初創(chuàng)公司xLight 是一家專注于芯片光刻技術的企業(yè),其核心計劃是為極紫外光刻(EUV)設備打造基于自由電子激光器(FEL)的新型光源。與傳統技術路徑不同,該公司將采用粒子加速器產生高能電子束,進而激發(fā)極紫外光子。據稱,這種技術方案的效率將遠超目前主流的激光等離子體(LPP)方案。值得關注的是,這也是美國本土初創(chuàng)企業(yè)首次涉足該細分領域。
英特爾前 CEO 帕特?基辛格(Pat Gelsinger) 離開英特爾后于2025 年 3 月正式加入 xLight 擔任執(zhí)行董事長,2025 年 7 月, xLight 完成 B 輪融資,Gelsinger 以雙重身份 (執(zhí)行董事長 + 投資人) 參與。近日 Gelsinger 更是牽頭促成了美國聯邦激勵資金。
xLight 擬推 FEL 基 EUV 新光源,效率據稱超傳統方案
自特朗普政府執(zhí)政以來,芯片行業(yè)的戰(zhàn)略重要性顯著提升,這也使得該領域備受關注。美國政府一方面推動臺積電等芯片制造商加大在美投資,另一方面也向英特爾等企業(yè)注資,以保障美國技術優(yōu)勢。如今,美國商務部似乎正計劃為有望強化本土芯片制造能力的企業(yè)提供支持——初創(chuàng)公司 xLight 便憑借《芯片與科學法案》(CHIPS Act)獲得了 1.5 億美元聯邦激勵資金。
“重振摩爾定律、重奪美國在光刻光源領域的領導地位,這是一個千載難逢的機遇。在聯邦政府的支持下,xLight 將把機遇轉化為現實。打造一款能效較現有技術提升十倍的高效 EUV 激光器,不僅將開啟摩爾定律的下一個時代、提升晶圓廠產能,更將構建關鍵的本土技術能力。”xLight 董事會執(zhí)行主席帕特?基辛格表示。
光刻領域的專業(yè)玩家本就寥寥無幾,因此該細分賽道涌現的每一家初創(chuàng)公司都會吸引行業(yè)高度關注。另一個典型案例是 Substrate 公司,該公司宣稱將采用更短波長的 X 射線進行芯片圖形化,并獲得了彼得?蒂爾旗下創(chuàng)始人基金(Founders Fund)的投資。而 xLight 則將在奧爾巴尼納米技術園區(qū)(Albany Nanotech Complex)合作伙伴的支持下,全力推進 FEL 基光源的研發(fā)。
不過,xLight 目前仍面臨多重挑戰(zhàn):即便成功研發(fā)出適用于 EUV 設備的 FEL 光源,仍需與阿斯麥(ASML)現有的 EUV 產品進行集成。這不僅是一項耗資巨大的工程,還可能面臨這家荷蘭光刻機巨頭不愿嘗試 FEL 技術的風險。此外,FEL 光源雖已實現科研級性能,但在高產量制造場景下的實用性仍存在不確定性。
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光刻技術無疑是美國芯片行業(yè)的關鍵瓶頸—— 美國本土晶圓廠目前完全依賴阿斯麥的 EUV 設備。xLight 與 Substrate 兩家公司在芯片光刻領域的突破嘗試備受矚目,盡管從紙面規(guī)劃來看,兩家企業(yè)都展現出了十足的信心,但最終能否攻克技術難關、實現產業(yè)化落地,仍有待觀察。
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