荷蘭議員叫囂：ASML不給光刻機，中國連10nm都做不到，他們離先進制造永遠只剩“一步之遙”！

“只要ASML不向中國出售先進光刻機，中國連10nm都做不到，中國的先進制造永遠差一步。”話不長，但味道很沖。聽起來很自信，但問題是，這套邏輯，真的還站得住嗎？

先說句實話，這位荷蘭議員并不是完全胡說。

在EUV光刻機這個單點技術上，中國確實還沒有實現量產級突破；在7nm以下的穩定大規模制造能力上，中國確實受制于設備、材料、EDA等多重限制。ASML手里捏著EUV，這一點沒錯；先進制程的“最后一把鑰匙”，目前仍在西方體系中，這一點也沒錯。但問題在于——他把“光刻機 = 全部先進制造能力”這個等號畫得太滿了。

這，恰恰暴露了西方對中國半導體認知的最大誤判。

在西方的想象中，芯片制造像一條直線：沒有EUV → 沒有7nm → 沒有先進芯片 → 中國永遠卡死。但真正做過制造的人都知道，晶圓廠從來不是“單點突破”的游戲。今天的先進制造，至少包括四個維度：1.工藝路徑是否只有一條？2.系統整合能力能否彌補設備短板？3.良率、穩定性、成本是否可控？4.能否服務真實產業需求？

而恰恰在這些地方，中國正在發生變化。

西方盯著的是“你有沒有EUV”；中國真正推進的，是“我能不能把體系跑通”。過去幾年，中國在三個方向上的進展，已經讓“10nm都做不到”的說法顯得相當刺耳。

第一：非EUV工藝路線被驗證

多重曝光、工藝疊加、設計協同優化——這些在學術論文里被認為“成本太高、不優雅”的方案，在中國，被拿來當工程問題認真解決。結果是什么？不是理論突破，而是制造可行。你可以不喜歡這種“土辦法”，但它確實在把制程節點往前推。

第二：不是“不能做”，而是“怎么做更劃算”

西方常用一個話術：“中國做出來也沒意義，良率低、成本高。”聽起來很專業，但這句話本身就暴露了視角差異。中國半導體目前解決的核心問題不是極限性能，而是規模可用性。只要能在可接受成本下，滿足通信、計算、AI推理、工業控制等需求，“是否全球最先進”，反而是第二位的。制造能力，從來不是炫技，而是服務產業。

第三：真正的進步發生在“系統工程”里

這幾年，中國在做一件西方沒預料到的事：把設備、材料、工藝、設計、封裝，拉到一個協同體系里。你不給最好的設備？那我就把國產設備+工藝窗口+設計規則一起優化。這不是替代EUV，這是繞開單點依賴。而這，恰恰是西方“卡脖子”邏輯最怕的一種進化路徑。

四、當然，中國的問題依然很現實

說到這里，必須把話說清楚。中國半導體，絕不是已經贏了。以下幾個現實約束，任何一個都繞不開：EUV級設備仍是空白、高端EDA、部分材料仍高度依賴進口、制程穩定性與一致性仍有差距、先進節點的大規模良率控制，難度極高。

這些問題，不會因為一兩次“做出來了”就自動消失。但問題在于——這些是“追趕中的困難”，不是“永遠做不到的證據”。

類似的話，西方已經說了很多年：“中國永遠造不出高端機床”、“中國芯片只能停留在28nm”、“中國材料只能低端內卷”。

結果呢？每一次，中國確實慢；但每一次，中國都沒有停。所謂“只差一步”，往往是旁觀者站在終點說的話。而真正走路的人，從來不看你嘴里那一步。

ASML很重要，EUV很關鍵，這些都沒問題。但把整個中國半導體，簡化成“有沒有一臺光刻機”，本身就是一種傲慢。中國今天的先進制造，不是一蹴而就的奇跡，而是一條并不優雅、但持續前進的工程路徑。而歷史真正殘酷的地方在于：一步一步走的人，往往最不容易被攔住。

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