process挑戰(zhàn)與一種可能的工藝方案設(shè)計
    45. 2025年8月ASML對2025-2027年EUV需求量的預(yù)測,其中臺積電占比40%,三星占比23%
    46. 3nm工藝詳述:突破物理極限的革命性技術(shù)——納米片場效應(yīng)晶體管(NS-FET)的全面解析與產(chǎn)業(yè)影響
    47. 一種基于193i光刻機的5nm FinFET工藝光刻方案——從鰭片到M1層的技術(shù)路徑與關(guān)鍵挑戰(zhàn)
    48. 格芯global Foundry:20nm節(jié)點光刻工藝的核心挑戰(zhàn)與關(guān)鍵技術(shù)突破
    49. FinFET工藝及Flow資料:揭開現(xiàn)代芯片性能飛躍的神秘面紗
    50. 2025-2026年半導(dǎo)體設(shè)備資本開支分別下降20%、5%
    51. 具身智能:接著奏樂,接著舞?
    52. 中國在Mature-Node成熟制程扮演的角色
    53. 永不宕機符

      永不宕機符

      2025-10-21 01:42
    54. LAM:3D NAND 工藝Flow 全彩色圖像版
    55. 2025年更新:士蘭微歷史沿革及現(xiàn)有產(chǎn)能匯總
    56. 安世中國對員工負(fù)責(zé);員工也要只聽國內(nèi)管理團隊指示,共渡難關(guān)
    57. 2025年5月 SEMI對全球半導(dǎo)體晶圓廠資本開支預(yù)測
    58. SK海力士半導(dǎo)體歷史沿革與產(chǎn)能復(fù)盤 (更新至2025年)
    59. IC 載板設(shè)計規(guī)則
    60. 沙利文:全球半導(dǎo)體制造類EDA行業(yè)發(fā)展白皮書
    61. 三星晶圓制造產(chǎn)能統(tǒng)計
    62. 三星半導(dǎo)體代工部門BP
    63. 復(fù)盤三星半導(dǎo)體發(fā)展歷程及產(chǎn)能
    64. 廬州DRAM大廠經(jīng)營情況及上市市值估計
    65. 內(nèi)存閃存銷售額 出貨量預(yù)測
    66. 新凱來采訪視頻匯總

      新凱來采訪視頻匯總

      2025-10-16 00:03
    67. 17種稀土元素在半導(dǎo)體中的應(yīng)用總結(jié)(附2019-2025年中國稀土出口數(shù)據(jù))
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    69. 聲明:鼎泰匠芯(張大佬自己先掏錢建fab,后續(xù)再讓上市公司收購)為安世半導(dǎo)體重要供應(yīng)商,非子公司關(guān)系
    70. 并購安世半導(dǎo)體背后的故事:剝離優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)的背后是利益的互換
    71. 中國大陸晶圓制造中心分布地圖(附下載鏈接)
    72. 新凱來:要給中國半導(dǎo)體一個驚喜
    73. 中國智駕戰(zhàn)力天梯榜(2025年9月,上)
    74. 2025年Q2全球半導(dǎo)體收入TOP25——半導(dǎo)體格局變化趨勢:[PC時代 智能移動終端時代→AI云+移動時代]
    75. #品質(zhì) #商超 #胖東來 #超市管理
    76. 10月7日 應(yīng)用材料Applied Materials推出2nm芯片制造產(chǎn)品,助力人工智能性能大幅提升
    77. 最新全球半導(dǎo)體產(chǎn)能及中國半導(dǎo)體產(chǎn)能預(yù)測
    78. 可控核聚變真的要來了?
    79. 華潤微(華晶)的幕后歷史故事②(連載完結(jié))
    80. 沒有更多了...

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