近日,臺灣政治大學教授、評論員賴岳謙在一次訪談中指出,如果中國真的自主研制出先進光刻機,那么就意味著全球光刻機霸主ASML的時代將走向終結。他甚至用美國掃地機器人品牌iRobot的命運做比喻,認為一旦中國在這一核心設備領域實現突破,ASML可能會面臨市場失守甚至倒閉,被其他企業瓜分技術資源的命運。這樣的觀點引發了業界和公眾的熱議。本文將從現實技術、市場格局、產業政策等多個維度,對這一觀點進行深入分析,讓讀者理性理解這場關于中國光刻機與ASML未來競爭的討論。
一、光刻機的戰略地位:為何如此關鍵?
光刻機是制造集成電路(芯片)過程中最核心的裝備之一,其作用相當于“芯片的筆”,能將事關性能和能效的電路圖案準確“寫”到硅晶圓上。尤其是極紫外光刻機(EUV),因其能夠實現7納米及以下先進工藝被視為全球芯片產業的“頂級通行證”。目前,全球幾乎所有最先進芯片制造都依賴荷蘭ASML的EUV設備,而中國因受美國及盟友的出口限制無法購買這些先進設備。
這也是為何賴岳謙及許多觀察者會強調一旦中國實現先進光刻機突破,就可能重塑全球芯片制造格局的原因。
二、中國光刻機的現狀:從追趕到突破邊緣?
1. 從追趕到自主研發的階段性成果
長期以來,中國光刻機技術主要集中在成熟制程設備和中低端市場,但在EUV領域高度依賴進口。過去幾年,中國政府和企業投入巨量資源攻堅光刻機技術,并在多個方向展開努力:
國內研究團隊通過激光放電等離子體(LDP)等技術路線嘗試替代ASML的激光產生等離子體(LPP)技術,希望為EUV光源尋找新的突破方向。
多家企業與科研院所在DUV(深紫外光刻機)及相關關鍵部件上取得進展,部分型號已用于成熟工藝生產。
引發關注的是,中國官方和行業內部報道稱已在深圳等地建成原型EUV機器,目標實現芯片生產能力。據路透等媒體報道,這個項目類似國家級“曼哈頓計劃”,由華為等企業牽頭,已有前ASML工程師參與開發。
這些成果表明,中國光刻機研發已從長期跟隨階段向嘗試沖擊先進工藝邁進,盡管距離成熟商業化仍有顯著差距。
三、ASML的現實優勢與對中國的態度
1. 穩固的技術壁壘
ASML之所以能夠長期保持領先,是因為其在EUV光學、機械精密和軟件控制等多個領域積累了深厚的技術能力。據公開資料顯示,ASML及其合作伙伴蔡司已經擁有上千項相關專利,這些專利形成了極高的技術門檻。
同時,ASML并不只是賣設備,它構建了一個由全球供應商緊密配合的高端生產和服務生態,這使得單純模仿變得極其困難。
2. 現實中的市場表現與戰略
即使在出口受限的背景下,ASML在全球市場整體仍表現穩健。2025年公司仍保持營收增長并獲得大量訂單,尤其在先進邏輯和存儲領域需求旺盛。
此外,ASML還嘗試在中國市場培養技術人才與合作關系,例如通過舉辦科研類活動來發掘本地工程師,表明其并未將中國市場完全視為對立方。
這些現實狀況都顯示ASML并非馬上面臨“倒閉危機”。
四、中國產業政策與全球分工格局的變化
中國官方持續推動半導體自主可控戰略的重要節點政策近期也引起關注。例如,據報道,中國要求新建或擴產的芯片制造項目至少使用50%國產設備,這一政策正逐步推動國內廠商替代國外供應商。
同時,國內光刻機企業并非單一路線,而是在低端、中端和嘗試高端三條技術線并行發展,這種多元化嘗試旨在規避單一技術路線受制于人的風險。
五、分析與結論:倒閉?還是競爭格局演變?
回到賴岳謙的觀點,他提出一個極端假設——中國一旦完全掌握先進光刻機技術,ASML可能像iRobot一樣因失去市場而倒閉。這個比喻有其啟發性,但從現實產業技術與市場格局來看,是一種情緒化的極端推斷:
技術突破不等于立刻替代:中國目前在EUV領域的原型機和研發成果十分值得關注,但距離成熟、穩定、可量產的技術路線仍需時間驗證,更無法在短期內全面取代ASML在高端市場的核心地位。
市場競爭不是“零和游戲”:全球光刻機市場巨大,從成熟制程、中端市場到未來更先進光學設備,都有不同層次的需求。即便中國光刻機最終能在某些領域趕上或領先,這更可能是市場分工的重新劃分,而不是單一競爭對手的“倒閉”。
國際貿易與政策仍深度影響行業結構:包括出口管制、國內采購政策等都將在未來很長時間繼續影響行業演進。
因此,與其說ASML會倒閉,不如認為全球光刻機市場有可能會迎來更多玩家與更多路線的競爭,中國企業的進步必將促使整個行業加速創新和重塑競爭格局,而不是單純“淘汰一家公司”。
無論是評論員的觀點還是市場的討論,都反映出一個現實:光刻機不僅是技術設備,更是全球科技競爭的重要象征。
對于中國而言,掌握先進光刻機技術無疑是產業自主化的關鍵一步,對ASML而言,應對更多競爭力量既是挑戰也是激發創新的動力。
最終,技術發展從未由單一力量決定,而是由市場、創新、政策以及國際合作、多方競爭共同塑造。
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