日本工程師：沒有日本光刻膠，中國光刻機就算造出來也是擺設，毫無意義

當今世界，半導體芯片產業被譽為“現代工業的皇冠”，而在這項高精尖技術的制造過程中，有一種看不見、摸不著卻決定勝負的關鍵材料——光刻膠（Photoresist）。沒有它，哪怕再先進的光刻機也如同雕刻家沒有筆墨，無法在硅片上精確刻畫一條條納米級電路。

然而，日本工程師曾直言：“沒有日本光刻膠，中國的光刻機就算造出來也是擺設，毫無作用。”這句話，說出了現實的殘酷與中國產業鏈攻堅的關鍵方向。

光刻膠看似簡單，卻是芯片制造中最關鍵的一環之一。在芯片生產中，光刻工藝負責將電路圖案“印刷”到硅片上，而這一步的核心正是光刻膠在光照下的化學反應與顯影。它決定了電路的精細程度、良率高低和制程水平，也直接關乎芯片性能與成本。

可以說：光刻機負責投影“路線圖”，光刻膠負責記錄與顯影這張圖，兩者缺一不可。

沒有優質光刻膠，再先進的光刻機也無法發揮威力。正如一位日本工程師所說，如果沒有日本的高端光刻膠，中國的光刻機就像“沒有顏料的畫框”——再漂亮，也畫不出圖案。

為什么日本能在光刻膠領域掌握話語權？這是歷史積累、技術沉淀與產業布局共同形成的壟斷地位：據行業分析，日本和美國企業長期主導全球光刻膠市場，其中日本企業占據了約70%以上的市場份額，在先進EUV光刻膠領域的控制率更是高達95%以上。

核心玩家包括：信越化學（Shin-Etsu Chemical）、JSR Corporation、東京應化（Tokyo Ohka Kogyo）、住友化學（Sumitomo Chemical）、富士膠片（Fujifilm）。

這些企業掌握了從樹脂配方、高純溶劑、光敏劑到成膜穩定性等關鍵專利與核心技術，在全球產業鏈中形成了高度集中、不可替代的格局。

光刻膠的研發不像買一臺機器那么簡單，它需要數十年的材料科學積累、無數次試錯和極嚴格的配方控制。日本在材料化學領域的長期投入，使得它在高分子化學與納米級控制技術上占據絕對優勢。

因此一旦國際局勢變化或出口受限，就會立刻反映到全球芯片制造鏈中，尤其是對中國這樣的新興大國來說，這種依賴尤為明顯。

長期以來，中國半導體產業在材料端存在明顯短板。即使近年來國內在光刻機等設備上取得了顯著突破，高端光刻膠仍然主要依賴進口，尤其是日本供應。 業內數據顯示，中國進口的 KrF 和 ArF 光刻膠中，超過90%來源于日本，而更先進的 EUV 光刻膠則幾乎完全依賴日本企業供應。

更令人警醒的是，如果這一供應被切斷，中國半導體生產線的正常運行可能會受到嚴重影響——有業內人士甚至形容這是一種“無米下鍋”的困境。

2025年末，有報道指出日本可能對包括光刻膠在內的關鍵材料對中國實施更嚴格的出口限制措施。 盡管官方尚未明確宣布完全斷供，但多家企業出口量大幅下降、增稅政策出臺等跡象已讓業界警覺：光刻膠供應風險正在真實上升。

如果高端光刻膠供應驟然收緊，中國一些中高端芯片產線的升級、擴產計劃將面臨生產物料短缺、良率下降甚至產能延緩的現實壓力。這也正是那句“沒有日本光刻膠，中國光刻機是擺設”的背后邏輯：光刻機可以自己造，但如果核心材料沒法自給，整個產業鏈依然會被卡脖子。

面對這種壓力，中國半導體材料企業并非坐以待斃，而是在強勁追趕：數據顯示，國內已經涌現出一批光刻膠企業，如彤程新材、南大光電、上海新陽、晶瑞電材、容大感光等，在部分制程的光刻膠領域實現了自主供貨，并在市場上獲得驗證與認可。

其中：南大光電已為中芯國際供應用于28nm邏輯芯片和50nm存儲芯片的光刻膠；上海新陽的高端光刻膠也通過多家芯片制造企業的驗證。

中國科研機構和企業正在加強基礎材料科學研究，并吸引海外人才回流與合作，加快技術積累。同時，制造流程與光刻機技術的同步突破也為國產光刻膠在應用端提供了試驗場。

回過頭看那句話：“沒有日本光刻膠，中國光刻機就是擺設。”它既是警醒，也是動力。這句話揭示了一個產業的底層真相：光刻膠不是“輔助材料”，它是芯片制造的核心基石。日本在高端光刻膠領域長期領先，這種優勢并非偶然。對中國而言，突破這種材料依賴，是邁向科技自立與產業安全的戰略關鍵。

但事情并非無解。中國在光刻膠的研發與產業化上正在取得實質性進展，越來越多國產材料正在投入使用，企業與科研機構在基礎研究與工程化上持續積累。這是一場長期戰，但也是一場關乎國家戰略安全和技術主權的戰斗。

未來能否真正擺脫“沒有米下鍋”的局面，不僅取決于技術突破，更取決于整個產業鏈、政策與市場合力推動的速度。我們相信，中國芯片材料的自立之路正在加速前進。

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