英特爾前CEO進軍光刻機：打造全新EUV光源，性能提高10倍！

初創(chuàng)公司xLight 是一家專注于芯片光刻技術的企業(yè)，其核心計劃是為極紫外光刻（EUV）設備打造基于自由電子激光器（FEL）的新型光源。與傳統技術路徑不同，該公司將采用粒子加速器產生高能電子束，進而激發(fā)極紫外光子。據稱，這種技術方案的效率將遠超目前主流的激光等離子體（LPP）方案。值得關注的是，這也是美國本土初創(chuàng)企業(yè)首次涉足該細分領域。

英特爾前 CEO 帕特?基辛格（Pat Gelsinger） 離開英特爾后于2025 年 3 月正式加入 xLight 擔任執(zhí)行董事長，2025 年 7 月， xLight 完成 B 輪融資，Gelsinger 以雙重身份 (執(zhí)行董事長 + 投資人) 參與。近日 Gelsinger 更是牽頭促成了美國聯邦激勵資金。

xLight 擬推 FEL 基 EUV 新光源，效率據稱超傳統方案

自特朗普政府執(zhí)政以來，芯片行業(yè)的戰(zhàn)略重要性顯著提升，這也使得該領域備受關注。美國政府一方面推動臺積電等芯片制造商加大在美投資，另一方面也向英特爾等企業(yè)注資，以保障美國技術優(yōu)勢。如今，美國商務部似乎正計劃為有望強化本土芯片制造能力的企業(yè)提供支持——初創(chuàng)公司 xLight 便憑借《芯片與科學法案》（CHIPS Act）獲得了 1.5 億美元聯邦激勵資金。

“重振摩爾定律、重奪美國在光刻光源領域的領導地位，這是一個千載難逢的機遇。在聯邦政府的支持下，xLight 將把機遇轉化為現實。打造一款能效較現有技術提升十倍的高效 EUV 激光器，不僅將開啟摩爾定律的下一個時代、提升晶圓廠產能，更將構建關鍵的本土技術能力。”xLight 董事會執(zhí)行主席帕特?基辛格表示。

光刻領域的專業(yè)玩家本就寥寥無幾，因此該細分賽道涌現的每一家初創(chuàng)公司都會吸引行業(yè)高度關注。另一個典型案例是 Substrate 公司，該公司宣稱將采用更短波長的 X 射線進行芯片圖形化，并獲得了彼得?蒂爾旗下創(chuàng)始人基金（Founders Fund）的投資。而 xLight 則將在奧爾巴尼納米技術園區(qū)（Albany Nanotech Complex）合作伙伴的支持下，全力推進 FEL 基光源的研發(fā)。

不過，xLight 目前仍面臨多重挑戰(zhàn)：即便成功研發(fā)出適用于 EUV 設備的 FEL 光源，仍需與阿斯麥（ASML）現有的 EUV 產品進行集成。這不僅是一項耗資巨大的工程，還可能面臨這家荷蘭光刻機巨頭不愿嘗試 FEL 技術的風險。此外，FEL 光源雖已實現科研級性能，但在高產量制造場景下的實用性仍存在不確定性。

光刻技術無疑是美國芯片行業(yè)的關鍵瓶頸—— 美國本土晶圓廠目前完全依賴阿斯麥的 EUV 設備。xLight 與 Substrate 兩家公司在芯片光刻領域的突破嘗試備受矚目，盡管從紙面規(guī)劃來看，兩家企業(yè)都展現出了十足的信心，但最終能否攻克技術難關、實現產業(yè)化落地，仍有待觀察。

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